核心参数
产地类别: 进口
仪器种类: 四极杆质谱
适用场景: 实验室
质量范围(amu): -
分辨率(单位质量分辨率,amu): 0
仪器检出限(ngL-1): 0
灵敏度(Mcps / mgL-1): 0
短期稳定性RSD: -
长期稳定性RSD: -
安捷伦ICP-MS8900的工作原理介绍
ICP-MS8900的使用方法?
安捷伦8900多少钱一台?
ICP-MS8900可以检测什么?
ICP-MS8900使用的注意事项?
安捷伦8900的说明书有吗?
安捷伦ICP-MS8900的操作规程有吗?
安捷伦ICP-MS8900报价含票含运吗?
安捷伦8900有现货吗?
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安捷伦半导体无机元素分析概览
ICP-MS 作为一种金属元素分析仪器应用于半导体产业链,始于 20 世纪 80 年代。随着半导体制程的不断迭代,整个行业对 ICP-MS 的性能提出了越来越高的要求。过去 30 年来,位于日本东京的安捷伦 ICP-MS 全球研发中心与半导体产业链端客户密切合作,引领着 ICP-MS 在全球半导体产业链中的应用不断创新。
半导体
2022/08/03
使用 spICP-MS/MS 对半导体制程化学品进行多元素纳米颗粒分析
使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS,在多元素 spICP-MS 模式下,对 1% TMAH 中的多元素纳米颗粒进行了测定和表征。对于半导体级化学品中的多元素 NP 分析,MS/MS 方法可实现低背景、高灵敏度和干扰控制。使用专门开发的快速多元素纳米颗粒分析软件,在一次样品采集中获得 Ag、Al2O3、Fe3O4、Au 和 SiO2 NP 的多元素数据并组合到一个结果表中。该表格提供关于含各种实测元素的纳米颗粒的全面信息。结果表明,在溶液中含有大颗粒(如200 nm SiO2 NP)的情况下仍可测量小颗粒(如 30 nm Fe3O4NP)。1% TMAH 溶液中的 Al2O3和 SiO2 NP 的粒径和颗粒浓度在 10 小时内稳定不变,而 Fe3O4和 Ag NP 的颗粒浓度随时间逐渐减小。这一结果表明,TMAH 溶液中的 Fe3O4和 Ag NP 应在配制好后尽快测量。1% TMAH 中 Fe3O4 NP 的粒径稳定不变,而 NP 浓度随时间的变化还需要进一步的研究。本研究表明,利用 spICP-MS 能够快速准确地测定含有由不同和/或多种元素组成的纳米颗粒的样品。与针对每种 NP 分别采集数据相比,快速多元素纳米颗粒分析软件简化了分析方法并将样品运行时间缩短了 7 分钟。测量的元素越多,节省的时间也就越多。
半导体
2021/04/01
使用 Agilent 8800 ICP-MS/MS 在冷等离子体反应池模式下测量超纯水中的超痕量钾及其他元素
采用 Agilent 8800 ICP-MS/MS 确认了水簇离子H3O(H2O)+的存在,其在冷等离子体条件下会在m/z 39 处产生 K 的背景信号。在 MS/MS 模式下,采用 NH3作为反应池气体可成功除去该水簇离子。采用 8800 ICP-MS/MS 获得的39K 的 BEC 为使用常规四极杆 ICP-MS 获得值的 1/10。这一结果展示了 MS/MS 反应模式的优势,其能阻止所有非目标离子、等离子体衍生离子进入反应池,从而避免在反应池中产生可能造成干扰的产物离子。因此,Agilent 8800 ICP-MS/MS 能够使 UPW 中 K 的 BEC 低至 30 ppq,所有其他元素(包括Ca、Fe 和 Ni)的 BEC < 150 ppq。
半导体
2021/04/01
使用 Agilent 8800 三重四极杆 ICP-MS 提高 ICP-MS 方法对高纯硅样品中磷和钛的检测性能
Agilent 8800 ICP-MS/MS(采用 MS/MS 模式)可以准确、高效地测定不同浓度(30 ppm 和 2000 ppm)高纯硅基质中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL 都非常低,MS/MS 模式可以确保将目标产物离子与其他分析物生成的潜在干扰产物离子分离。这是 8800 ICP-MS/MS 的 MS/MS 模式所独有的功能。即使在使用超低流量雾化器的条件下,仍然可以获得优异的灵敏度和超低的检测限,对于 2000 ppm Si 基质样品可连续测定超过 3 小时,表明仪器具有出色的信号稳定性。
半导体
2021/03/11
使用 Agilent 8800 电感耦合等离子体串联质谱仪分析NMP中痕量的硫、磷、硅和氯
S、P、Si 和 Cl 对四级杆 ICP-MS 分析都是极具挑战性的元素,而对 NMP 这样的有机基质,这些元素的检测会更加困难。使用 Agilent 8800 电感耦合等离子体串联质谱仪,在其独特的 MS/MS 模式下采用质量转移方法,对所有分析物都获得了很低的 BEC,充分展示了 ICP-MS/MS 在应对 ICP-MS 领域最具挑战的应用中表现出的灵活性和优越的性能。
半导体
2021/03/11
使用 ICP-MS/MS 对半导体级过氧化氢和去离子水进行自动化分析
在本研究中,利用配备 ESI prepFAST S 自动化样品引入系统的 Agilent 8900 ICP-MS/MS 开发出一种对去离子 (DI) 水和 H2O2 中的超痕量元素杂质进行定量分析的自动化程序。prepFAST S 自动完成样品前处理和校准,可节省时间并最大程度减小手动样品处理操作引起样品污染的风险。
半导体
2021/03/11
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安捷伦生活饮用水解决方案
安捷伦专业团队在充分解读新修订的 GB/T 5750 的基础上,基于长期以来对水中有机物及无机物分析的积累和投入,编制了《生活饮用水综合解决方案》,精选此次 GB/T 5750 修订所新增加的 26 个高效特色方法,涵盖 GB 5749 中的 102 个有机物及无机物指标。无论您从事生活饮用水常规检测,还是实施前瞻性、科研性分析,安捷伦均可助您取得成功。 – 符合 GB 5749 有机物+无机物指标的合规检测,让您省力、省时、省心 – 自动化+大方法+数据库,助您在水分析领域领先一步 – 全流程“交钥匙”方案,不仅包含经过验证的特色仪器软硬件系统、电子方法、指导手册,还提供专用消耗品、混标和“交钥匙服务”,助您开创水分析美好未来。
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2022/08/16
ICP-MS 分析中的低效 时间陷阱及避免方法
ICP-MS 工作流程中的时间陷阱 电感耦合等离子体质谱 (ICP-MS) 是用于测量各种样品类型 中痕量与常量元素的一项成熟技术。ICP-MS 广泛应用于食 品、农业、环境、地球化学和地质、材料和半导体、石化、 生命科学、临床研究以及核能等行业。 ICP-MS 因其高灵敏度、基质耐受性以及在较宽浓度范围内测量元素的能力而闻名。简单的谱图以及对干扰的可靠控制,使 ICP-MS 成为从饮用水和环 境监测到食品安全和药物生产的常规和受监管应用的首选技术。 许多实验室正试图从其他原子光谱技术转为 ICP-MS,或希望通过升级 ICP-MS 实现更低的检测限和更高的样品通量。不熟悉这项技术的实验室可能会认为 ICP-MS 难以掌握和使用,且操作和维护成本高昂。这些臆想出的困难甚至 可能使某些人不愿采用这项技术。 已经使用 ICP-MS 的实验室有时可能会在优化方法和工作流程方面遇到困 难,但许多人认为这是设置和运行 ICP-MS 不可避免的问题。对于尚未优化 ICP-MS 方法的实验室而言,一些低效且不必要的事项(时间陷阱)会影响 分析效率和盈利能力。这些时间陷阱的代价不仅仅是浪费时间。因手动方法 设置、仪器检查以及不得不进行重复分析而负担过重的员工可能会对工作感 到不满,且更容易出错。错误会导致重复分析,影响样品分析周期以及报告 结果的质量,从而使实验室的名誉受到威胁。 主要的时间陷阱 最近的一项在线调查[1] 要求实验室管理人员对最影响 ICP-MS 分析的常见时间陷阱进行排名。 您可能会认为这些时间陷阱是 ICP-MS 分析中不可避免的问题;在日常操作 中必须接受其存在。但事实上,有更好、更有效的方法来执行分析。有一种 可让您的工作更轻松、员工更愉悦、分析结果更可靠的方法。 像大多数复杂的科学技术一样,ICP-MS 要求操作人员具备一定的知识和经 验,才能获得准确且可重现的结果。幸运的是,随着仪器的自动化程度越来 越高,执行分析所需的专业知识水平逐渐降低。现代 ICP-MS 仪器包含预定 义的方法模板、自动优化程序、性能检查以及智能诊断传感器和监测工具。 这些内置功能可重现以前需要经验丰富的操作人员才能实现的专业水平。 但能够提供帮助的并非只有仪器功能。通过对分析方法进行简单更改,可以 改进实验室流程。 本电子书探讨了影响常规 ICP-MS 分析的常见时间陷阱,并提供了最大程度 降低或完全消除其影响的解决方案 更多内容见附件……
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2022/08/11
【安捷伦】更新您的 ICP Expert 软件
Agilent ICP Expert 软件 7.4 版带来各种新功能,可显著提高分析效率,让您的工作更轻松。
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2020/01/13
用于工作流程法规认证的安捷伦资源——测定制药材料中的元素杂质
安捷伦可助您成功建立合规而有效的元素杂质测试能力,并致力于遵循质量管理体系、产品生命周期文档以及用于软件开发的产品验证申明的法规认证要求。
2569KB
2020/01/13
【安捷伦】简化药物的元素杂质分析的 QC 过程(适用于 ICP-OES)
美国药典 (USP) 和人用药品技术要求国际协调会议 (ICH) 公布了定量测定药品和药物成分中各种元素杂质的程序。这些程序将 ICP-MS 和 ICP-OES 作为推荐分析技术。 用于 5100 和 5110 ICP-OES 仪器的 Agilent ICP Expert 软件能够帮助客户满足 USP 和 ICH 程序的法规要求。
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2020/01/13
利用 Agilent ICP-MS MassHunter 和 OpenLAB 服务器符合法规认证指南的要求
美国药典 (USP) 和人用药品技术要求国际协调会议 (ICH) 已发布了测试药品和药物成分中无机(元素)杂质的新标准:USP 通则章节 <232>(元素杂质 — 限值)和 <233>(元素杂质 — 流程)和 ICH-Q3D 已在 2017 年 2 月定稿,并将于 2018 年 1 月 1 日起执行。指南中规定 了 24 种元素的每日最大剂量限。 ICP-OES 和 ICP-MS 是元素杂质分析的参考仪器技术。ICP-MS 技术更 适合用于注射或吸入给药的药品和材料分析,因为这类样品所需的检测限更低。
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2020/01/13
利用 Agilent ICP-MS MassHunter 和 OpenLAB 企业内容管理器 (ECM) 符合法规认证指南的要求
美国药典委员会 (USP) 和人用药品技术要求国际协调会议 (ICH) 已发 布了测试药品和药物成分中无机(元素)杂质的新标准:USP 通则章节 <232>(元素杂质 — 限值)和 <233>(元素杂质 — 流程)和 ICH-Q3D 已在 2017 年 2 月定稿,并将于 2017 年底执行。指南中规定了 24 种元素的每日最大暴露限量。 使用 ICP-MS 可进行各种元素杂质的分析,包括小样品量分析以及注射和吸入药物检测,这些药物的暴露限值较低,分析时需要较低的检测限。
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2020/01/13
ICP-MS/MS 地球化学应用文集
您或许已经体验过用于地球化学、采矿和金属行业的安捷伦 AA、MP-AES、ICP-OES 和 ICP-MS 原子光谱系列产品。那么,您应该已经了解了安捷伦仪器卓越的稳定性、干扰消除能力、安全性、快速分析能力、成本节省以及无与伦比的准确性。 2012 年,安捷伦首次推出 ICP-MS/MS 技术,这是 ICP-MS 的一个新类别,可用于地球化学和其他严苛应用。同时,该技术为您推进并定义前沿研究应用的全新性能标准创造了契机。 通过安捷伦全新 8900 ICP-MS/MS 带来的技术进步,您将能实现: - 之前的 ICP-MS 无法实现的地质样品中痕量元素的准确测定 - 通过简单的气体化学反应消除同质异位素干扰(如 Rb/Sr),这在激光剥蚀 LA-ICP-MS 分析中 非常必要 - 对 LA-ICP-MS 中多元素分析的快速瞬时信号具有出色的灵敏度
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2019/05/28
测量半导体制造中的无机杂质
自 20 世纪 80 年代后期以来,安捷伦与领先的半导体制造商和化学品供应商密切合作,开发出有助于应对这一快速发展的行业所面临挑战的 ICP-MS 系统和应用。从离轴离子透镜和冷等离子体到具有 MS/MS 操作模式的独特的高灵敏度 8900 ICP-MS/MS,安捷伦一直处于对该行业至关重要的关键 ICP-MS 创新的最前沿。
17401KB
2019/05/28
Agilent 8800 和 8900 ICP-MS/MS 应用手册
安捷伦于 2012 年推出了世界上第一款串联四极杆 ICP-MS (ICP-MS/MS)。Agilent 8800 ICP-MS/MS 代表 ICP-MS 技术的一次重大进步,并重新定义了痕量元素分析的性能。与现有的四极杆 ICP-MS 仪器相比,8800 系统在工业和学术研究实验室的许多应用中均表现出了显著的分析优势。在这一成功的基础之上历时四年研发,Agilent 8900 ICP-MS/MS 2016 年问世。
5840KB
2019/05/28
安捷伦科技(中国)有限公司
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