普发真空携多款解决方案亮相SEMICON China 2021

2021年 3月17日，上海——为期3天的全球半导体年度盛会SEMICON China 2021在上海隆重开幕，作为全球真空技术和泄漏检测解决方案的供应商之一，普发真空在展会上亮相了其在半导体以及其他先进制造业和科研领域的整体解决方案。

半导体器件的生产离不开洁净的真空环境。普发真空在展会现场展示了其明星产品，包括ASM 392检漏仪、A 3004多级罗茨泵、A 200L多级罗茨泵以及HiPace 2300涡轮分子泵，与全球半导体领域的友商及媒体朋友们深度交流，共同探讨普发真空如何在中国助力未来半导体行业发展。

普发真空展台

普发真空总经理Julien Valentin表示：“尽管受到新冠疫情的影响，中国的半导体行业仍呈现出逆势增长趋势。中国市场位列普发真空增长战略支柱之一，成为促进我们全球业务发展的强劲动力。未来，我们将继续因地制宜，持续深耕中国市场，更好地服务本土客户，推动中国第三代半导体产业腾飞。”

节能高效灵敏，满足严苛的半导体制造应用

半导体和平板显示器行业对于真空生产环境要求极为严苛，这些应用要求真空仪器具备快速的抽空时间和高灵敏度。 普发真空的ASM 392检漏仪无与伦比的灵敏度和精确度恰好能够满足这一需求。除了检漏仪都会配备的干式非接触式前级真空泵和高真空涡轮分子泵之外，它装有一台额外的涡轮分子泵，能缩短泄漏检测时间，同时不会在尺寸和可操作性方面有任何妥协，人机工学设计独特，可操作性强，可用于各种测试场地，即使狭小的空间也应对自如，这都使其成为清洁环境下各种组件泄漏测试的理想工具。

对于半导体晶圆、显示屏及太阳能电池等严苛型应用，普发真空展示了A 3004多级罗茨泵。它的抽速高达3,000 m³/h，工艺寿命延长，能耗降低，是市场上运营维护成本最低的产品之一。除此以外，该系列泵还配备了一个扩展的温度管理，扩大了工作温度范围，提高了工艺可靠性。

高能效A 3004多级罗茨泵，抽速可达3000m³/h。

作为能适应高吞吐量应用和频繁抽空循环的全新 200 m³/h 级别产品，A 200L多级罗茨泵更是展示出了普发真空在集成干式泵市场中的全球领导地位。A 100 L泵对于半导体行业生产设施的泵集成有革命性的意义——这种泵以干式多级罗茨泵技术为基础，尽管尺寸小，却依然具有高抽速和短抽空时间。如今，普发真空A 200系列在全世界范围内众多300 mm半导体晶圆工厂都已安装。

此外，普发真空还重点展示了能够应用于侵蚀性气体环境的HiPace 2300涡轮分子泵。这款紧凑且性能卓越的涡轮分子泵具有高性价比和安装角度的灵活性，革命性的转子设计为其带来更出色的抽速，更好的前级泵兼容性和更大的气流量，对于小分子气体具有更高的压缩比。

紧凑的复合轴承HiPace 2300涡轮分子泵。

普发真空高度重视半导体领域的业务发展。2019年在无锡扩建的新工厂更是增加了干泵生产、全新泄漏测试系统ATC的生产以及泵站组装等业务能力，更好服务中国本土客户需求的同时，还能够促进公司在真空镀膜、半导体等市场的战略增长。

自1890年创立以来，普发真空不断树立真空技术的新标准，并通过持续开发创新成果并成功推向市场，帮助科学界与工业界从中受益。未来，普发真空期盼以创造出最先进的真空技术解决方案作为源动力，以最高标准要求自身，不断地创新，为中国客户提供更丰富的灵感和更多样的产品组合。