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双靶磁控离子溅射仪J20
仪器介绍
发布时间：2024/02/06
简介：
J20是一款低真空双靶离子溅射仪，基于磁控溅射原理，采用高性能旋片泵快速产生一个 小于3Pa的真空压强，搭配自主研发的旋转偏转样品台，在样品表面沉积一层更均匀稳定的导电膜层，广泛适用于追求更高分辨率或温度敏感SEM电镜样品、特别是3D粉末类样品的喷金、喷铂、喷镀铂金合金等用途。自动化程序控制，触摸屏操作，即插即用。
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公司地址： 深圳市南山区桂庙路瑞峰创业中心二楼B区2009 联系人： 张生 邮编： 518000 联系电话： 400-860-5168转4135
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