纳米压印系统
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NX-3000

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核心参数
Nanonex由纳米压印领域先行者、普林斯顿大学周郁教授(Prof. Stephen Y. Chou)于1999年创立,其核心技术为周教授的研究团队历时八年、花费数百万美元科研经费完成的专利技术,随后Nanonex经过自身的研发迅速地将纳米压印设备推向市场,如今Nanonex产品已广泛地被科研与工业界所接受。现在除了Nanonex自身不断发展的技术以外,周教授的研究团队仍在不断地开发出新技术并专属地提供给Nanonex公司。目前Nanonex的研发团队不仅包括来自工业界的经验丰富的技术人员,也有纳米压印技术和应用方面的专家。
 
经过多年的发展,Nanonex不断地将使用方便的设备和解决方案推广到微纳加工领域,包括纳米压印设备、纳米压印胶、模板以及处理方法等。

Nanonex纳米压印设备利用专利的气垫软压技术(Air Cushion PressTM,ACPTM)可最大限度地保证纳米压印均匀度,除此之外还可完成高通量、低于10 nm的结构以及低成本的纳米压印。

NX-3000 –可进行光学对准及步进重复纳米压印机
低于1 um的光学对准精度
增强的气垫软压技术可实现整个基片纳米压印均匀性
整合滴胶分散系统
每一压印区域小于70秒的纳米压印时间
最大8″晶圆
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