华海清科“集成电路化学机械抛光关键技术与装备” 项目荣获国家技术发明一等奖

2024年6月24日，中共中央、国务院在北京隆重举行国家科学技术奖励大会。由清华大学、华海清科股份有限公司共同完成的“集成电路化学机械抛光关键技术与装备”项目获2023年度国家科学技术奖国家技术发明一等奖，华海清科董事长、首席科学家路新春作为项目第一完成人获得2023年度国家技术发明奖一等奖证书。

集成电路装备是IC产业的重要支撑，是保障集成电路产业安全的基础。化学机械抛光（CMP）是先进集成电路制造前道工序、先进封装等环节必需的关键制程工艺，公司以清华大学科技成果转化的CMP技术成果为基础，进行CMP装备产业化应用的核心技术研发，率先推出国内首台拥有自主知识产权12英寸CMP装备，快速实现国内市场CMP装备领域的国产替代。同时，CMP装备作为集成电路制造五大关键装备之一，在产业链中不可或缺，其核心技术的自主可控至关重要。该项目面向国家重大战略需求，通过技术创新解决了CMP核心“卡脖子”难题，形成自主技术体系，成功实现整机全面应用与产业化，推出多款CMP商业化机型，并依托稳定的性能和良好的售后服务优势，批量进入行业知名芯片制造企业，国内市场占有率达到较高水平，打破了国际巨头在此领域数十年的垄断，支撑未来高端芯片自主可控发展。

国家技术发明奖是我国在科学技术领域的最高奖项之一。本次获奖，即是对公司核心研发团队在CMP领域技术创新成果的充分肯定，也是对公司长期推动CMP装备国产化的高度褒奖。