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PECVD沉积
Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm，且根据电极配置，可以处理单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸)，或者多尺寸批处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。
Minilock-Orion III用于有毒/发火PECVD工艺。沉积薄膜：氧化物、氮氧化物、氮化物、无定形硅和碳化硅。工艺气体：100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮、三甲基硅烷和甲烷。
该系统可选配一个三极管（Triode）或电感耦合等离子(ICP)源。三极管源使得用户可以创建高密度等离子，从而控制薄膜应力。
基片通过预真空室装入工艺室，其避免了与工艺室以及任意残余沉积副产品接触，从而提高了用户的安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下，从而保持反应室与大气隔绝。
用户单位
采购时间
采购数量
西安交通大学
2012/08/17
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企业名称
德国韦氏纳米系统（香港）有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
成立日期
2015-08-13
注册资本
500
经营范围
德国韦氏纳米系统有限公司
公司地址
香港九龍尖沙咀漆咸道南45-51號
客服电话
公司名称： 德国韦氏纳米系统有限公司
公司地址： 香港九龍尖沙咀漆咸道南45-51號 联系人： Amy zhou 邮编： 999077 联系电话： 400-860-5168转3855
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