核心参数
清洗方法: 湿法清洗
产地类别: 国产
设备类型: 批量清洗
晶圆尺寸: 12
相关技术: 全自动槽式湿法清洗
适用制程、应用范围: 集成电路、功率半导体、衬底材料、硅基微
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