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当前位置: Kesda > 原子层沉积设备 > Beneq Transform® 沉积系统

Beneq Transform® 沉积系统

品牌:
产地: 芬兰
型号: Transform®
报价: ¥100万 - 200万
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核心参数

产地类别: 进口

衬底尺寸: 见资料

工艺温度: 见资料

前驱体数: 见资料

重量: 见资料

尺寸(W x H x D): 见资料

均匀性: 见资料

产品介绍

  Beneq Transform® 凭借多功能性和灵活性,制造了全新的ALD集群工具设备。可适用于广泛的应用场景并满足不同的市场细分。Beneq Transform™配置多个ALD工艺模块,以满足特定的晶圆产能要求,也可为应对不断增长的产量或新的ALD应用而进行升级。

兼容热法和等离子体增强ALD工艺模块

单片、批量、热法及等离子体增强功能集成在同一平台上。适用于广泛的高性能氧化物和氮化物。 为客户提供了灵活、可靠、高产能的ALD解决方案。

Beneq Transform™凭借灵活的自动化平台,热法和等离子体增强的ALD工艺模块集成在一个系统中的独特能力,在工艺制备中可满足最苛刻的薄膜沉积要求,并提供无与伦比的灵活性。

专为晶圆厂设计

工业标准的水平晶圆装载可实现即插即用的无缝集成。配备独特的预热模块,可减少数小时的等待时间,并将产能提升到一个全新的水平 。

SEMI 认证

完全符合 SEMI S2/S8 和 SECS/GEM 标准。为客户提供定制化服务,确保在批量生产中顺利过渡到 ALD 工艺。

Beneq Transform™ 是适用于电力电子、MEMS 和传感器、RF、LED、光子学和先进封装应用的一站式 ALD 解决方案。

设备

Transform®Transform® Lite
最大配置3 ALD modules & 1 pre-heater2 ALD modules & 1 pre-heater
预热YesYes
传输模块Brooks Mx600SSBrooks Mx400
冷却选项Built-inFacet-mounted
VCE 装载21
基底尺寸3", 4", 6" or 8"3", 4", 6" or 8"
基底材料Si, GaN-on-Si, GaAs, InP, SiC, GaN, LNO, SapphireSi, GaN-on-Si, GaAs, InP, SiC, GaN, LNO, Sapphire
最大配置尺寸3000 x 3000 x 2250 mm3000 x 1250 x 2250 mm


售后服务
保修期: 1年
是否可延长保修期:
现场技术咨询:
免费培训: 免费安装培训
免费仪器保养: 质保期内免费仪器保养
保内维修承诺: 质保期内免费非人为损坏免费维修
报修承诺: 24小时内到达现场并维修
问商家

原子层沉积Transform®的工作原理介绍

原子层沉积Transform®的使用方法?

Transform®多少钱一台?

原子层沉积Transform®可以检测什么?

原子层沉积Transform®使用的注意事项?

Transform®的说明书有吗?

原子层沉积Transform®的操作规程有吗?

原子层沉积Transform®报价含票含运吗?

Transform®有现货吗?

工商信息

企业名称

深圳市科时达电子科技有限公司

企业信息已认证

企业类型

信用代码

440300215081067

成立日期

2020-10-20

注册资本

100

经营范围

电子产品销售;光电子器件销售;半导体器件专用设备销售;第一类医疗器械销售;卫生用品和一次性使用医疗用品销售;国内贸易代理;技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广。(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动),许可经营项目是:第二类医疗器械销售;货物进出口;技术进出口。

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深圳市科时达电子科技有限公司为您提供Beneq Transform® 沉积系统Transform®,nullTransform®产地为芬兰,属于进口原子层沉积设备,除了Beneq Transform® 沉积系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多原子层沉积设备,Kesda客服电话400-860-5168转4967,售前、售后均可联系。
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公司地址: 深圳市光明区公明街道上村社区水贝北路大新华达工业园3号厂房203 联系人: 林建军 邮编: 518127 联系电话: 400-860-5168转4967

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