王道元董事长受邀拜访日本R-DEC公司社长佐佐木先生

王道元董事长受邀拜访日本R-DEC公司社长佐佐木先生
近日王道元董事长受佐佐木社长邀请拜访了日本R-DEC公司总部.双方就TDS,RHEED,MBE等进行了长时间交流.希望进一步加强中日高科技研究设备方面的全面合作.
日本R-DEC公司创建于1988年,公司总部设于日本科技城筑波市。公司创立以来，业务迅速发展，由创设当初的设备销售商发展为集生产开发，软件集成的综合型研究设备开发供应商。经过二十余年的努力与发展，旗下拥有一系列专业而完整的产品线。产品用户已经涵盖日本相关领域的各主要科研机关，大学及企业。成为日本业界最具信赖的真空设备为主导产品的供应商之一。
该公司除了推出世界上独此一家的专门用于研究氢脆的测氢装置TDS和可以用于监控有机物薄膜结晶状态的PICO-RHEED以外,最近又推出性能优良小型MBE装置.
继TDS,RHEED相继成为深受中国客户欢迎的产品外,希望有更多客户关注该公司的MBE装置.其最大特点是性价比高,成膜再现性非常高.该公司生产MBE装置历史悠久,已经拥有超过300多用户.相信该小型MBE装置的推出将为我国客户材料研究学者提供一个良好的合作机会.参见如下照片和参数.
 

日本R-DEC公司小型MBE装置
特点
1. 适用于半导体薄膜生长，太阳能电池用薄膜生长的研究开发领域。
2.利用超高真空技术，为用户的薄膜生长提供最优越的环境。
3.进样室搭载磁悬浮型分子泵以及滚动泵，可以在不破坏真空环境的条件下实现衬底的传送。
4..提供丰富可组件选择，可根据研究开发的要求自由搭配组合，实现高精度原位分析的小型MBE系统
技术规格

1. 关于生长室(极高真空对应脱气处理)

蒸发源端口	8 端口
衬底尺寸	～3inch (付衬底旋转功能) *衬底加热/冷却可选功能
生长室到达真空度	10-9Pa级
生长室排气系统	付离子泵 /分子泵 *液氮屏蔽罩可选功能

 
 
 
 
 

2. 关于传样室（小巧角形腔体）

衬底传送	超高真空传送装置
传样室排气系统	300l/s 磁悬浮型分子泵/滚动泵

3. 关于蒸发源 （可选组件）

努森池蒸发源 (高温源/SUMO源/阀式裂解源)

电子束蒸发源

离子源

4. 关于原位解析 (可选组件)

RHEED装置 + kSA400解析系统

高精度实时温度监控系统 BandiT

原位薄膜应力计 MOS

                             日本R-DEC公司的测氢仪
钢铁研究总院和中国一重于2009年,2012年分别导入
特点, 世界唯一, 真实大样品可测（如高强螺栓等）,可精确测出从室温到1000℃条件下的氢放出量,对研究氢脆和腐蚀非常重要,精度达到0.01PPM
 
日本R-DEC公司反射高能电子衍射仪
陕西师范大学千人计划获得者刘生忠教授首次成套购买RHEED+KSA400F
RHEED是观察晶体生长最重要的实时监测工具。它可以通过非常小的掠射角将能量为10～30KeV的单能电子掠射到晶体表面，通过衍射斑点获得薄膜厚度，组分以及晶体生长机制等重要信息。因此反射高能电子衍射仪已成为MBE系统中监测薄膜表面形貌的一种标准化技术。
　　R-DEC公司生产的反射式高能电子衍射仪，以便于操作者使用的人性化设计，稳定性和耐久性以
及拥有高亮度的衍射斑点等特长得到日本国内及海外各研究机构的一致好评和认可。
特长
◆可远程控制调节电压，束流强度，聚焦位置以及光束偏转
◆带有安全闭锁装置
◆镍铁高导磁合金磁屏蔽罩
◆拥有高亮度衍射斑点
◆电子枪内表面经特殊处理，能实现极低放气率
◆经久耐用，稳定可靠
◆符合欧盟RoHS指令
世界上首次推出低电流反射高能电子衍射仪PICO-RHEED
PICO-RHEED（Low Emission Reflection High-Energy Electron Diffraction）是利用微通道板技术，大幅减少对样品损伤的同时，并且保证明亮反射电子衍射图像的新一代低电流反射高能电子衍射仪。可以用于有机薄膜材料等结晶结构的分析研究。
特长
◆大幅度减少电子束对样品的损伤
（相当于普通RHEED的1/500-1/2800）
◆带有安全闭锁装置
◆搭载高亮度微通道板荧光屏
◆可搭载差动抽气系统
◆kSA400 RHEED分析系统兼容
◆符合欧盟RoHS指令