无掩模曝光机

美国IMP（Intelligent Micro Patterning, LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光专利技术，已成为无掩模紫外光刻领域的领导者。
 
 产品优点：
• 微米和亚微米光刻
• 紫外光直写曝光,无需掩模，大幅节约了掩模加工费用
• 灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整。
• 可升级开放性系统设计。
• 按照客户要求可从低端到高端自由配置
• 使用维护简单, 设备耗材价格低。
• 应用范围广，目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。
SF-100 XTREME
• 汞灯光源,多种波长可选
• 最小像素 1um
• 1.25 micron with 4X reduction lens
• 0.50 micron with 10X reduction lens
• 0.25 micron with 20X reduction lens

平台参数
Automated Stage Assembly
• High Precision Linear Drive Stage
• X and Y Movement
• Total travel: 100, 150, or 200 mm
• Accuracy: +/-200 nm per axis
• Repeatability: +/- 50 nm per axis
• Z Movement
• Total travel: 25 mm
• Accuracy: +/- 200 nm
• Repeatability: +/- 75 nm
• Theta Movement
• Total travel: 360 degrees
• Accuracy: +/-5 arc sec
• Repeatability: +/-2 arc sec