英国EM R公司出品的PMMA系列光刻胶技术资料（1%-17%电子束曝光阻剂）

美国Tousimis洁净室用临界点干燥仪(CPD,又称超临界干燥)综合样本

美国Tousimis临界点干燥仪（CPD）产品分为非洁净室版本和洁净室版本两大类，前者常用于电镜制样，后者多用于超净间内的材料研究用途。 洁净室版本共有9个型号：Autosamdri-815 Series B全自动临界点干燥仪可用于裸片和1”晶圆；Autosamdri-815B Series B全自动临界点干燥仪可用于4”晶圆；Automegasamdri-915B Series B全自动临界点干燥仪可用于6”晶圆；Autosamdri-931_1.25"、Autosamdri-931_2.50"、Autosamdri-931_3.40"多用途触摸屏全自动临界点干燥仪；Autosamdri-934触摸屏全自动C系列临界点干燥仪可用于4”晶圆；Automegasamdri-936、938触摸屏全自动C系列临界点干燥仪分别用于 6”和8”晶圆。 美国Tousimis CPD广泛用于含水生物样品，凝胶、3D打印等具有精细微纳结构的脆弱复杂样品，MEMS、MOF、碳纳米管、石墨烯、晶圆(最大样品8英寸，一次同时干燥5片)等材料类样品及EBL制程的临界点干燥。

美国Tousimis SEM用途的临界点干燥仪(CPD,又称超临界干燥)综合样本

美国Tousimis临界点干燥仪（CPD）产品分为非洁净室版本和洁净室版本两大类，前者常用于电镜制样，后者多用于超净间内的材料研究用途。 非洁净室版本共有7个型号：Samdri-PVT-3D手动临界点干燥仪；Samdri-795半自动临界点干燥仪；Autosamdri-815 Series A全自动临界点干燥仪；Autosamdri-815B Series A全自动临界点干燥仪；Autosamdri-931_1.25"、 Autosamdri-931_2.50"、Autosamdri-931_3.40"触摸屏数字控制全自动临界点干燥仪。 美国Tousimis CPD广泛用于含水生物样品，凝胶、3D打印等具有精细微纳结构的脆弱复杂样品，MEMS、MOF、碳纳米管、石墨烯、晶圆(最大样品8英寸，一次同时干燥5片)等材料类样品及EBL制程的临界点干燥。

瑞士Safematic真空镀膜仪(喷金喷碳仪)中文样本

瑞士Safematic镀膜仪分为低真空和高真空两个版本，型号分别是CCU-010 LV和CCU-010 HV；均采用插入式设计，通过更换和选用镀膜头就可轻松配置为磁控离子溅射、热蒸发镀碳或两者一体化镀膜设备；都标配FTM装置；CCU-010 HV标配内置分子泵和无油隔膜泵的高真空度系统；CCU-010 LV后期可升级为HV版本。 1. 溅射头：SP-010常规溅射头和SP-011高效溅射头。对于C、Fe(磁性)等“困难”靶材，推荐HV+SP-011。 2. 镀碳头：CT-010镀碳头，适合SEM、TEM和任何需高质量碳膜的应用场合。它具有欧洲专利的自动进给系统，可进行数十次镀膜而无需破真空更换碳源，一次真空下可控沉积几乎任何厚度的优质碳膜。 3. 辉光放电：GD-010模块装在CT-010镀碳头上，可对碳膜进行亲水化处理。亦可作为辉光放电仪，用于冷冻电镜载网亲水等处理。 4. 等离子刻蚀：ET-010模块可在镀膜前先对样品进行等离子清洁刻蚀处理，增加成膜附着力；亦可在镀膜后进行刻蚀处理，以便去除膜层或进一步清洁。 5. 远程控制软件：RC-010基于win的远程控制软件，用于手套箱等。

临界点干燥改善石墨烯场效应晶体管的电传输特性

本文介绍了临界点干燥（CPD）技术的新应用案例：利用超临界CO2作为清洗步骤，用于在氧化硅（Si）基片上微加工的石墨烯场效应晶体管（GFETs），结果表明场效应迁移率增加，杂质掺杂减少。研究显示：通过CPD处理后，石墨烯转移过程和设备微加工后残留的聚合物显著减少。此外，CPD有效去除环境中的水分等吸附物，从而减少GFETs中不希望出现的P型掺杂现象。作者建议将CPD技术应用于基于二维材料的电子、光电和光子器件，以在洁净室微加工后和常温存储后恢复其本征特性。在实验研究中，作者使用了美国Tousimis出品的autosamdri-815型自动临界点干燥仪对GFETs 进行CPD处理，有效地清除GFETs表面的聚合物残留和吸附水分，从而显著改善其电传输特性；AFM和XPS等实验数据证明这是一种简单且环保的后处理解决方案。CPD工艺参数等详情，请阅读和参考该论文。