ULVAC-PHI & PHI CHINA 表面分析最新方法与应用研讨会 暨PHI南京实验室创立大会

近年来随着科学技术的飞速发展，先进的表面分析技术已经成为材料、能源、催化、微电子、半导体产业以及钢铁工业等领域研究表面特性所必需的实验技术。ULVAC-PHI在表面分析领域有着50年的发展历史，专注于高表面灵敏、高能量分辨和高空间分辨技术研发，开发了一系列具有独特技术优势的表面分析设备，包括X射线光电子能谱(XPS)、反光电子能谱(IPES)、俄歇电子能谱（AES）、飞行时间二次离子质谱（Tof-SIMS）以及串联质谱(Tandem MS / MSMS)等，这些分析设备可以提供元素组分、化学态、电子结构等关键信息，为表面特性研究及材料/器件性能提升起到了重要的作用。

2018年12月15日，在南京百家湖畔，ULVAC-PHI和高德英特（北京）科技有限公司成功举办了“表面分析最新方法和应用研讨会暨PHI南京实验室创立大会”。本次研讨会邀请了来自清华大学、南京大学、东南大学、西北大学、西北师范大学、上海师范大学、南京理工大学、昆明理工大学、北京理工大学、扬州大学、台湾中央研究院、中国科学院化学研究所、上海应用物理研究所、高压科学研究中心、天目湖先进储能技术研究院以及贝卡尔特亚洲研发中心等用户单位的50余名参会代表。在本次研讨会中， ULVAC-PHI 亚洲区经理漆原宣昭先生、PHI China 执行总监叶上远先生及应用专家鞠焕鑫博士针对表面分析方法的发展与相关应用进行了详尽的报告，同时邀请清华大学分析中心姚文清老师和李展平教授以及台湾中央研究院的薛景中老师针对ULVAC-PHI分析设备在表/界面结构表征、药理活性成分分析以及光电器件制备及失效分析等领域的应用做了精彩报告。

本次研讨会组织参会代表到PHI南京实验室现场参观，大家对仪器设备、分析方法进行了现场交流讨论。PHI南京实验室的创立将会进一步拓宽服务领域提高服务水平，通过与用户合作共同推动表面分析技术的发展。

                     会议合影留念

              叶上远先生进行了详尽的报告