昨日（2月13日）15时开讲的“PHI CHINA表面分析技术网络讲堂之光电子能谱专题”第三课，主题为“光电子能谱的数据处理”，由PHI CHINA资深应用专家鲁德凤女士主讲，凭借着自己从业多年的经验，她和与会者分享了XPS图谱特点及如何利用MultiPak软件来进行数据处理。对于部分听众的在线提问，她也给予了耐心和细致的解答，使得听众们对于光电子能谱的数据处理的实际应用有了更具体而深刻的理解。时至今日，PHI CHINA表面分析技术网络讲堂之光电子能谱专题已成功开讲了三课，分别是：光电子能谱相关的基本原理、谱仪结构、数据处理。最后一课“光电子能谱仪的实验技术”将于今日15时准时开讲。各位老师、同学可通过关注“PHI与高德”公众号，点击菜单栏下方的“资料中心—网络讲堂”进入直播间，关注“PHI-CHINA”主播，一同学习。第二课答疑整理问题1：单光源和双光源的区别？mu金属腔体作用？单光源(X射线源)和双X射线源在XPS设备上，重要的差别是双X射线源可以在分析中提供到两种X射线源去进行XPS分析。在拥有两种不同的X射线能量时，可以在分析时快速切换以达到:1、得到不同分析深度的XPS结果(例如在使用硬X射线Cr源时可以得到比Al源获得多3倍的深度讯息)2、在图谱中避免俄歇峰的重叠问题。Mu金属的使用是可以屏蔽环境中的变动磁场，避免对于在电子能谱实验时对电子动能的影响，当中特别是低动能的电子会受影响。 问题2：样品粗糙度有要求吗？会有的。基本上粗糙度所引起的不平均性，会对样品在实验结果上的讯号强度造成影响(如下图)。如粗糙度越大，在讯号强度影响越大的情况下，将会对基于峰积分强度计算的结果也会影响。不过，对于所测出的元素或其化学态倒是不预期会有影响。问题3：XPS需要超高真空的原因那张表可以再讲下？如下图中：不同的真空等级中包括:760Torr=大气,0.01Torr=低真空,E-5Torr=高真空,E-9=超高真空,E-12=极限真空。比较项为：How vacuum was attained:使用哪种真空泵或方法获得Molecules/m3:每立方米中有多少分子(当然真空差的时候,数字越大)Distance between molecules：在空间中分子间的距离(当然真空差的时候,距离越短)Collisions/second:每秒分子之间或在空间中撞击次数(真空越差，撞击越多)Mean free path between collision:平均自由路径在撞击后在真空中最大的移动距离(真空越好，移动距离越远)Path(English unit): 英制距离单位(吋)Molecules/second/cm2 striking surface:每秒每平方厘米在样品上的分子撞击次数(真空越差，撞击次数越多)Time for one monolayer to form:在上一项因分子撞击下，在样品上形成额外一层单原子层所需的时间Monolayer per second:因此每秒会在样品上形成的单原子层数量在表面分析实验中，分析时间可以一分钟、十分钟̷̷到几十分钟或以小时算，因此，超高真空在实验过程的维持是非常重要。不然，在不足的真空之下，分析到的讯号就不会是真正从样品表面而来的。一般在真正实验中，E-8Torr很多时候是最低的真空要求。INTERESTING FACTS ABOUT VACUUM问题4：FRR的成像能量窗口比FAT大很多？FRR在一般情况下的能量窗口是比较大的，但是FAT模式的能量窗口是可变的(透过改变通能)，所在也可以在设定中使能量窗口设成和FRR时的一样大。对于FRR模式，无减速。进入的电子有自己的动能，分析仪会选择动能穿过中心路径，到达最终检出器。 问题5：两种能量分析模式没听懂，请完后再解释下在报告中，我以“分析器中正在侦测的电子之速度”来区分FRR和FAT两种模式的差别。FRR=分析器中正在侦测的电子之速度→在分析过程图谱中的不同动能时实际上在持续改变。FAT=分析器中正在侦测的电子之速度→在分析过程图谱中的不同动能时实际上不变。在电子能谱中,所测试的一直都是电子的动能,换句话说是速度。而在能谱中，讯号强度(灵敏度)和能量分辨率(分辨不同动能的能力)是在图谱中的两个最重要的参数。在报告中，提出了FRR模式可以提供高灵敏度但比较差的能量分辨；而FAT则是相反的，有着比较好的能量分辨但灵敏度略低。在应用中，FRR更多的会使用在俄歇分析中，而FAT则是会应用在XPS，原因完全是因为两种不同分析技术的原理，俄歇很多时候应用在纳米等级的分析(因此需要使用低电流获得小束斑，而低电流会使讯号偏低),而且本身俄歇在原理中，俄歇峰相对起来峰宽度就很大，因此FRR模式更适合用在俄歇分析的。就XPS来说，在光电效应下光电子的产额相对高，且XPS中对化学分析其中一个重要的差别是在化学位移(结合能变化)，所以FAT的模式会更适合其应用。而其工作原理，请参考下题的回复。 问题6：FAT如何实现光电子能量固定？电量怎么换算成动能？在以下详细回答之前，简单的回答：FAT模式中使用了减速电压(Retard Voltage)的设计，达到了使进入分析时所侦测的电子动能/速度都是一样的。例子如下：1、首先在减速之前，如报告中提到在X射线激发样品表面时，激发出的各种电子是四散的。这时候输入透镜会去吸引这些电子，因此会给予所有电子一个额外能量。举例来说，假设这初始电压为10eV。2、在这之后，retard voltage减速电压开始工作如下：（1）例如，我们希望所有电子以10eV的速度飞入分析器。（2）分析器开始工作以获取光谱。它将“扫描”一定范围的能量。（3）首先，它尝试检测原始为0eV KE的电子（现在从输入镜头获得实为10eV），因此此时减速电压=0。（4）如果步长eV/step是1eV/step，则下一个检测到的KE将是原始为1eV的电子（现在在输入透镜之后为11eV）。所以那时减速电压=-1。（5）如此例推，当检测到KE=1000eV的电子时（在输入透镜之后为1010eV），这个概念将继续,所以那时的减速电压=-1000。（6）通过执行此过程，我们可以使进入分析器的所有电子都相同。（7）另外，由于减速电压是“由软件提供的”，因此软件将分别知道在每个给定的减速电压下的实际检测KE动能，从而最后给出XPS图谱。问题7：那静电吸附会影响光电子的能量分析准确性？会的，因为这会影响到样品上的电荷平衡和逸出电子的动能。 问题8：图像选点和实际分析的点会不会存在漂移？基本不会。在PHI设备上，成像影像和分析时候都是使用完全同一套光路系统，包括X射线分析器到检出器。 问题9：UPS的光斑多大，常用的参数设置一般有哪些？从前设计～=1.5x3mm最新PHI设计～=1x1mm 问题10：样品制备中不建议使用C导电胶带？两种3M导电胶的适用范围是？一般样品可以使用导电碳胶带，但是对于样品中同时含有导电成分，又含有不导电成分，可能就会存在荷电不均匀，谱图会出现漂移，对于这类样品建议用完全绝缘的3M胶带。 问题11：压不压片、平整度会影响元素含量吗？如果元素组分是混合均匀的，应该不会影响组分的比例。但是样品不平整，可能会影响信号质量。如果含有含量较少的元素，建议压片制样。 问题12：样品托角度改变了，双束中和效果会变化很大吗？改变TOA，对中和效果影响不大的。 问题13：怎么保证离子溅射的区域和分析点区域是一个区域？如果区域不在一起是不是说明五轴样品台位置变了？1、工程师对仪器调试时，会对电子枪和离子枪束斑位置进行调试，与X射线束斑位置是重合的。2、跟样品台没有任何关系，就是离子枪和X-ray的合轴对中。 问题14：离子枪是用来溅射清理的还是用来中和的?感觉不需要正电荷中和吧？1、中和加溅射，并不是全部情况都需要离子荷电中和的。2、双束中和，正离子是中和样品表面分析区域以外的负电荷。 问题15：对于不导电曲面，是不是可能中和效果差了？中和时，离子束和电子束束斑可调吗？还是固定的？中和时束斑固定的不可调。 问题16：您所说的曲面是指微球样品吗，直径一般是多少？直径只有10mm的环；这个尺寸应该足够大了，对于100um的光斑区域，可以认为是平面，中和也是没有问题的。 问题17：对于导电性未知的样品，在选点和测试时都建议打开双束中和的吧？是的。

继2月11日PHI CHINA通过网络平台成功开讲了“PHI CHINA 表面分析技术网络讲堂之光电子能谱专题”的第一课后，网络讲堂第二课于2月12日15时准时开讲。本次课程的主题为“谱仪结构”，主讲人为PHI CHINA总经理叶上远先生。在近一个半小时的课程中，叶上远先生针对光电子能谱仪器结构、样品制备及传输操作等内容展开详细的讲解，讲解部分结束后他还针对参与讲堂的听众疑问进行了在线答疑。本期网络讲堂的主题分为光电子能谱相关的基本原理、谱仪结构、数据处理和实验技术四个课程，将通过互联网平台开展为期四天（2月11日-14日）的专题网络课程。以下是课程安排：下期精彩 不要错过★2月13日15时将学习光电子能谱的数据处理，千万不要错过哦！★为避免错过直播，请各位老师、同学进入“PHI与高德公众号”，点击菜单栏下方的“资料中心--网络讲堂”进入直播间，关注“PHI-CHINA”主播，一起学习吧！ 

问题1：膜厚大于6nm，XPS能检测到吗？解答：XPS是表面分析技术，通常检测深度定义为对应出射光电子动能在相应材料中的非弹性平均自由程（λ）的3倍。 XPS的探测深度也取决于所测试的材料，对于金箔样品的探测深度大约是5 nm，而对Si样品的探测深度大约为9 nm。XPS对于具体材料的探测深度可以通过查询IMFP数据，根据3λ估算探测深度。 问题2：俄歇谱图中LMM是什么意思？解答：俄歇电子是由于原子中的电子被X射线激发后，在退激发过程而产生的次级电子。XPS测试中X射线将在原子壳层中的电子激发成自由电子，会产生电子空穴后而处于激发态。退激发过程中处于高能级的电子可以跃迁到这一空位同时释放能量，当释放的能量传递到另一层的一个电子，这个电子就可以脱离原子出射成为俄歇电子。对于LMM俄歇电子如图所示：原子中一个L层电子被入射X射线激发成自由电子后，M层的一个电子跃迁入L层填补空位，此时多余的能量被另一个M层电子吸收产生二次电子，相应的俄歇电子标记为LMM。问题3：功函数的应用是啥？解答：功函数的定义是费米能级处的电子从样品表面逃逸出来，进入真空成为自由电子所需要克服的势垒，通常也称作逸出功。功函数是半导体光电器件和光催化等领域中非常重要的参数，与器件/材料的性能密切相关， 问题4：Mapping采谱时间？解答：Mapping谱图是由多个像素点组成，每个像素点都包含一张谱图，例如本次讲解的Mapping谱图是由256x256个像素点组成，共计65K个像素点。在本次测试中，能量分析器采用128通道非扫描模式进行采集Mapping谱图，对于含量较高的C/O/F元素谱图，采集时间分别为8分钟，而对于含量较低的S/Pt元素谱图，采集时间分别为16分钟。一个质量较好的Mapping谱图的采集时长会有多个因素影响，包括采集元素的类别/含量、X射线光斑尺寸/功率和Frame次数等参数，在采谱参数设定好后，Smartsoft软件会给出预估时间。问题5.怎么把拟合结果应用到谱图里面？用的什么软件？解答：Mapping谱图由多个像素点组成，每个像素点都包含一张谱图，通过MultiPak软件可回溯分析特定元素成像中每个像素点所对应的化学态谱图，对于谱图拟合可以通过多种分析方法进行拟合，包括常用的Curve fitting、LLS方法和TFA方法，在第三节数据处理的课程中会有相关内容的详细讲解，请关注。  问题6. 这个系统学习是在分析化学吗？解答：有些学校的分析化学课程可能会涉及部分表面分析技术。目前很多高校开设的课程，如材料分析、波谱能谱分析和仪器分析等课程可能包含有关XPS的内容。另外，有很多参考书籍也有XPS内容，可以自行学习。 问题7. 我之前看资料，说费米能级在0 eV，这是因为校准过吗？解答：在本次课程中所展示的金的UPS谱图是施加-9V偏压后测试所得到的，所以在偏压的作用下，整个UPS谱图会有相应的偏移，如果对偏压进行校准，费米能级会校准到结合能为0 eV处。 问题8：第20页PPT，X-ray作用深度可达um级别，但最终检测nm级别，为什么呢？由于网络问题，这中间的介绍没听到～解答：XPS是基于光电效应的一种表面分析技术，其中X-ray激发原子中的芯能级电子，可以通过检测出射的光电子得到XPS谱图。对于软X射线，其在固体中的穿透深度可以达到um级别，但是出射电子受限于较小的非弹性平均自由程，通常只有表面10nm以内光电子会在没有能量损失的情况下而被检测到，所以XPS是一种表面灵敏的分析技术。 问题9：第56页PPT，UPS测试的功函数计算，按公式应该是5.31，为什么是4.14？解答：在本例测试中，样品是半导体材料，计算得到的5.31eV对应于电离势，4.14 eV对应于功函数，具体计算公式如下：                                                问题10：刻蚀后，计算膜厚的公式是固定的么？解答：在通过刻蚀进行的深度分析中，膜厚是一个比较复杂的问题。通常会采用标准样品如SiO2对仪器刻蚀所用的离子枪标定刻蚀速率，有时会用刻蚀速率乘以刻蚀时间进行计算刻蚀深度。但是刻蚀实验中的材料的组分非常复杂，即使同样的刻蚀参数，实际的刻蚀速率会有很大的差别，所以通常的深度分析会更加关注随刻蚀深度增加，元素组分/化学态的变化趋势。刻蚀后的实际膜厚测量也可以采用表面轮廓仪或AFM设备，通过测量溅射刻蚀坑得到相对真实的溅射速率，然后校准厚度值。

当前全国正处于抗击新冠肺炎疫情的关键时期，PHI CHINA积极响应政府政策并做好防控工作。与此同时，PHI CHINA充分利用互联网资源，于2020年2月11日15点通过互联网平台为广大用户开设了线上培训课程，进行了专业理论知识培训，做到“战胜疫情”和“提升能力”两不误。本期网络讲堂“PHI CHINA 表面分析技术网络讲堂之光电子能谱专题”，包含光电子能谱相关的基本原理、谱仪结构、数据处理和实验技术四个课程，将通过互联网平台开展为期四天（2月11日-14日）的专题网络课程。今天是网络讲堂的第一课，由PHI CHINA应用专家鞠焕鑫博士进行光电子能谱基本原理讲解，在讲座中对ULVAC-PHI及PHI CHINA公司进行了简单介绍后，鞠焕鑫博士针对光电子能谱领域中的XPS/UPS/LEIPS的基本原理、技术特点及应用开展详细讲解。网络讲堂结束后，鞠焕鑫博士对参会听众的疑问进行了详细的答疑。本次网络讲堂共有来自高校和产业界的500多名用户参与，网络讲堂的学习形式也受到了广大用户的一致好评。我们将秉持为用户提供优质服务的初心，在疫情防控期间通过多种渠道继续为我们的用户提供优质服务，与大家携手发挥好PHI XPS仪器功效，进一步推动表面分析技术的应用和发展。看得见的是光芒看不见的是力量在这疫情防控关键时期，PHI CHINA所有员工听从号令，树立必胜信心，立足本职、加强业务学习，以更高标准做好各项工作，更好的为广大客户提供优质服务。注意！注意！注意！★答疑部分，整理好后将会分享给大家，让我们一同学习与讨论！ ★明天（2月12日）15时将学习光电子能谱的谱仪结构，千万不要错过哦！★为避免错过直播，请各位老师、同学进入公众号“PHI与高德”，点击菜单栏下方的“资料中心--网络讲堂”进入直播间，关注“PHI-CHINA”主播，一起学习吧！

 PHI CHINA 表面分析技术网络讲堂之光电子能谱专题  新型冠状病毒感染肺炎疫情防控工作正处于关键时期，疫情防控关乎每个人的生命健康，为减少公众交叉感染和降低传播风险，PHI CHINA积极配合国家的防控工作。PHI CHINA始终秉持初心，在疫情防控期间已经着手通过多种渠道继续为我们的用户提供优质服务，并于近期通过互联网平台连接我们的客户启动光电子能谱专题网络讲堂，与大家携手发挥好PHI XPS仪器功效，进一步推动表面分析技术的应用和发展。X射线光电子能谱仪作为表面分析领域重要的大型科学仪器，广泛应用于科学研究和高科技产业等领域。ULVAC-PHI独具特色的扫描聚焦型XPS可以提供高表面灵敏（）和高空间分辨(的化学态解析能力；通过与UPS和IPES相结合，可以实现对芯能级、价带和导带电子结构信息的全面探测；通过结合氩离子和团簇离子源（GCIB），可以实现对无机/有机多层膜结构材料进行深度剖析。为了帮助客户深入了解扫描聚焦型X射线光电子能谱仪的技术特点，提升大型科学仪器在表面分析中的功用，本期光电子能谱专题之网络讲堂将聚焦于光电子能谱原理、仪器结构、数据处理、实验技术以及日常维护等基本操作，网络讲堂具体安排如下：课堂号讲堂时间讲堂内容12020/2/11 15:00-17:00基本原理：XPS/UPS/LEIPS基本原理、技术特点及应用22020/2/12 15:00-17:00谱仪结构：光电子能谱仪器结构、样品制备及传输操作32020/2/13 15:00-17:00数据处理：谱图特点及利用MultiPak软件进行数据处理42020/2/14 15:00-17:00实验技术：谱仪器硬件/软件基本操作及日常维护      (特别针对现有PHI设备管理人员)        如有兴趣参加，请于2月9日前填写以下表格，回复至Nice.pan@coretechint.com 或 William.zhang@coretechint.com报名，或点击此链接进行报名https://www.wenjuan.com/s/R3mAbaD/。    需要注意的是，请提供有效E-mail地址以便接收网络讲堂参会邀请。姓名单位Email电话报名课堂号(可多选)     如有任何问题，可联系:           潘剑南 186 1230 0780, Nice.pan@coretechint.com           张 伟  185 0008 4171, William.zhang@coretechint.com 

关于新型冠状病毒疫情期间PHI CHINA高德公司售后服务安排的通知 尊敬的PHI用户：    时值新春佳节之际，PHI CHINA高德公司售后服务团队恭祝大家平安喜乐、健康平安、阖家幸福！PHI CHINA高德公司一直密切关注新型冠状病毒疫情形势。在这非常时期，PHI CHINA售后服务团队将积极配合国家的防控工作，和全国人民万众一心对抗病毒，为打赢这场不见硝烟的防疫攻坚战贡献自己的一份绵薄之力。     PHI CHINA售后服务节后工作安排如下：    1、全国地区客户服务工作于国家规定的日期开始（当地政府或用户单位有晚于此时间的，按当地政府或用户单位规定执行）。我司工程师最早至现场维护时间，将安排在2月17日或之后，避免人员的多地移动，降低交叉感染率。    2、提供电话支持热线（辛国强18610314866），及网络远程等方式，接受服务需求或提供技术咨询，我们将最大限度为您在线或远程提供实时支援与解决问题，将您停机时间缩为最短。    3、线上培训: PHI CHINA 将通过网络连接客户，提供表面分析相关的线上培训，详细安排将稍后公布。    4、耗材询价和采购，可通过售后客服热线010-62519668或直接联系售后工程师正常询价或订购。订购部份将安排在2月20日后开始迅速发货。5、持续密切关注疫情形势，根据实况及时调整服务，并及时与您更新。     隔离病毒，不隔离爱。面对此次疫情，PHI CHINA与售后服务团队将用一如既往的优质服务和大家一起共克时艰，打赢这场疫情防控阻击战！    加油武汉！加油中国！     高德英特（北京）科技有限公司2020年1月30日

天目湖先进储能技术研究院&ULVAC-PHI表面分析联合实验室揭牌仪式2019年11月25日，ULVAC-PHI&PHICHINA高德英特（北京）科技有限公司多种表面分析联合应用研讨会暨天目湖先进储能技术研究院&ULVAC-PHI表面分析联合实验室揭牌仪式在江苏溧阳市天目湖豪生酒店成功举办。揭牌仪式于上午8:30正式开始，PHI CHIAN叶上远总经理作为本次大会主持人，ULVAC-PHI海外销售总监Nobuaki Urushihara与天目湖先进储能技术研究院刘啸嵩院长分别致辞。Urushihara总监介绍了ULVAC-PHI在表面分析领域50年的发展历史。ULVAC-PHI专注于高灵敏、高能量分辨和高空间分辨技术研发，开发了一系列具有独特技术优势的表面分析设备，包括X射线光电子能谱(XPS)、反光电子能谱(IPES)、俄歇电子能谱（AES）、飞行时间二次离子质谱（Tof-SIMS）以及串联质谱(Tandem MS/MSMS) 等，这些分析设备可以提供元素组分、化学态、电子结构等关键信息，为表面特性研究及材料/器件性能提升起到了重要的作用。此次与天目湖先进储能研究院联手创办表面分析联合实验室，旨在结合ULVAC-PHI的表面分析仪器及研发实力，共同推动储能事业的发展。ULVAC-PHI海外销售总监Nobuaki Urushihara刘啸嵩院长介绍了天目湖先进储能技术研究院有限公司的基本情况，该研究院由中国科学院物理研究所与江苏中关村科技产业园联合签约创建，位于江苏常州溧阳。物理所陈立泉院士出任名誉院长，李泓研究员任院长。研究院集测试分析、失效分析、资质认证、技术开发、工程放大、智能制造、高价值信息服务、高端培训为一体，是一家独立第三方新型研发机构，同时也是储能技术开放型孵化基地。刘啸嵩院长致辞照片致辞过后，由天目湖先进储能技术研究院刘啸嵩院长与ULVAC-PHI PHI ULVAC-PHI海外销售总监Nobuaki Urushihara及应用技术总监Takuya Miyayama、PHI CHIAN叶上远总经理共同为联合实验室揭牌。从左至右：叶上远、Takuya Miyayama、Nobuaki Urushihara、刘啸嵩 在仪式之后的“ULVAC-PHI&PHICHINA高德英特（北京）科技有限公司多种表面分析联合应用研讨会”上，各位专家、学者分别带来了精彩的报告。报告结束后，参会嘉宾在PHI CHINA总经理叶上远的带领下参观了联合实验室。 Nobuaki Urushihara（左）、Takuya Miyayama（右）在实验室挂牌前合照 各位与会专家学者参观研究院 PHI CHINA叶上远总经理讲解AUGERPHI CHINA鞠焕鑫讲解XPSPHI CHINA辛国强讲解TOF-SIMS

近年来随着科学技术的飞速发展，先进的表面分析技术已经成为材料、能源、催化、微电子、半导体产业以及钢铁工业等领域研究表面特性所必需的实验技术。ULVAC-PHI在表面分析领域有着50年的发展历史，专注于高表面灵敏、高能量分辨和高空间分辨技术研发，开发了一系列具有独特技术优势的表面分析设备，包括X射线光电子能谱(XPS)、反光电子能谱(IPES)、俄歇电子能谱（AES）、飞行时间二次离子质谱（Tof-SIMS）以及串联质谱(Tandem MS / MSMS)等，这些分析设备可以提供元素组分、化学态、电子结构等关键信息，为表面特性研究及材料/器件性能提升起到了重要的作用。2018年12月15日，在南京百家湖畔，ULVAC-PHI和高德英特（北京）科技有限公司成功举办了“表面分析最新方法和应用研讨会暨PHI南京实验室创立大会”。本次研讨会邀请了来自清华大学、南京大学、东南大学、西北大学、西北师范大学、上海师范大学、南京理工大学、昆明理工大学、北京理工大学、扬州大学、台湾中央研究院、中国科学院化学研究所、上海应用物理研究所、高压科学研究中心、天目湖先进储能技术研究院以及贝卡尔特亚洲研发中心等用户单位的50余名参会代表。在本次研讨会中， ULVAC-PHI 亚洲区经理漆原宣昭先生、PHI China 执行总监叶上远先生及应用专家鞠焕鑫博士针对表面分析方法的发展与相关应用进行了详尽的报告，同时邀请清华大学分析中心姚文清老师和李展平教授以及台湾中央研究院的薛景中老师针对ULVAC-PHI分析设备在表/界面结构表征、药理活性成分分析以及光电器件制备及失效分析等领域的应用做了精彩报告。本次研讨会组织参会代表到PHI南京实验室现场参观，大家对仪器设备、分析方法进行了现场交流讨论。PHI南京实验室的创立将会进一步拓宽服务领域提高服务水平，通过与用户合作共同推动表面分析技术的发展。                     会议合影留念              叶上远先生进行了详尽的报告

PHI-CHINA向广东省分析测试协会表面分析专业委员会2018年度年会暨表面分析技术交流会在广东高明成功举办表示热烈祝贺。本次会议于2018年11月2~3日由广东省表面分析专业委员会，中国科学院广州能源研究所分析测试中心承办。会议上，来自各高校科研所的教授、老师们分别介绍了他们在太阳能电池、钙钛矿或OLED相关应用方面的最新研究成果。PHI-CHINA公司的执行总监叶上远先生就《PHI 5000 VersaProbe III – 原位XPS-UPS-IPES-GCIB分析设备》为题详细介绍了该设备：该设备能够提供从芯能级到费米能级的所有信息，包括价带（HOMO）和导带（LUMO），因此能够直接给出带隙信息，而无需任何间接假设。此外，原位的团簇氩离子枪（GCIB）的深度溅射扩展了其对多层XPS-UPS-IPES分析的可能性。ULVAC-PHI是全球唯一一家生产XPS、AES、Tof-SIMS、Dynamic-SIMS等全系列产品的表面分析仪器制造商，并始终致力于提供最符合世界需求的创新性仪器。                                                               参会人员合影留念

慕尼黑上海分析生化展（analytica China）是分析、生化技术和实验室技术的国际性博览会，专门面向飞速发展的中国市场。凭借着Analytica 的国际品牌，Analytica China 吸引了来自全球主要工业国家的分析、诊断、实验室技术和生化技术领域的厂商。自2002年首次登录中国以来，Analytica China已经成为中国乃至亚洲重要的分析、实验室技术、诊断和生化技术领域的专业博览会和展示交流平台。2018年10月31日-11月2日，Analytica China在上海新国际博览中心召开，近1,000家专业厂商汇聚一堂，PHI-CHINA公司亦为其中一员，展位号为E3.3528，执行总监叶上远先生，凌媚女士和张伟先生以及ULVAC-PHI的Takuji Shibasaki先生一同参展。在我司展位上，全自动的XPS仪器PHI X-tool亮相展会，这是世界上第一个触摸屏软件控制的XPS系统，拥有专利的硬件设计，高性能易操作，可预先设定条件后简单地检测多个样品，完全自动化分析；测试完成后，自动完成报告制作。同时，在定位测试样品时，采用“相机影像”、“实时相机影像”、“X射线激发二次电子影像”三种方法，配合这些功能，可以设定任意样品的分析位置。除了展示PHI X-TOOL外，其他XPS系统、AES系统、Tof-SIMS系统中最新的研发成果也在此次展会上亮相。作为ULVAC -PHI在中国的唯一代表，PHI-CHINA将继续努力使我们品牌更加知名，且享有更高的声誉。 从左至右分别为：Takuji Shibasaki先生，叶上远先生，张伟先生，凌媚女士

    即将步入2018年冬季，PHI-CHINA联合ULVAC-PHI专家开启了客户回访之旅， Minoru Kodama先生作为ULVAC-PHI的专家和PHI-CHINA资深工程师辛国强先生用了数周时间，拜访了全国各地的客户，了解客户在使用中遇到的问题，并与用户互为探讨，后，得到来自客户关于我们表面分析设备的真实而宝贵的反馈，帮助我们在日后的工作中更好的服务客户。            拜访期间，Minoru Kodama先生与辛国强先生还与客户就仪器设计、操作和应用等方面进行了深入的交流。同时，Minoru Kodama先生一并对设备进行了全方面的检查，确认了客户的设备性能极佳且处于最好的运行状态。PHI-CHINA和ULVAC-PHI保持持续紧密合作，帮助客户去探索和表达，让我们能够全方位的了解客户需求，为广大客户提供更好的分析仪器产品和更优的售后服务。Minoru Kodama先生简介：Minoru Kodama先生于2004年进入ULVAC-PHI公司工作，在ULVAC-PHI研发部工作多年，全程参与设备的定制、设计、生产及产品升级等，全面了解XPS系统的软件和硬件。从2018年起，Minoru Kodama先生加入ULVAC-PHI国际售后服务支持团队，该团队致力于确保客户非常满意地使用PHI公司的表面分析设备。                                  南京大学用户史孝霞与Minoru Kodama先生在访问期间合影                  西北大学用户丁志琴和闻小琴与Minoru Kodama先生在访问期间合影                  湖北工业大学用户李坚与Minoru Kodama先生和PHI-CHINA工程师陶志杰在访问期间合影

PHI-CHINA公司向2018年10月12日-15日由新加坡国立大学、苏州大学和南京大学在苏州共同承办的2018全国表面分析科学与技术应用学术会议取得圆满成功表示热烈的祝贺。此次会议吸引了国内外250多名专家学者参会，参会人数众多创历年之最。众参会者在表面分析会议这个平台上就最新的表面分析技术及其应用进行了深入而热烈的探讨，促进了表面分析技术与其他学科的融合，加强同行之间的交流与合作。自全国表面分析科学与技术应用学术会议创办之始，PHI-CHIAN公司从未缺席。而此次PHI-CHINA公司更是以钻石赞助商的身份协同ULVAC-PHI公司一同参加此次会议，并在会议上做了相关专题的报告。ULVAC-PHI公司的张薰匀博士在会上介绍了最新的低能量反光电子能谱（Low Energy Inverse Photo-electron Spectroscopy）技术，该项技术装配于PHI 5000 VersaProbe III光电子能谱仪上，实现了XPS-UPS-IPES在同一点分析的功能，甚至可以通过氩离子枪或GCIB（团簇氩离子枪）进行深度分析。此新技术引起了人们对世界上流行的太阳能电池，钙钛矿，OLED等应用的极大兴趣。当日盛大的会议开幕晚宴由PHI-CHINA与ULVAC-PHI共同赞助，来自中国和世界各地的参会者共同开启了一场美食与表面分析技术交融的盛宴。                                               PHI-CHINA与ULVAC-PHI赞助晚宴                                                       会议合影留念

2018年10月，PHI-CHINA受邀参加第九届中国国际纳米技术产业博览会（以下简称纳博会），并在胜科纳米（苏州）有限公司举办的研讨会上发表演讲。研讨会的主题为分析测试方法的应用。PHI-CHINA的执行总监叶上远先生就“软/硬聚焦X射线源相结合的商品化XPS仪器”这一主题发表演讲，并详细介绍了PHI Quantes，PHI Quantes装备了双单色仪，分别用于产生单色化并且可扫描的Al K-Alpha 和 Cr K-Alpha X射线。两种类型的X射线都具有数十微米的空间分辨率和成像能力。当这两种X射线组合成一台XPS系统时，可为研究人员提供灵活的检测深度信息的方式，解决了一个在实际分析中常遇到的问题，即当需要分析的样品表面覆盖了太厚的污染物导致没有有效数据的问题。PHI-CHINA自2009年起是ULVAC-PHI在中国的唯一代表。我们一直努力推广ULVAC-PHI最佳的表面分析仪器，并向所有表面分析仪器用户提供最优质的售后服务。                 纳博会晚宴

PHI-CHINA热烈祝贺 “第七届中国二次离子质谱会议”（The 7th Chinese National Conference On Secondary Ion Mass Spectromertry,SIMS-China VII）于2018年10月8日至12日在苏州成功举办。该会议由中国真空学会、中国电子学会电子材料学分会主办，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所真空互联实验室承办。SIMS会议每两年举办一次，清华大学著名的二次离子质谱专家查良镇教授是该会议的倡议者和创办者。ULVAC-PHI公司的漆原宣昭先生（Nobuaki Urushihara）、柴崎琢自先生（Takuji Shibasaki）、Shinichi Iida先生、Hsunyun Chang女士和Ashley Ellsworth女士专程来华参加此次会议，同时PHI-CHINA公司的执行总监叶上远先生、凌媚女士、张伟先生和朱润德先生也一同参加。致力于二次离子质谱科学研究与人才培养，大力发展SIMS技术在中国的应用，推进与国际SIMS领域的深入交流。Ashley Ellsworth女士在会上就“二次离子质谱与质谱的串联成像来表征有机和无机材料”进行了一次非常有趣的讨论。她用两个例子来解释这个新兴的方法，其中一个案例讲述的是研究亚马逊蜻蜓的翅膀。结合新开发的串联质谱连用技术，Tof-SIMS将在生物学领域再一次取得突破。多年来，SIMS已成为世界上非常强大的分析技术，帮助研究人员学术研究与技术支持。而中国的SIMS协会快速成长为世界上最大的SIMS协会之一。在2017年，波兰国际SIMS会议上，中国参与人数创历史新高。我们相信SIMS技术将继续在中国市场发挥更重要的作用，同时中国也将成为SIMS最重要的市场之一。PHI-CHINA是全球唯一一家生产XPS、AES、Tof-SIMS、Dynamic-SIMS等全系列产品的表面分析仪器制造商，也是本次活动的固定赞助商。SIMS会议合影，从左至右分别是：Shinichi Iida先生，Nobuaki Urushihara先生，Ashley Ellsworth女士，Takuji Shibasaki先生，Hsunyun Chang女士，叶上远先生，张伟先生                               Ashley Ellsworth博士介绍质谱串联的新的表征材料方法                                                                       SIMS会议合影

2018年9月2-5日，中国科学技术大学国家同步辐射实验室在安徽合肥成功举 “同步辐射谱学在能源材料中的应用”国际学术研讨会。近100位世界各地的学者参与此次会议。中国科学技术大学（以下简称“中科大”）是世界上为数不多的拥有同步辐射装置的单位之一。而多年来，中科大同步辐射实验室在各个研究领域也做出了巨大的贡献。PHI-CHINA荣幸作为赞助商之一，被邀请参与此次会议。我们的执行总监叶上远先生也有幸在研讨会上向参会者介绍我司最新研发的硬X射线光电子能谱仪——PHI Quantes。PHI Quantes利用铬（Cr）作为硬X射线的激发源，其能量为5414.9eV。与常用的铝（Al- K-Alpha）激发源的光电子能谱仪比起来，PHI Quantes能提供3倍的深度方向信息。除此之外，PHI Quantes提供的Cr硬X射线能够聚焦到数十微米范围来扫描指定区域。这为我们未来的XPS分析技术的开发提供了一些令人感兴趣的思路。PHI-CHINA再次祝贺中国科技大学和朱俊发教授举办的本次研讨会取得圆满成功，并希望将来我们有更多的机会与中国科技大学合作。与会人员合影元素路径: body > p > span > img当前已输入479个字符, 您还可以输入9521个字符。

中国材料大会于2018年7月在美丽的海滨城市厦门召开。数百家公司参与此次展会，并在会上展示了他们用于材料研究的最新技术。PHI-CHINA作为表面分析技术领域的供应商之一，参与了此次展会。在本次展会中，有一个海报展览活动，令人意想不到的是，有超过40张海报利用了表面分析技术来表征某些材料的特性，例如XPS（X射线光电子能谱仪）和AES（俄歇电子能谱仪）等设备，给科研和产品开发上提供莫大的帮助，也印证了在材料研究中表面分析技术的重要性。今年是PHI-CHINA连续第四年参与该展会。我们的执行总监叶上远先生有幸在本次展会上就“串联质谱——新的材料表征方法”该主题发表演讲，详细介绍了串联质谱表征方法与飞行时间二次离子质谱表征方法。传统的飞行时间二次离子质谱已然有很多优势，如其能够检测氢元素、高达PPM甚至PPB的检测限、快速的平行检测以及亚微米级的空间分辨率。当加入新的串联质谱之后，飞行时间二次离子质谱可精确的区分高质量（>200amu）的峰位和其分子结构。这是表面分析领域的又一项重要技术成就。PHI-CHINA将一如既往地全力开拓中国市场，为广大用户提供最优质的表面分析仪器和售后服务。我们祝愿中国材料大会继续取得更大的成功，同时也为我们每年能参与展会而感到自豪。叶上远先生主题为“串联质谱——新的材料表征方法”的演讲叶上远先生与与会人员交流答疑叶上远先生拍摄于中国材料大会（厦门）

第二届清华大学深圳研究生院表面分析技术应用研讨会暨培训班于2018年3月22至23日在清华研究生院的报告厅成功举办。此次培训班由清华大学深圳研究生院主办，ULVAC-PHI与PHI （China）高德英特公司共同协办。来自清华大学研究生院的师生及国内各高校相关专业的老师与专家共计200余名业界人士参加了此次培训。 此次培训班跟第一屆一樣，也是以“研讨会+培训课”的模式进行。在研讨会上，ULVAC-PHI原厂科学家张熏匀博士、漆原宣昭教授和台湾中央研究院薛景中教授作为特邀嘉宾，为参会人员介绍了表面分析最新技术和应用，使得参会者更深刻地了解到表面分析工具可提供讯息之多、可应用领域之广；培训课程的特邀嘉宾则是来自PHI（China）的执行总监叶上远先生，他为参会者带来的分享是MSMS Tof （Tandem MS）串联质谱在 Tof-SIMS 表面分析技术的突破和广大应用等内容。此外，张熏匀博士和叶上远先生还在整个培训期间提供了全程技术咨询，两位专家就与会人员关注的光电子能谱新研究方向、性能以及相关技术应用问题，为参会的各位师生、专家进行了逐一解答。高德中国区总监叶上远正在作专业的报告大合照

2017年8月10日，由PHI-China高德英特（北京）科技有限公司主办的“ULVAC-PHI表面分析应用与技术用户会”于汕头大学圆满结束。此次会议有清华大学、南京大学等国内各高校相关专业的多位老师与专家及学生参加. 会议开始，PHI（China）的执行总监叶上远先生首先致辞，欢迎全国从事表面分析研究与分析的新老朋友共聚一堂，共同探讨XPS的前沿发展、分享最新应用、使用仪器的心得。随后就PHI XPS粉末微区分析表征上的最新研发进展做了详细的报告，并对“IPES 反光电子能谱UPS联用的应用”和“ULVAC-PHI 仪器多种联用技術”分别做了专题报告，得到了与会者的一致认可。 此外，此次会议还特邀台湾中央研究院薛景中先生就“Ion gun co-sputtering XPS Applications X” 做了相关专题报告及学术探讨。 作为嘉宾的ULVAC-PHI 亚洲区销售经理 Mr. Takuji Shibasaki 柴崎琢自先生就如何进行更好使用 “ULVAC-PHI Ellipsometer 椭偏仪”进行详细介绍和说明。另一位嘉宾ULVAC-PHI原厂科学家张熏匀博士则对“Tof-SIMS 最新材料应用”相关研究进展做了细致详尽的讲解；并与会者分享“ XPS和AES数据处理技巧”，同时就大家一些问题做了热烈、充分的讨论。 与会者一致认为，通过此次用户会，对PHI公司及其产品有了更加深入的认识与了解，对科研过程中碰到的一些问题也有了新的思路与方法。 我们也感谢各位与会者的参与和支持，希望通过用户交流会，为原厂、用户和学校及科研机构搭建的技术交流和共享平台，在此平台中，老师们对相关领域的探讨碰撞出更多的思维火花，并能在以后的科研中取得更多的新成果。 PHI与XPS研究者共同进步！

2017年5月19-20日，“表面分析技术X射线光电子能谱仪应用研讨会暨培训班”在清华大学成功举办。此次活动由清华大学摩擦学国家重点实验室主办，ULVAC-PHI与PHI （China）高德英特公司共同协办。来自清华大学的师生及国内各高校相关专业的多名老师与专家参与了此次活动。 在第一天的研讨会中，来自ULVAC-PHI原厂科学家张熏匀博士作为特邀嘉宾，与来自PHI（China）的执行总监叶上远先生，分别为参会人员介绍了X射线光电子能谱仪（XPS）、扫描式聚焦X射线光电子能谱分析仪(PHI Quantera-II)的原理、功能及应用范围，分享了PHI在微区方面（尤其是SPS在微区定位中）的应用與及使用不同濺射源的深度分析应用（包括Ar、C60和GCIB離子源等），并带来了关于XPS表面分析新技术Hard X-ray (HAXPES)和XPS配合UPS/IPES的新应用介绍以及关于表面分析新技术MSMS的简介及应用。两位专业人士带来的分享让参会者更深刻地了解到在研究中如何更有效、更高效地利用XPS。在接下来的学术讨论环节，互动主体主要围绕XPS在研究领域中的应用展开。讨论结束后，主办方带领参会者参观了清华大学摩擦学国家重点实验室，并就现场带样测试的Demo进行了Live Demo的实时分析、演示。 第二天的活动则以培训为主。叶上远先生为参会者讲解了光电子能谱仪数据分析，包括全谱/窄谱、峰校正、定性/定量分析、灵敏因子、分峰拟合、峰形、峰背景概念等，并结合第一天下午的Live Demo进行了数据分析的讲解，包括分峰拟合、深度分析、线扫描、面扫描影像数据处理方法等内容。 在针对现场带样测试的答疑和讨论环节，叶上远先生与大家分享了XPS形貌分析以及样品观察与测量的各种技巧，并为携带样品到现场测试的用户解答了疑难问题。在双方热烈的讨论和交流中，活动逐渐走向尾声。ULVAC-PHI 亚洲区销售经理 Mr. Takuji Shibasaki 柴崎琢自 致词ULVAC-PHI 应用科学家张熏匀博士 在做演讲与会者认真聆听报告并积极参与多名與會者进行答疑与现场讨论

2017年5月18日，由清华大学材料中心主办、ULVAC-PHI与PHI （China）高德英特公司共同协办的“表面分析技术俄歇电子能谱仪应用研讨会暨培训班”在清华大学成功举办。此次活动吸引了来自清华大学的师生及国内各高校相关专业的多位老师与专家。 此次培训班以研讨会与培训+实验室参观演示的模式进行。在研讨会上，ULVAC-PHI原厂科学家张熏匀博士作为特邀嘉宾，为参会人员介绍了俄歇电子能谱仪（AES）的原理及应用范围；来自PHI（China）的执行总监叶上远先生则为参会人员介绍了扫描俄歇纳米探针（PHI710）的功能及特点，让参会者更深刻地了解在材料分析研究中如何最有效的利用俄歇电子能谱仪（PHI710）实现材料分析测试；此外，EBSD公司也在会上介绍了EBSD应用。 PHI（China）的执行总监叶上远先生在下午的培训课中进行了MultiPak的演示，并就参会者提出的相关问题进行了一一解答。提问答疑结束后，作为此次活动的收官环节，PHI（China）的主任工程师辛国强先生带领参会者参观了清华大学材料学院实验室的扫描俄歇纳米探针（PHI710）并进行了现场演示实验。 作为中国表面分析市场的领军企业，PHI在中国区业务拓展过程中一直在不断探索如何让中国用户享受到全球一流的表面分析技术专业服务。从用户角度出发，切实加强售后服务和用户体验，正是PHI一直秉持的理念。在这一理念的引导下，PHI不断加大售后及运营管理方面的投入，此次活动即是PHI践行该理念的系列举措之一。PHI旨在通过这样的活动和投入，使得购买PHI产品的用户不仅在售后服务上免除了后顾之忧，更能够享受到一流的技术支持、培训交流、行业互动等产品以外的增值服务。PHI将继续致力于促进用户间技术交流与提升，分享推广最佳实践成果，优化解决方案，为中国表面分析行业的发展竭诚尽智！  2017年5月18日，清华大学材料中心会议室，由陶琨老师做简短的会议致辞。EDAX中国公司应用专家严琴舫介绍EBSD的功能和应用ULVAC-PHI 亚洲区销售经理 Mr. Takuji Shibasaki 柴崎琢自 致词叶上远（Wensly.Yip）在做MultiPak的演示叶上远（Wensly.Yip）总监致辞辛国强（PHI-China主任工程师）带领与会者实验室参观、演示PHI710

“2017第十四届南京（ESEE）”于2017年4月14日-16日在南京国际展览中心举办，展会取得了圆满成功。 在此次展会上我司介绍了我司核心产品：飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）、俄歇电子能谱仪（AES）、X射线光电子能谱仪（XPS），吸引了学校一线使用者、教师、科研项目带头人等莅临我司展位，并与之沟通交流，相互学习，使与会者对我司产品有了更充分的了解，也使得我司进一步了解和明确了用户需求。ESEE大会现场高德公司在会议中设置的展台高德中国区总监叶上远耐心细致地为观众们进行了答疑解惑

2017年4月6-8日，第十五届中国国际科学仪器及实验室装备展览会（CISILE2017） 在北京国家会议中心隆重举行。 此次展会汇聚了来自海内外众多知名企业参展，同时也吸引了来自业界各科研院所、院校的大批专业观众到会参观。我司在此次展会上全方位展示和介绍了我司核心产品飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）、俄歇电子能谱仪（AES）、X射线光电子能谱仪（XPS），引发了与会观众的浓厚兴趣和高度关注。莅临我司展位的专业观众纷纷就产品的功能、性能并结合他们自身研究方向所遇到的问题向我司提出咨询，我司现场值守的技术人员则耐心细致地为观众们进行了答疑解惑，展位现场形成了“展示-交流-互动”的良好氛围。 本次展会为我司提供了与业界人士沟通交流的平台，也为我司提供了与各领域专家交叉学习的宝贵机会。我司在本次展会的成功亮相使得更多人了解到我司产品应用的广泛性，除材料分析领域之外，飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）、俄歇电子能谱仪（AES）、X射线光电子能谱仪（XPS）产品还广泛应用于医药、食品安全、生物科技等众多领域。CISILE 活动现场高德公司在会议中设置的展台技术人员则耐心细致地为观众们进行了答疑解惑

清华大学深圳研究生院表面分析技术应用研讨会暨光电子能谱仪培训班于2017年3月31日至4月1日在清华研究生院的报告厅成功举办。此次培训班由清华大学深圳研究生院主办，ULVAC-PHI与PHI （China）高德英特公司共同协办。来自清华大学研究生院的师生及国内各高校相关专业的老师与专家共计200余名业界人士参加了此次培训。 此次培训班以“研讨会+培训课”的模式进行。在研讨会上，ULVAC-PHI原厂科学家张熏匀博士作为特邀嘉宾，为参会人员介绍了表面分析最新技术和应用，使得参会者更深刻地了解到表面分析工具可提供讯息之多、可应用领域之广；培训课程的特邀嘉宾则是来自PHI（China）的执行总监叶上远先生，他为参会者带来的分享是关于光电子能谱仪数据分析的讲解，以及包装定性定量、分峰拟合、深度分析和图像处理方法等内容。此外，张熏匀博士和叶上远先生还在整个培训期间提供了全程技术咨询，两位专家就与会人员关注的光电子能谱功能、性能以及相关技术应用问题，为参会的各位师生、专家进行了逐一解答。会议中设置的展台高德中国区总监叶上远正在作专业的报告ULVAC-PHI原厂科学家张熏匀博士正在作专业的报告

清华大学深圳研究生院表面分析技术应用研讨会暨光电子能谱仪培训班（第一轮通知）清华大学深圳研究生院于2016年底完成PHI 5000 VersaPrboe-II扫描聚焦型X射线光电子能谱仪器（ULVAC-PHI,Inc.）的安装、调试工作，设备全部功能现已正式对外开放。光电子能谱仪被广泛应用于各类材料的研究中, 包括：有机发光体(OLED)、太阳能电池、锂电池、燃料电池、石墨烯、食品安全等。借助表面分析手段，可实现产品工艺改良和性能提高的目的，尤其光电子能谱(XPS)和紫外光电子能谱(UPS)都提供了材料的关键信息，是不可或缺的研究手段。目前，XPS可实现较高的空间分辨（）能力，配合团簇离子源的逐层剖析功能可实现多层有机/无机结构材料无损深度分析, 进一步提高了表面分析应用的深度和广度。此外, 配合样品传输管可使样品在真空或惰性气氛下转移和传输，有效地避免样品在转移过程中可能存在的污染。为增进广大师生对XPS功能的了解，提高对XPS数据分析处理能力，清华大学深圳研究生院材料与器件检测中心将邀请ULVAC-PH原厂工程师及其中国代表公司PHI(China)高德英特(北京)科技有限公司相关工程师，针对该中心现有X射线光电子能谱仪仪器的功能和应用范围,开展一次技术交流活动。本次活动将分为两个主要部分：第一部分将以研讨会的方式进行,邀请ULVAC-PHI原厂科学家对表面分析最新的技术和应用作出讲解，让与会者再一次清楚的了解现今的表面分析工具可以提供怎么样的讯息，以应用在各种研究范畴上；第二部份以培训班进行，目的为提供参会人士如何对光电子能谱的分析数据进行进理、包装定性定量、分峰拟合、深度分析和图像处理的方法。活动详细安排如下:1.    会议时间、地点:会议时间：2017年3月31日下午2:00 至 6:002017年4月1日上午 9:00 至 下午 6:00地址：清华大学深圳研究生院能源与环境大楼报告厅 2.    会议安排:3月31日星期五1:30pm ~ 2:00pm – 报到时间2:00pm ~ 2:10pm – 研讨会开场, 领导致辞2:10pm ~ 2:50pm – XPS 的多种应用讨论叶上远 (PHI China)2:50pm ~ 3:30pm – ULVAC-PHI 科学家应用讨论报告 (ULVAC-PHI)3:30pm ~ 4:00pm – Break Time, 仪器参观4:00pm ~ 4:30pm – ULVAC-PHI 科学家 XPS 原理 (ULVAC-PHI)4:30pm ~ 5:30pm – Live Demo 实时分析演示和讨论5:30pm ~ 6:00pm – Q&A,4月1日星期六9:00am ~ 10:15am – 全谱/窄谱, 峰较正, 定性/定量分析, 灵敏因子10:15am ~ 12noon – 分峰拟合, 峰形, 峰背景概念1:30pm ~ 3:00pm – 分峰拟合复杂案例分析3:00pm ~ 3:30pm – Break Time3:30pm ~ 5:00pm – 深度分析, 线扫瞄, 面扫瞄影像数据处理5:00pm ~ 6:00pm – Q&A 3.    会议报名与收费研讨会会议免费。请以以下格式报名, 将报名信息填妥后发送邮件至:geng.huanran@sz.tsinghua.edu.cn或电话联络：耿焕然: +86-15019479017 （0755-26036417）参会人姓名单位名称联系电话(注：为合理安排会场，请大家提前报名，报名截止日期2017年3月27日)  

2017先进功能材料及计算材料国际研讨会于2017年1月7至8日在深圳成功召开。该会议由清华-伯克利深圳学院（TBSI）、清华大学深圳研究生院共同主办。此次会议吸引了来自中国、美国、日本、香港等多个国家和地区200多位专家学者、高校师生和政界参与，从学术和产业化视角探讨先进功能材料和计算材料的研究进展，以及将两者结合促进相关产业发展的现状。 本次会议是清华-伯克利深圳学院（TBSI）主办的首次国际研讨会，在举办前期即获得了广泛关注和热情参与，研讨会将为国内外杰出科学家与企业家搭建一个交流与合作的平台，以推动先进功能材料及计算材料学的应用进程。高德英特PHI China公司有幸以参展商的身份获邀参会，包括公司中国区执行总监叶上远先生和高级销售经理鲁德凤都参加了本次会议, 并在此次大会上展示了XPS光电子能谱, AES俄歇能谱和Tof-SIMS飞行时间二次离子质谱等的最新技术和相关产品。而高级销售经理鲁德凤女士就这些产品的功能、性能和所涉及的相关技术应用问题，为现场的各位专家、教授进行了逐一解答。高德公司在会议中设置的展台2017先进功能材料及计算材料国际研讨会大会现场

第三届亚洲粘土会议（The 3rd Asian Clay Conference）于2016年11月18日至20日在广州成功召开。该会议由中国科学院广州地球化学研究所主办，西南科技大学、中国矿物岩石地球化学学会、国家自然科学基金委员会及广州市科学技术协会协办。   此次会议吸引了来自海内外近百所知名高校及科研机构的250多名专家参会，我公司有幸以参展商的身份获邀参会。结合此届会议主题“小尺度，大科学”（Small Size, Big Science）及大会研究讨论的方向——粘土地球科学、粘土与环境、粘土功能型材料、粘土纳米粒子和健康、粘土与微生物、分子模拟/表征技术的粘土矿物研究等，我司在此次大会上集中展示了TOF-SIMS产品。该产品引起了众多行业专家、教授的广泛关注。我司高级销售经理鲁德凤女士就该产品的功能、性能并结合与会专业人士研究中所涉及的相关问题，为现场的各位专家、教授进行了逐一解答。 此次会议给我司提供了一个与各国及各领域专家、学者进行沟通与交叉交流、学习的平台，不仅展示了我司的最新产品，也提升了我司在该领域的品牌知名度和影响力。高德公司在会议中设置的展台高级销售经理鲁德凤女士为现场的各位专家、教授进行了逐一解答

2016 ULVAC-PHI 国际销售会议于2016年10月11至14日在日本成功召开。ULVAC-PHI 国际销售会议每两年一次，销售代表来自世界各地，本届销售代表包括欧洲、美国、韩国、俄罗斯和香港等等。在这个会议上，高德多年来的努力得到ULVAC-PHI的认同，我们非常荣幸能收到ULVAC-PHI的奖座和赞赏。ULVAC-PHI  国际销售会议大合照

第六届中国二次离子质谱会议于2016年10月8至11日由中科院分离分析重点实验室在中国科学院大连化学物理研究所成功举办。  第六届中国二次离子质谱会议是一个国际性的盛会。大会邀请到一共一百多名国内外SIMS研究人员出席了会议，当中包括上届国际SIMS大会主席、英国国家物理实验室Ian Gilmore教授，美国分析化学杂志(Analytical Chemistry)副主编、瑞典歌德堡大学Andrew Ewing教授和日本京都大学Jiro Matsuo教授等等。会上，专家针对SIMS仪器研发、理论发展及其在不同领域的开拓应用进行了精彩的汇报 ，ULVAC-PHI分析室专门室长饭田真一先生和高德叶上远先生有幸获邀参会并在会上做了精彩的分享。叶上远先生的报告以“Analyzer Acceptance Angle & The Advent of 3D Chemical and Molecular Imaging by FIB-TOF Tomography”为主题；饭田真一先生的报告主题则是“Easy Compound Identification in TOF-SIMS By using Parallel Imaging MS/MS”。第六届中国二次离子质谱会议会议现场高德中国区总监叶上远正在作专业的报告ULVAC-PHI 分析室專門室長飯田真一正在作專業的報告

致各位老师、专家和单位人员： 高德将会在仪器讯息网上进行网络讲堂，讲者为高德的叶上远先生，题目是飞行时间二次离子质谱仪在最新的MS/MS串联技术后的研究应用和突破，现欢迎各位参加。网络讲堂的详情如下:日期: 2016年12月02日 (星期五)时间: 早上十时正至十一时三十分题目: 飞行时间二次离子质谱仪在最新的MS/MS串联技术后的研究应用和突破 内容简介: 飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）一直被广泛应用在科研和工业领域中，例如在半导体的杂质分析、高技术的微观尺度材料分析以及聚合物和有机材料的剖析中。 TOF-SIMS在表面分析中虽然有着极高的表面灵敏度和亚微米级的空间分辨率等优势，但当每次检测一些添加剂和聚合物组成的混合物时都会面临如何正确解析数据和判定成分的实际困难。为了解决这个问题，ULVAC-PHI公司开发了配备有非破坏性串联质谱（MS/MS）的TOF-SIMS仪器，并将其应用到各种有机材料和生物应用当中。MS / MS的出现不仅使质谱分析变得更容易，而且在对分析结果的判定方面有了实质性的飞跃，不再是对分析结果的猜测，而是获得明确清晰的答案。在本次报告中，我们将详细介绍该仪器和新技术的基础原理及应用，让大家更全面、细致的了解该仪器如何在现今的科研工作中帮忙解决各种实际的问题。如果有兴趣的话，可在此http://www.instrument.com.cn/webinar/meeting/meetingInsidePage/2218 报名。

2016年9月，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所（以下简称苏州纳米所）在苏州成功举办了2016表面分析技术光电子能谱仪应用研讨会。 此次研讨会汇聚了来自胜科纳米（苏州）、苏州晶湛半导体、宝钢研究院分析测试中心、大连理工大學、上海师范大学等业界同行及科研机构师生共五十余名精英。与会人员就光电子能谱的最新发展以及应用进行了深入的探讨和交流。此次会议还成功邀请清华大学测试中心李展平教授、台湾中央研究院薛景中教授、高德英特公司叶上远先生以及ULVAC-PHI公司漆原宣昭教授到会并分享了精彩的报告。 苏州纳米所是由中国科学院与江苏省人民政府等共同创建的国家研究机构，在表面分析行业内一直是科研方面的领军单位之一。作为此次研讨会的主办方，苏州纳米所对于ULVAC-PHI公司的研发能力和产品制造一贯给予充分的认可和肯定。在此次会议之前，苏州纳米所刚刚向ULVAC-PHI公司采购了多功能扫描式X射线光电子能谱分析仪（PHI5000VersaPraobe II）。苏州纳米所表示将充分利用自己的技术优势，最大限度的发挥该设备的功效。2016表面分析技术光电子能谱仪应用研讨高德叶上远先生正在作專業的報告ULVAC-PHI 漆原宣昭博士正在作專業的報告