新闻报道I《焦点访谈》20221206 科技成果 落地生“金”—PHI表面分析技术助力科技成果转化

新闻报道I《焦点访谈》20221206 科技成果 落地生“金”—PHI表面分析技术助力科技成果转化

2022年12月6日，中央电视台《焦点访谈》对科技成果转化情况进行了报道。党的二十大报告中强调，必须坚持科技是第一生产力、人才是第一资源、创新是第一动力。作为创新要素最活跃的地方，高等院校与科研院所一度受困于体制机制和市场对接困难，大量科技成果长期“藏在深闺人未识”。随着一系列政策法规逐步落实，这个难题正逐步得到破解，如何进一步促进科技成果转化，让更多创新成果更快走出实验室，转化为现实生产力，众多高校和科研院所正积极作为。作为先进表面分析技术的代表，PHI表面分析仪器一直致力于为科技创新提供技术支持，并在本期《焦点访谈》多次出镜展示。

科研人员正在使用的仪器是PHI Versaprobe III,这是一款X射线光电子能谱仪（X-ray photoelectron spectroscopy，简称XPS）。XPS采用X射线激发样品产生光电效应，通过能量分析器分析出射光电子的能量，以表征材料表面的元素组分和化学态等信息。PHI XPS是扫描微聚焦型XPS设备，采用先进的扫描微聚焦X射线源，突破了传统XPS的几百微米束斑的限制，将X射线束斑尺寸优化到5微米以下，实现了微区XPS的测试能力，可以将材料/器件的点分析扩展到多点同时分析、线分析和面分析，为复杂科学问题的研究和高精度失效分析提供了重要的技术支持。

科研人员正在使用的仪器是PHI Nano TOF II,这是一款飞行时间二次离子质谱仪（Time of Flight-Secondary Ion Mass Spectrometer 简称TOF-SIMS）。TOF-SIMS采用一次脉冲离子轰击材料表面激发出二次离子，通过飞行时间质量分析器分析二次离子的质量数，以表征材料表面的元素成分、分子结构和分子键接等信息。PHI TOF-SIMS仪器具有高检测灵敏度（ppm-ppb）、高质量分辨率(M/DM>16000)和高空间分辨率(<50nm)能力，为新型材料/器件的开发和失效分析提供了重要的技术支持。

正如《焦点访谈》所言科技创新需要制度创新的协同。赋权激励、产研结合、专业服务，在多方探索下，一条条科研成果转化的“绳索”被去除。PHI作为表面分析仪器厂商，不仅致力于提供专业的高性能仪器产品（XPS、AES、TOF-SIMS和D-SIMS），而且致力于表面分析技术的推广和应用，与用户携手科技创新，引领未来！

视频链接：

https://tv.cctv.com/2022/12/06/VIDECpful5xhtHl15wPJ8YkF221206.shtml?spm=C45404.PhRThW8bw020.EToagw7mjlwm.2