核心参数
产地类别: 进口
衬底尺寸: 6"
工艺温度: <300
前驱体数: 4
重量: 300Kg
尺寸(W x H x D): 950*1200*700
均匀性: ±2%
主要应用:
-适用于半导体用薄膜(Al2O3, HfO2, ZrO2, TiO2, ZnO ……)
-CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积
-晶硅太阳能电池表面钝化层沉积
-硅基WVTR(水蒸气透过率)的阻挡层
-Micro-OLED封装层
-柔性衬底用阻挡层
-OLED封装层
-柔性OLED显示器、柔性OLED照明、量子点、钙钛矿LED、柔性太阳能电池等高水分阻隔膜的卷对卷(R2R)ALD工艺:
-可用于 LTPO TFT IGZO薄膜沉积
特点:
1.ALD高k介质,厚度均匀性好,保形步进覆盖。
2.先进的工艺套件和小体积的短周期室
3.实现了ALD机构(行波法)
4.小脚印全集成工艺模块
5.过程控制方便,供气线路长度小。
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企业名称
南京伯奢咏怀电子科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司(自然人独资)
信用代码
91320113690403658N
成立日期
2009-06-18
注册资本
100万元整
经营范围
电子产品、化工产品、仪器仪表、电子元器件、机械设备及配件、计算机软硬件销售;劳务服务;科技信息咨询;自营和代理各类商品及技术的进出口业务。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)
南京伯奢咏怀电子科技有限公司(McScience中国办事处
公司地址
南京市鼓楼区北祥路67号
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