核心参数
压力测量范围: 0-2000psi
温度测量范围: -30°C to 60°C
Tousimis临界点干燥仪815/815B Series A的工作原理介绍
临界点干燥仪815/815B Series A的使用方法?
Tousimis815/815B Series A多少钱一台?
临界点干燥仪815/815B Series A可以检测什么?
临界点干燥仪815/815B Series A使用的注意事项?
Tousimis815/815B Series A的说明书有吗?
Tousimis临界点干燥仪815/815B Series A的操作规程有吗?
Tousimis临界点干燥仪815/815B Series A报价含票含运吗?
Tousimis815/815B Series A有现货吗?
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美国Tousimis SEM用途的临界点干燥仪(CPD,又称超临界干燥)综合样本
美国Tousimis临界点干燥仪(CPD)产品分为非洁净室版本和洁净室版本两大类,前者常用于电镜制样,后者多用于超净间内的材料研究用途。 非洁净室版本共有7个型号:Samdri-PVT-3D手动临界点干燥仪;Samdri-795半自动临界点干燥仪;Autosamdri-815 Series A全自动临界点干燥仪;Autosamdri-815B Series A全自动临界点干燥仪;Autosamdri-931_1.25"、 Autosamdri-931_2.50"、Autosamdri-931_3.40"触摸屏数字控制全自动临界点干燥仪。 美国Tousimis CPD广泛用于含水生物样品,凝胶、3D打印等具有精细微纳结构的脆弱复杂样品,MEMS、MOF、碳纳米管、石墨烯、晶圆(最大样品8英寸,一次同时干燥5片)等材料类样品及EBL制程的临界点干燥。
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2024/06/27
临界点干燥改善石墨烯场效应晶体管的电传输特性
本文介绍了临界点干燥(CPD)技术的新应用案例:利用超临界CO2作为清洗步骤,用于在氧化硅(Si)基片上微加工的石墨烯场效应晶体管(GFETs),结果表明场效应迁移率增加,杂质掺杂减少。研究显示:通过CPD处理后,石墨烯转移过程和设备微加工后残留的聚合物显著减少。此外,CPD有效去除环境中的水分等吸附物,从而减少GFETs中不希望出现的P型掺杂现象。作者建议将CPD技术应用于基于二维材料的电子、光电和光子器件,以在洁净室微加工后和常温存储后恢复其本征特性。在实验研究中,作者使用了美国Tousimis出品的autosamdri-815型自动临界点干燥仪对GFETs 进行CPD处理,有效地清除GFETs表面的聚合物残留和吸附水分,从而显著改善其电传输特性;AFM和XPS等实验数据证明这是一种简单且环保的后处理解决方案。CPD工艺参数等详情,请阅读和参考该论文。
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2024/06/27
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