关注
已关注
已认证
粉丝量 0
400-860-5168转4967
仪器信息网认证电话，请放心拨打
核心参数
产地类别： 进口
衬底尺寸： 见资料
工艺温度： 见资料
前驱体数： 见资料
重量： 见资料
尺寸(W x H x D)： 见资料
均匀性： 见资料
NLD-3500（A）全自动原子层沉积系统概述：原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供卓越的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
NLD-3500（A）全自动原子层沉积系统特点：NLD-3500（A）是一款全自动独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统，带Labview软件，具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的安全互锁设计，并提供了强大的灵活性，可以用于沉积多种薄膜（如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等）。应用领域包含半导体、光伏、MEMS等。NLD-3500（A）系统提供12”的铝质反应腔体，带有加热腔壁和气动升降顶盖，非常方便腔体的访问和清洁。该系统拥有一个载气舱包含多达7个50ml的加热汽缸，用于前驱体以及反应物，同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀。
NLD-3500（A）全自动原子层沉积系统选配：NLD-3500（A）系统的选配项包含，ICP离子源(用于等离子增强的PEALD)，臭氧发生器，等等。
NLD-3500（A）全自动原子层沉积系统应用：
Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3，etc
Nitrides氮化物: AlN, TiN, TaN, etc..
Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS应用.
Nano laminates纳米复合材料
那诺-马斯特原子层沉积NLD-3500 (A)的工作原理介绍
原子层沉积NLD-3500 (A)的使用方法?
那诺-马斯特NLD-3500 (A)多少钱一台?
原子层沉积NLD-3500 (A)可以检测什么？
原子层沉积NLD-3500 (A)使用的注意事项？
那诺-马斯特NLD-3500 (A)的说明书有吗？
那诺-马斯特原子层沉积NLD-3500 (A)的操作规程有吗？
那诺-马斯特原子层沉积NLD-3500 (A)报价含票含运吗？
那诺-马斯特NLD-3500 (A)有现货吗？
企业名称
深圳市科时达电子科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
440300215081067
成立日期
2020-10-20
注册资本
100
经营范围
电子产品销售;光电子器件销售;半导体器件专用设备销售;第一类医疗器械销售;卫生用品和一次性使用医疗用品销售;国内贸易代理;技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广。(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动),许可经营项目是:第二类医疗器械销售;货物进出口;技术进出口。
深圳市科时达电子科技有限公司
公司地址
深圳市光明区公明街道上村社区水贝北路大新华达工业园3号厂房203
客服电话
公司名称： 深圳市科时达电子科技有限公司
公司地址： 深圳市光明区公明街道上村社区水贝北路大新华达工业园3号厂房203 联系人： 林建军 邮编： 518127 联系电话： 400-860-5168转4967
仪器信息网APP
展位手机站