小型程序控温蒸发镀膜仪

主要特点

1、已通过CE认证。

2、采用石英腔体，易于清洁和样品的放入。

3、样品台可旋转，能够使所制薄膜达到更好的均匀性。

4、采用钨丝作为发热源，温度可达到1700℃，并配有的氧化铝舟装载样品（仅1600oC以下使用，若蒸发温度大于1600oC，样品应直接放在钨丝篮中）。

5、热电偶安装在坩埚底部，以便于温度测量和控制。

6、可将设备转换到手动调节状态，内部不安装热电偶，直接采用手动调节输出电流大小，发热源温度可达2000oC，可达到对样品镀碳等实验要求。

7、可向真空腔体中通入惰性气体，对腔体进行清洗，也可通入反应气体，进行反应蒸发镀膜。

8、进气口配有针阀，用于调节进气流量。

技术参数

1、电压：AC 208V-220V 50Hz/60Hz 单相

2、功率：500W，电流顶峰为30A

3、真空腔体：石英腔体，直径?6"

4、样品台：直径?50mm；可旋转，转速5rpm；与蒸发源间距可调，调节范围60mm-100mm

5、温度：1700oC

6、热电偶：S型热偶，工作温度200oC-1500oC（可选用B型热偶，工作温度1200oC-1700oC）

7、控温精度：±1oC，数显温度控制器，可设置30段升降温程序

8、钨丝篮：2个

9、真空接口：KF40

10、真空计：数显防腐真空计PCG554，测量范围3.8×10^-5-1125torr

11、进气接口：1/4NPS

产品规格

尺寸：440mm×330mm×630mm

可选配件

1、机械泵（带油污过滤器）（真空度<10^-2torr，可以蒸发贵金属，如Au、Ag）

2、分子泵（可获得高真空，真空度<10^-5torr，蒸发易氧化材料，如Al、Mg、Li等）

3、低真空系统

4、高真空系统

5、等离子清洗机（镀膜前对基片进行清洗，可获得更好的薄膜强度）