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公司简介
资质荣誉
电镜附件及外设TEM cube样品杆清洁储存站
TPX3Cam用于纳秒光子时间戳的高速光学相机
LynX T3 or M3光子计数型相机_X射线探测器
CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)
EM-KLEEN电镜腔室清洁等离子体表面处理仪
多功能TEM样品杆清洁仪等离子体表面处理仪
Tergeo系列刻蚀灰化仪_等离子体表面处理仪
AUTOSAMDRI-931触摸屏全自动临界点干燥仪
ACCUR2000型倒置显微镜电动扫描位移台
ACCUR系列显微图像分析专用电动样品台
美国PIE等离子清洗仪
电镜制样设备CCU-010 HV_CT高真空碳蒸镀仪
内铠装微波/射频同轴组件
双面铜导电胶带(电镜耗材)
碳绳(电镜耗材)
进口铜网镍网钼网(电镜耗材)
碳棒
碳导电胶带(电镜耗材)
HFV-7501高真空硅脂(密封脂)电镜耗材
HFV-A100机械真空泵油
荷兰Micro to Nano(简称M2N)电镜耗材
电子束曝光(EBL)阻剂/光刻胶
M2N(微纳伙伴) 样品台(夹) 样品台
M2N(微纳伙伴) 样品台(电镜用) 样品台
可溯源的透射电镜校准标样
德国皇家化学光试剂盒(医检科研级)
美国Tousimis洁净室用临界点干燥仪(CPD,又称超临界干燥)综合样本
美国Tousimis临界点干燥仪(CPD)产品分为非洁净室版本和洁净室版本两大类,前者常用于电镜制样,后者多用于超净间内的材料研究用途。 洁净室版本共有9个型号:Autosamdri-815 Series B全自动临界点干燥仪可用于裸片和1”晶圆;Autosamdri-815B Series B全自动临界点干燥仪可用于4”晶圆;Automegasamdri-915B Series B全自动临界点干燥仪可用于6”晶圆;Autosamdri-931_1.25"、Autosamdri-931_2.50"、Autosamdri-931_3.40"多用途触摸屏全自动临界点干燥仪;Autosamdri-934触摸屏全自动C系列临界点干燥仪可用于4”晶圆;Automegasamdri-936、938触摸屏全自动C系列临界点干燥仪分别用于 6”和8”晶圆。 美国Tousimis CPD广泛用于含水生物样品,凝胶、3D打印等具有精细微纳结构的脆弱复杂样品,MEMS、MOF、碳纳米管、石墨烯、晶圆(最大样品8英寸,一次同时干燥5片)等材料类样品及EBL制程的临界点干燥。
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2024-06-27
美国Tousimis SEM用途的临界点干燥仪(CPD,又称超临界干燥)综合样本
美国Tousimis临界点干燥仪(CPD)产品分为非洁净室版本和洁净室版本两大类,前者常用于电镜制样,后者多用于超净间内的材料研究用途。 非洁净室版本共有7个型号:Samdri-PVT-3D手动临界点干燥仪;Samdri-795半自动临界点干燥仪;Autosamdri-815 Series A全自动临界点干燥仪;Autosamdri-815B Series A全自动临界点干燥仪;Autosamdri-931_1.25"、 Autosamdri-931_2.50"、Autosamdri-931_3.40"触摸屏数字控制全自动临界点干燥仪。 美国Tousimis CPD广泛用于含水生物样品,凝胶、3D打印等具有精细微纳结构的脆弱复杂样品,MEMS、MOF、碳纳米管、石墨烯、晶圆(最大样品8英寸,一次同时干燥5片)等材料类样品及EBL制程的临界点干燥。
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瑞士Safematic真空镀膜仪(喷金喷碳仪)中文样本
瑞士Safematic镀膜仪分为低真空和高真空两个版本,型号分别是CCU-010 LV和CCU-010 HV;均采用插入式设计,通过更换和选用镀膜头就可轻松配置为磁控离子溅射、热蒸发镀碳或两者一体化镀膜设备;都标配FTM装置;CCU-010 HV标配内置分子泵和无油隔膜泵的高真空度系统;CCU-010 LV后期可升级为HV版本。 1. 溅射头:SP-010常规溅射头和SP-011高效溅射头。对于C、Fe(磁性)等“困难”靶材,推荐HV+SP-011。 2. 镀碳头:CT-010镀碳头,适合SEM、TEM和任何需高质量碳膜的应用场合。它具有欧洲专利的自动进给系统,可进行数十次镀膜而无需破真空更换碳源,一次真空下可控沉积几乎任何厚度的优质碳膜。 3. 辉光放电:GD-010模块装在CT-010镀碳头上,可对碳膜进行亲水化处理。亦可作为辉光放电仪,用于冷冻电镜载网亲水等处理。 4. 等离子刻蚀:ET-010模块可在镀膜前先对样品进行等离子清洁刻蚀处理,增加成膜附着力;亦可在镀膜后进行刻蚀处理,以便去除膜层或进一步清洁。 5. 远程控制软件:RC-010基于win的远程控制软件,用于手套箱等。
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临界点干燥改善石墨烯场效应晶体管的电传输特性
本文介绍了临界点干燥(CPD)技术的新应用案例:利用超临界CO2作为清洗步骤,用于在氧化硅(Si)基片上微加工的石墨烯场效应晶体管(GFETs),结果表明场效应迁移率增加,杂质掺杂减少。研究显示:通过CPD处理后,石墨烯转移过程和设备微加工后残留的聚合物显著减少。此外,CPD有效去除环境中的水分等吸附物,从而减少GFETs中不希望出现的P型掺杂现象。作者建议将CPD技术应用于基于二维材料的电子、光电和光子器件,以在洁净室微加工后和常温存储后恢复其本征特性。在实验研究中,作者使用了美国Tousimis出品的autosamdri-815型自动临界点干燥仪对GFETs 进行CPD处理,有效地清除GFETs表面的聚合物残留和吸附水分,从而显著改善其电传输特性;AFM和XPS等实验数据证明这是一种简单且环保的后处理解决方案。CPD工艺参数等详情,请阅读和参考该论文。
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ASI光子计数型X射线混合像素探测器
ASI公司出品的 LynX系列X射线探测器为混合像素区域探测器,像素尺寸55µm,在每个512×512(262K) 像素点中,LynX探测器具有卓越的辨别或测量X射线的能力。其中LynX 120型探测器是基于Timepix ASIC芯片的一款多功能光子计数型探测器,每个像素要么计数被检测事件,测量沉积在像素中的能量值(计数模式),要么测量探测光子的到达时间(TOA和TOT模式),读出速率高达120帧/秒。基于Medipix3RX的LynX 1300型,可记录高达1300帧/ 秒的信号,死时间为零。此外,还可提供基于Medipix3RX但带有110µM凸块接合(bump-bonds球)的LynX 1300s型等。主要应用:相衬成像(ptychography,光栅干涉);扫描SAXS / WAXS成像,小角X射线散射;表面衍射;时间分辨实验;X射线和医学成像;大分子晶体学;断层摄影术;能量分辨X射线;计算机断层扫描;快速生产线X射线检查;电子显微镜;质谱仪等科研领域。总有一款适合您的X射线检测和成像应用,欢迎选购!
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2017-09-24
英国EM R公司出品的PMMA系列光刻胶技术资料(1%-17%电子束曝光阻剂)
Made in UK, 英国EM Resist Ltd出品的光刻胶(1%-17% PMMA、SML系列电子束曝光阻剂),PMMA是常用的普通正阻剂;SML系列阻剂是高分辨率高深宽比的正阻剂。高档的SML正阻剂特点:无需邻近效应校正,低加速电压下也能使用,可提高EBL设备能力并制作出传统PMMA做不出来的新颖微纳器件,特别适合科研应用;有SML50、SML100、SML300、SML600、SML1000、SML2000等系列型号(数字表示光刻胶涂布厚度)。(www.tansi.com.cn).
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2014-05-29
南京覃思科技有限公司
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公司名称: 南京覃思科技有限公司
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镀膜机 扫描电镜(SEM) 透射电子显微镜(透射电镜、TEM) 电镜附件及外设 离子溅射仪 等离子体表面处理仪 涂覆机 离心机、实验室离心机 凝胶净化系统(GPC) 其它纯化设备 浓缩仪 临界点干燥仪 真空泵 涂布机 X射线探测装置 电化学发光检测仪 电镜制样设备 聚焦离子束显微镜 扫描透射电子显微镜 显微图像分析系统 位移台 光学平台 CCD相机/影像CCD CMOS相机 标本成像设备 图像粒度粒形分析仪 扭转试验机、弯曲试验机 拉力试验机 其它试验机 孔径/隙度分析仪 X射线探伤仪及加速器 工业CT 视觉检测 超声波清洗器 PCR 核酸纯化系统/核酸提取仪 酶标仪/微孔板读板机 蛋白印迹仪 电泳仪及配套设备 凝胶成像系统 细胞分离/提取仪 过滤器、超滤、微滤系统 食品安全快速检测仪 灰熔点测定仪、灰熔融性测定仪 其他测试系统 真空计 其它工业颗粒度仪 仪器安装调试 仪器维修保养 产品培训 技术咨询 数据处理 工作站及软件 CT 固定式X摄像摄影系统 X射线骨密度仪 物理气相沉积设备 探针台 无掩模光刻机/直写光刻机 电子束曝光机 等离子体刻蚀设备 半导体行业专用软件 镊子/夹子 其他金相耗材 干燥器 真空油脂 其他耗材 载玻片 盖玻片 包埋盒 试剂盒 其他生物耗材 防静电手套 光栅 导电胶 载网染色 靶材 包埋板 电镜光阑 AFM探针 薄膜窗格 样品盒 电镜灯丝 其他电镜配件 载网 支持膜 储存盒 样品台 高弹膜盒 泵油 离子源 衍射仪标样 拉伸夹具 探针 PCR试剂 ELISA试剂盒 生物分子 分析仪器用试剂 钢铁标准物质/标准品 地质、矿产标准物质/标准品 有色金属标准物质/标准品 仪器鉴定用标准物质/标准品 物理及物理化学性质标准物质/标准品 其它标准物质/标准品
美国PIE Scientific LLC公司 美国JC Nabity公司(NPGS电子束曝光系统) 加拿大KAImaging
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