全国表面分析科学与技术应用学术会议

PHI-CHINA公司向2018年10月12日-15日由新加坡国立大学、苏州大学和南京大学在苏州共同承办的2018全国表面分析科学与技术应用学术会议取得圆满成功表示热烈的祝贺。

此次会议吸引了国内外250多名专家学者参会，参会人数众多创历年之最。众参会者在表面分析会议这个平台上就最新的表面分析技术及其应用进行了深入而热烈的探讨，促进了表面分析技术与其他学科的融合，加强同行之间的交流与合作。

自全国表面分析科学与技术应用学术会议创办之始，PHI-CHIAN公司从未缺席。而此次PHI-CHINA公司更是以钻石赞助商的身份协同ULVAC-PHI公司一同参加此次会议，并在会议上做了相关专题的报告。ULVAC-PHI公司的张薰匀博士在会上介绍了最新的低能量反光电子能谱（Low Energy Inverse Photo-electron Spectroscopy）技术，该项技术装配于PHI 5000 VersaProbe III光电子能谱仪上，实现了XPS-UPS-IPES在同一点分析的功能，甚至可以通过氩离子枪或GCIB（团簇氩离子枪）进行深度分析。此新技术引起了人们对世界上流行的太阳能电池，钙钛矿，OLED等应用的极大兴趣。

当日盛大的会议开幕晚宴由PHI-CHINA与ULVAC-PHI共同赞助，来自中国和世界各地的参会者共同开启了一场美食与表面分析技术交融的盛宴。

                                               PHI-CHINA与ULVAC-PHI赞助晚宴

                                                       会议合影留念