核心参数
曝光模式: 接近式
产地类别: 进口
分辨率: 0.8um
光源: 激光
光源波长: 405nm
光强均匀性: 3%
曝光面积: 92X100mm
是一个高价值的直写激光光刻机系统,面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。
它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西,从光掩模到基础科学或应用科学的研究原型,集成相机可以用来调整现有的功能写。
我们对其进行了优化,以便于使用和简单维护,最大限度地利用现成的部件,而不牺牲书写质量或功能。
直接激光书写光刻
直接激光光刻技术通过消除光掩模生产对外部供应商的依赖,大大降低了微流体、微电子、微机械和材料科学研究等领域的成本和执行时间。
其控制软件在PC上提供。它允许您从GDSII文件的单元格或直接从PNG图像导入要写入的设计。
一切都是通过一个用户友好的图形界面来完成的,它允许您在执行之前预览要编写的设计。
除了对每个设计应用旋转、反射、反转或比例调整等变换外,还可以在单个过程中组合多个设计。
在确定了设计方案后,采用了所包含的工作台控制模块和共焦显微镜。
使用它们,您可以设置基片上工艺的原点位置和感光表面上的焦平面。
接下来执行该过程并将设计写在表面上。
技术指标:
XY工作台
典型写入速度:100-120 mm/s
最大面积:100x92 mm^2
最小面积:没有最小面积
单向定位台阶:X=0.16µm,Y=1.00µm
慢速X轴上的机械噪声:<1µm
快速Y轴上的机械噪声:<1µm
多层对准精度:5-10µm(可选旋转台,便于对准)
实际最小特征尺寸:6-15µm,取决于特征(示例见下图)
软件
支持的格式:PNG、GDSII
在软件转换:,旋转、反射、反转、重缩放、添加边框
-可以在一个进程中编写来自不同文件的多个设计
-通过3点线性或4点双线性聚焦测量进行倾斜/翘曲基板补偿
-全床曲率补偿的网格型标定
光学
-激光波长:405nm(可选375nm)
-激光聚焦、对准和检测用共焦显微镜
-二次独立黄色照明
-激光光斑尺寸可以使用工业标准显微镜物镜改变
精度:
-精细:0.8µm
-介质:2µm
-粗粒:5µm
大面积包含目标的有效书写速度(单向书写):
-精细:1.7 mm^2/min
-中等:4.25 mm^2/min
-粗糙度:10.6 mm^2/min
在双向写入模式下速度加倍。
激光直写光刻机UV-Writer的工作原理介绍
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UV-Writer多少钱一台?
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UV-Writer的说明书有吗?
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UV-Writer有现货吗?
企业名称
科睿设备有限公司
企业信息已认证
企业类型
私人股份有限公司
信用代码
61153274-000-03-23-9
成立日期
2023-02-01
注册资本
100
经营范围
科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )自2013年成立以来,为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的独家代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化,为广大用户提供最先进的仪器、设备,最的专业技术、服务和最真诚的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国,纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域,都需要与欧美发达国家完全接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代,我们愿意化为一座桥梁,更好的将国外高科技技术融入客户需求的解决方案中,见证祖国科技水平的提升,与祖国科技共同飞速成长。
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