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无掩模曝光机
美国IMP（Intelligent Micro Patterning, LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光专利技术，已成为无掩模紫外光刻领域的领导者。
产品优点：
微米和亚微米光刻 (最小可达到0.6um线宽)
紫外光直写曝光,无需掩模，大幅节约了掩模加工费用
灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整。
可升级开放性系统设计。
按照客户要求可从低端到高端自由配置
使用维护简单, 设备耗材价格低。
应用范围广，目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。
最小线宽可以达到0.6um量级
企业名称
香港电子器材有限公司
企业信息已认证
企业类型
私人股份有限公司
信用代码
09668219-000-05-24-6
成立日期
1985-05-09
注册资本
000000
经营范围
半导体设备代理
香港电子器材有限公司
公司地址
香港中区德辅道中71号永安集团大厦2802室
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公司名称： 香港电子器材有限公司
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