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美国NXQ以卓越的性能,经济的价格,深受全球用户喜爱,截至2016年底,超过5000台NXQ曝光系统遍布全世界科研实验室,研发中心。
NXQ4000系列半自动掩膜对准曝光系统,融合了独立的模块化设计,精准控制对准和曝光等特点,自动程序控制使得该系统易于操作存储和使用,适合实验室多用户使用。
该系统特点:
锲型误差补偿系统----独特的WEC设计
紫外灯源的多样性选择
曝光光路的精准控制
视像分辨技术------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切换
高效对准控制-----可选配IR或OBS双面对准
使用领域(包括但不限于下述领域的光刻工艺)
微电子
LED/HBLED
3D IC /晶圆制造工艺
2.5D Interposer
MEMS
BioMEMS
微流控芯片
化合物半导体
太阳能(HCPV)
光电子
型号:
NXQ4006半自动型(可处理最大6英寸基片)
NXQ4008半自动型(可处理最大8英寸基片)
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紫外掩膜曝光机
型号:Model 200系列
面议
企业名称
德国韦氏纳米系统(香港)有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
成立日期
2015-08-13
注册资本
500
经营范围
德国韦氏纳米系统有限公司
公司地址
香港九龍尖沙咀漆咸道南45-51號
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公司名称: 德国韦氏纳米系统有限公司
公司地址: 香港九龍尖沙咀漆咸道南45-51號 联系人: Amy zhou 邮编: 999077 联系电话: 400-860-5168转3855
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