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核心参数
仪器种类： 进口等离子清洗器
射频频率： 13.56MHz
功率： 200W
设备尺寸： 43*33*22
样品腔容积： 无
样品腔材质： 无
工作气体： 空气
控制方式： 自动
Microwave Plasma： no
underfill plasma： no
wafer plasma： no
美国PIE Scientific LLC公司出品的SEMI-KLEEN 等离子清洗仪, 采用低压清洗技术，可清洗各种类型电子或者离子显微镜，深紫外光刻机，电子光刻系统等真空仪器。
本仪器由一个LCD触摸屏控制器和一个远程射频（RF）等离子源组成，远程等离子源通过一个KF40真空法兰连接到待清洗真空室，有转接法兰提供。主要用于清洗各种扫描电镜(SEM)，透射电镜(TEM)，聚焦离子系统(FIB)，离子显微镜(HIM)等真空系统中碳氢及其他污染。同时清洗真空腔体和样品。(详情请咨询PIE中国代理南京覃思科技有限公司)
一. 特有功能
1. 优越的等离子技术，可以在小于0.1毫托的气压下点火并且保持稳定的等离子体。非常低工作气压比其他同类产品低10到100倍。低气压清洗速度非常快，非常均匀，对电子枪和分子泵非常安全；
2. 即时等离子起辉技术。不用像在其他同类产品上那样担心等离子是不是成功起辉；
3. 带气压计的自动气体流量控制；
4. 实时测量等离子强度，用户可以根据这个实时反馈来优化清洗配方；
5. 自动射频匹配实时保证非常优化射频耦合，即使用户调节清洗配方；
6. 专有保护的双层颗粒过滤器设计保证我们的产品满足Intel，台积电，三星等半导体用户的严格颗粒污染要求；
7. 带LCD触摸屏的直观操作界面；
8. 微电脑控制器带可修改的智能清洗计划，设好就自动清洗您的系统；
9. 支持清洗配方，一键开始，自动射频匹配，自动控制气体流量；
10. 微电脑控制器可记录所有信息状态，便于系统维护。
二. 技术指标
1. 等离子源真空接口：NW/KF40 法兰; 提供转接法兰；
2. 标配等离子强度传感器；
3. 等离子源非常低点火起辉气压：<0.1毫托；
4. 等离子源非常高工作气压：>1.0 托；
5. 漏气率：<0.005sccm；
6. 射频输出：0~100瓦，连续可调节；
7. 具有射频自动匹配功能
8. 电源和功率：110V/220V, 50/60 Hz, 200 瓦
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企业名称
南京覃思科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司(自然人投资或控股)
信用代码
913201067594581806
成立日期
2004-03-12
注册资本
500万元整
经营范围
电子光学仪器、光学仪器、分析仪器、测量仪器、仪器仪表研发及销售;计算机系统集成;计算机软硬件、工业自动化系统设计、安装、调试及技术服务;仪器仪表设备维修及销售;化工产品、耗材、建筑材料、环保设备、五金交电、办公设备、机电产品、日用百货销售;自营和代理各类商品及技术的进出口业务(国家限定企业经营或禁止进出口商品和技术的除外)。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)
南京覃思科技有限公司
公司地址
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