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共聚焦显微镜+光刻胶+形状
共聚焦显微镜和干涉仪是常用的表面形状测量仪器,具有无损,高精度等特点。 然而对于基板上的透明薄膜的凹凸形状,对于较薄的膜(1um上下),测量是受到基板反射光的影响,会导致测量失败。 如,在测量Si晶圆上的光刻胶的形状时。 为解决上述问题,我们推荐反射分光法,测量光刻胶的膜厚,从而得到表面形状信息。
半导体
2022/08/03
企业名称
北京信立方科技发展股份有限公司
企业信息已认证
企业类型
股份有限公司(非上市、自然人投资或控股)
信用代码
911101027770695332
成立日期
2005-06-29
注册资本
2172.589万元
经营范围
技术开发、咨询、服务;会议服务;承办展览展示活动;设计、制作、代理、发布广告,电脑动画设计,计算机方面的技术培训,销售机械设备;因特网信息服务业务(除新闻出版、教育、医疗保健、药品、医疗器械以外的内容),广播电视节目制作、人才中介服务;经营电信业务.(市场主体依法自主选择经营项目,开展经营活动。广播电视节目制作、人才中介服务、经营电信业务以及依法须经批准的项目,经相关部门批准后依找准的内容开展经营活动,不得从事国家和本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动.)