2014-11-28 10:52
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Ar-GCIB团簇离子尺寸测量配件作为优化GCIB溅射能力的有效工具,能够实现溅射损伤和溅射速率之间的平衡,为新型纳米材料和复杂混合样品的深度分析提供了强大工具。
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当用XPS仪器分析绝缘样品时,样品表面必须保持电中性,即样品表面无静电荷分布。假设样品表面分布有静电荷,就会导致光电子飞出的动能发生变化。通常表面荷电会导致光电子动能减小,即结合能向高端偏移。 为了很好的解决这个问题,ULVAC-PHI公司的XPS设备增加了双束中和枪的功能,中和枪为绝缘样品荷电区域提供了稳定的荷电补偿。
样品自制备后到放入分析室,确定分析位置需要经过几个步骤,各个步骤的精确定位以及样品导航,在ULVAC-PHI的XPS光電子能譜儀儀器上均经过精心设计,以满足用户不同层次的需求。本文将分别以PHI Quantera II(简称QII) 与PHI-5000 VersaProbeII (简称VP II)样品导航和定位为例,深入介绍ULVAC-PHI的XPS在该方面的设计理念及实际操作。