TRY等离子体刻蚀设备_报价-深圳市矢量科学仪器有限公司

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电容耦合等离子体刻蚀（CCP）设备

电容耦合等离子体刻蚀（CCP）设备

品牌：鲁汶

型号： Haasrode® Avior® A

产地：江苏

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8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀设备

8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀设备

品牌：鲁汶

型号： Pishow® D 系列

产地：江苏

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8英寸电感耦合等离子体刻蚀（ICP）设备

8英寸电感耦合等离子体刻蚀（ICP）设备

品牌：鲁汶

型号： Pishow® A 系列

产地：江苏

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8英寸金属刻蚀设备

8英寸金属刻蚀设备

品牌：鲁汶

型号： Kessel® Pishow® M

产地：江苏

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8英寸硅刻蚀设备

8英寸硅刻蚀设备

品牌：鲁汶

型号： Tebaank® Pishow® P

产地：江苏

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12英寸金属刻蚀设备

12英寸金属刻蚀设备

品牌：鲁汶

型号： Herent® Chimera® M

产地：江苏

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12英寸硬掩膜刻蚀设备

12英寸硬掩膜刻蚀设备

品牌：鲁汶

型号： Herent® Chimera® A

产地：江苏

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8英寸离子束沉积（IBD）设备

8英寸离子束沉积（IBD）设备

品牌：鲁汶

型号： Ganister™ A 系列

产地：江苏

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8英寸离子束塑形（IBS）设备

8英寸离子束塑形（IBS）设备

品牌：鲁汶

型号： Lorem® A 系列

产地：江苏

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12英寸离子束塑形（IBS) 设备

12英寸离子束塑形（IBS) 设备

品牌：鲁汶

型号： Pangea® A 系列

产地：江苏

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12英寸特种金属膜层刻蚀设备

12英寸特种金属膜层刻蚀设备

品牌：鲁汶

型号： LMEC-300

产地：江苏

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新型离子枪

新型离子枪

品牌： ELIONIX INC.

型号： ESC-101

产地：日本

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离子束刻蚀机

离子束刻蚀机

品牌： ELIONIX INC.

型号： EIS-1500

产地：日本

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离子束刻蚀机

离子束刻蚀机

品牌： ELIONIX INC.

型号： EIS-200ERP

产地：日本

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低温ICP-RIE等离子体刻蚀系统

低温ICP-RIE等离子体刻蚀系统

品牌：德国SENTECH

型号： SENTECH SI 500 C

产地：德国

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RIE等离子蚀刻系统

RIE等离子蚀刻系统

品牌：德国SENTECH

型号： SENTECH Etchlab 200 RIE

产地：德国

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等离子刻蚀系统RIE

等离子刻蚀系统RIE

品牌：德国SENTECH

型号： SENTECH SI 591

产地：德国

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RIE等离子刻蚀系统

RIE等离子刻蚀系统

品牌：德国SENTECH

型号： SENTECH SI 500 CCP

产地：德国

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干法刻蚀装置

干法刻蚀装置

品牌：爱发科

型号： NLD-5700

产地：日本

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干法刻蚀设备

干法刻蚀设备

品牌：爱发科

型号： APIOS NE-950EX

产地：日本

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NLD干法刻蚀设备

NLD干法刻蚀设备

品牌：爱发科

型号： NLD-570

产地：日本

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高密度等离子刻蚀装置

高密度等离子刻蚀装置

品牌：爱发科

型号： ULHITETM NE-7800H

产地：日本

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刻蚀设备

刻蚀设备

品牌：爱发科

型号： NE-5700/NE-7800

产地：日本

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Plasma Process Cluster 多腔等离子体工艺系统

Plasma Process Cluster 多腔等离子体工艺系统

品牌：矢量科学

型号： SLKX-BS-1130

产地：广东

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Plasma Etching Cluster 多腔等离子体刻蚀系统

Plasma Etching Cluster 多腔等离子体刻蚀系统

品牌：矢量科学

型号： SLKX-113-10

产地：广东

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刻蚀机终点检测系统

刻蚀机终点检测系统

品牌：复享光学

型号： KSJZDJC001

产地：广东

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RIE反应离子刻蚀机

RIE反应离子刻蚀机

品牌： CIF

型号： CIF005

产地：广东

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深硅刻蚀系统DEEP SI ETCH

深硅刻蚀系统DEEP SI ETCH

品牌：牛津仪器

型号： customized-14

产地：其他

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离子束刻蚀系统IBE

离子束刻蚀系统IBE

品牌：牛津仪器

型号： customized-13

产地：其他

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反应性离子刻蚀系统RIE

反应性离子刻蚀系统RIE

品牌：牛津仪器

型号： customized-12

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