(株)NCD最近向韩国电力研究院(KEPCO)提供了钙钛矿太阳能电池(PSC)专用ALD装备(Lucida GS-P360). 本合约设备是作为高效率钙钛矿光伏的电子输送层(ETL)使用的SnO2沉积设备，可以同时在多数玻璃基板上进行ALD工程，是提高生产效率的量产设备.通过ALD工艺沉积的SnO2可以实现纳米单位的均匀薄膜沉积，在可视光线范围内的光透过率高于TiO2，并具有较高的导电性和优秀的稳定性等优点.钙钛矿太阳能电池可以用简单的工艺制作，效率性和经济性都非常突出，作为新一代太阳能电池备受关注.韩国电力研究院(KEPCO)集中研究钙钛矿，在50x50mm2玻璃基板大小上达到19.8%的效率. 以商用化阶段为目标，在使用150x150mm2玻璃基板的太阳能电池模块上达到18%的效率，构建20千瓦级规模的门窗太阳能电池发电系统，正在进行实证开发，预计数年内有望正式实现商用化.一般来说，ALD工艺可以进行低温工艺，具有优良的薄膜质量、工艺可靠性和扩张性，但工艺速度低会给生产成本带来很大负担. 但是在(株)NCD 供应的钙钛矿专用ALD设备，运用(株)NCD独创,高生产力ALD技术, 虽然使用了ALD 工艺难度高的高温前质Sn,可在180x180mm2玻璃基板上进行SnO2工艺，每小时可确保100片以上的优秀生产效率和经济性.另外，此次提供的设备可以兼用大面积玻璃基板(360x360mm2)，可以制造大面积门窗钙钛矿太阳能电池.特别是门窗太阳能电池使用了厚度在2毫米以上的厚玻璃基板，因此为了ALD工艺提高玻璃基板的温度需要很长时间，因此在提高生产效率上存在局限性. 但是(株)NCD开发的ALD设备(Lucida GS-P360)具有独立的加热系统(申请专利)，可以大幅减少厚玻璃基板的加热所需的时间，从而确保较高的生产效率.(株)NCD 期待正式主导制造钙钛矿太阳能电池的高生产性ALD技术及设备市场，今后也将以ALD技术为领先者，努力成长为世界最高的ALD公司.

届时我司将参展本次大会，欢迎各新老客户莅临指导。会议时间：2024年4月1~3日会议地点：中国 · 合肥 · 合肥滨湖国际会展中心展位号：5A12ICDT介绍：2024国际显示技术大会（2024 International Conference on Display Technology, ICDT 2024）将于2024年3月31日-4月3日在合肥滨湖国际会展中心举行。ICDT是国际信息显示学会（SID）在美国境外举办的唯一一个独立品牌的国际显示技术会议。ICDT立足于中国，面向全球，宗旨是加强显示技术国际交流与合作，提升中国显示技术及显示产业链整体水平，实现中国显示技术从跟进、同步到引领的变革。继2017年在福州成功举办首届ICDT后；2018-2023年相继在广州、昆山、武汉、北京、福州、南京举办了更高规格更大规模更富国际影响力的ICDT，吸引了来自全球各地显示界精英1000多人参加会议，其中境外参会者占20%-30%。ICDT已经成为每年一度的国际显示技术盛会！ICDT大会的讨论交流主题涵盖新型显示技术领域及智能制造技术的最新进展，旨在积极推进全球范围内尤其是中国显示技术领域的研究与发展。除了18个技术主题外，我们还将聚焦先进薄膜晶体管显示技术、AI赋能与成像显示、VR/AR/MR和元宇宙、Mini/Micro-LED和高度集成半导体信息显示、光场显示、柔性电子及其显示技术、量子点及其相关显示技术、车载显示、绿色智能制造技术9个专题。ICDT 2024拥有包括学术界大牛和企业界大咖带来的主题报告、覆盖显示18个技术领域的700+个技术研讨会报告，还有商业会议、以及了解和学习最新技术的短期课程和专题技术讲座、展览、展商论坛、创新区、创新创业项目路演、新技术新产品发布会、“显示未来之星杯”辩论赛、创新竞赛、中国显示行业奖项评选及颁奖仪式、显示产业未来技术战略峰会（显示行业领袖峰会）、元宇宙与显示论坛、Micro/MiniLED显示关键技术路线研讨会、AI赋能成像与显示论坛、人因和视觉健康论坛、显示技术和产业标准论坛等。相信ICDT将成为显示领域专业人士交流观点，并与世界范围内各领域科研工作者及关键产业人员建立合作联系的优质平台。

届时我司将参展这次的研讨会，欢迎各新老客户莅临指导会议时间：2023年 10月27日~30日   会议地点：南京玄武苏宁诺富特酒店（玄武区 苏宁大道9号）

届时我司将参展本次学术会议，欢迎各新老客户莅临指导.会议时间：2023年11月17~19日会议地址：杭州龙禧福朋喜来登酒店 （杭州市滨江区东信大道868号）　　会议简介：　　微纳光学是当前光学学科发展最活跃的前沿之一，结合了光子学与纳米技术的前沿成果，主要优点是能在局域电磁相互作用的基础上实现许多全新的功能，成为21世纪国家不可或缺的关键科学和技术。微纳光学不仅是光学领域的前沿研究方向之一，也是目前新型光电子产业的重要发展方向，在光通信、光互联、光存储、传感成像、传感测量、显示、固体照明、生物医学、安全、绿色能源等领域起到不可替代的作用。       光学工程学会组织召开“第七届微纳光学技术与应用交流会”，从应用端和技术端来牵引，结合国防和工业应用，搭建产业链的大平台。旨在为我国从事相关研究的科技人员和产业应用的团队搭建无缝对接的平台，形成合力，促进微纳光学自身的快速发展及其在应用领域的产业发展。会议专题：专题一：半导体及微纳光电材料专题二：微纳光电子器件与集成芯片专题三：低维光电子材料专题四：量子光电子器件、芯片与系统专题五：超材料与纳米光子学专题六：微纳光学制造专题七：微纳传感专题八：先进成像专题九：先进显示专题十：柔性与可穿戴器件专题十一：光计算专题十二：能源光电子

届时我司将参展本次学术会议，欢迎各新老客户莅临指导.会议时间：2023年 6月8日~10日会议地址：长春国际会展中心大饭店（长春市经济开发区会展大街100号）　　会议简介：　　由中国化学会有机固体专业委员会、中国科学院化学研究所和中国科学院长春应用化学研究所共同举办；会议计划邀请国内外有机固体领域的专家、学者，分别作大会报告或邀请报告。　　会议热忱欢迎祖国大陆、港澳台，及国外华人学者和研究生与会，交流和展示研究成果，展望学科未来发展趋势，推动我国有机固体领域的研究向更高目标迈进，探索如何进一步推动有机固体科学和技术在国民经济发展中的应用。　　会议专题：　　- 新型共轭分子和聚合物材料的设计与合成　　- 有机/聚合物场效应晶体管材料与器件　　- 有机/聚合物发光材料与器件　　- 有机/聚合物及杂化/钙钛矿光伏材料与器件　　- 碳材料（富勒烯、碳管、石墨烯、石墨炔及类似物）　　- 有机热电材料与器件　　- 化学与生物传感、生物电子、自旋电子及其它新兴方向

届时我司将携McScience  OLED光电检测仪（M3000）参展本次大会，欢迎各新老客户莅临指导.会议时间：2023年4月1~3日会议地点：中国 · 南京 · 南京国际展览中心会议简介：ICDT2023由国际信息显示学会（SID）北京分会、台北分会、香港分会联合主办，SID China、东南大学承办。此次大会的讨论交流主题将涵盖新型显示技术领域及智能制造技术的最新进展，旨在积极推进全球范围内尤其是中国显示技术领域的研究与发展。除了17个技术主题外，我们还将聚焦先进薄膜晶体管显示技术、印刷显示技术、VR/AR/MR和元宇宙、Mini/Micro-LED和高度集成半导体信息显示、光场显示、柔性电子及其显示技术、量子点及其相关显示技术、车载显示、绿色智能制造技术9个专题。ICDT 2023拥有包括学术界大牛和企业界大咖带来的主题报告、覆盖显示17个技术领域的近450个技术研讨会报告，还有商业会议、以及了解和学习最新技术的短期课程和专题技术讲座、展览、展商论坛、创新区、创新创业项目路演、新技术新产品发布会、“显示未来之星杯”辩论赛、创新竞赛、中国显示行业奖项评选及颁奖仪式、显示产业未来技术战略峰会（显示行业领袖峰会）、元宇宙与显示论坛、Micro/Mini-LED显示关键技术路线研讨会等。相信ICDT将成为显示领域专业人士交流观点，并与世界范围内各领域科研工作者及关键产业人员建立合作联系的优质平台。研讨会主题：▲有源矩阵器件                                   ▲液晶显示                                      ▲应用视觉    ▲照明                                                    ▲VR/AR/MR和元宇宙              ▲有机发光二极管显示▲显示应用                                             ▲印刷显示                                ▲显示电子▲摄影显示                                             ▲显示测量                                ▲触控与交互显示▲显示制造                                             ▲车载显示                                ▲显示系统▲主动发光显示，Micro-LED和量子点显示                                              ▲电子纸及柔性显示研讨会专题：▲先进薄膜晶体管显示技术                                      ▲印刷显示技术                                              ▲VR/AR/MR和元宇宙                                                ▲Mini/Micro-Led和高精度集成半导体信息显示      ▲光场显示                                                                 ▲柔性电子及其显示技术                              ▲量子点及其相关显示技术                                        ▲车载显示▲绿色和智能显示制造                                           

铜是半导体用PCB和Lead Frame等主使用金属材料。但根据水分，温度及pH等条件很容易产生氧化。为防止氧化需要在表面进行处理。PCB一般防氧化处理方式为Solder Mask工程后开放的铜领域进行Electroless Nickel Immersion Gold(ENIG), Organic Solderability Preservative(OSP), Immersion Sn或Ag(ImSn 或ImAg)处理。Lead Frame是先做形象后镀金/银/钯/镍来防止氧化。 最近有很多公司及研究所在使用ALD技术来研究多样的金属氧化物防腐蚀膜coating到铜表面来防止氧化。特别是有防氧化优越的Al2O3层用于防腐蚀膜的研究很活跃。 用多样的薄膜厚度和工程温度在镀金铜板coating Al2O3后，用200度Oven根据热处理时间来评价了铜腐蚀及防氧化特性。热处理进行前所有铜板都未产生氧化，进行了1小时热处理后，确认了温度越低厚度越薄氧化会渐渐产生。5小时后，温度70~100℃/50~60 cycle条件下的铜板未产生氧化。 24小时后100℃/60 cycle条件的铜板未产生氧化。所以温度越高厚度越厚防氧化特性会更优秀。在100℃条件下在铜板上coating 5nm，10nm的Al2O3，进行Pre-condition热处理后，为确认ALD薄膜构造变化及防氧化特性进行了TEM和EDS分析评价。5nm的Al2O3 coating 后进行热处理时下部基板铜穿过Al2O3层和氧气结合形成了厚的铜氧化膜。但10nm的 Al2O3 coating后进行热处理结果，Al2O3膜维持原来状态，未产生铜氧化膜。所以10nm的ALD Al2O3膜有优秀的铜防腐蚀特性。   铜为主材料的半导体用PCB和Lead Frame上使用ALD coating技术后产生的防腐蚀膜有很优秀的防氧气及水分的特性。我们保有这种高生产大面积ALD系统及技术来对应所述的应用。Lead Frame用 ALD系统是 Lucida GSH Series为标准，还可以增加专用基板传送装置可以让多数Lead Frame一次得到coating。 另外为了大尺寸基板和柔性PCB的ALD工程，我们正在开发新型PCB专用ALD系统（Lucida GP Series）。我们会坚持研发来扩张ALD技术的新领域。         

2022第二届全国太阳能电池材料与器件大会届时我司将携高精度 刀刮式涂敷设备参展本次大会，欢迎各新老客户莅临指导.会议时间：2022年7月28-31日会议地点：中国 • 内蒙古 • 包头 • 青山宾馆会议简介：为促进我国太阳能电池研究领域的科学和技术发展，促进学术界与产业界的沟通和联系，组委会将于2022年7月28日在内蒙古·包头市召开“第二届全国太阳能电池材料与器件大会”，会议由内蒙古科技大学、西安建筑科技大学、华北电力大学、华侨大学、西南大学、国际薄膜学会联合主办。本次会议是我国太阳能电池领域科研工作者的一次专业研讨会，将全面地展示中国科研工作者在太阳能电池：如钙钛矿太阳能电池、染料敏化太阳能电池、有机太阳能电池、量子点太阳能电池、硅基太阳能电池和薄膜太阳能电池等研究领域所取得的Z新进展及成果，深入地探讨太阳能电池研究领域研究所面临的机遇、挑战及未来的发展方向。希望学界及业界以此会议为契机，加强产学研的合作，共同为光伏技术进步，为发展全国的太阳能事业做出新贡献。会议内容：专题一：钙钛矿太阳能电池专题二：有机太阳能电池专题三：纳晶敏化太阳能电池专题四：量子点太阳能电池专题五：G效硅基太阳能电池专题六：化合物薄膜太阳能电池专题七：其他新型太阳能电池材料、大面积模块制作及产业化应用

第四届光电发展论坛·有机光电材料与器件发展研讨会届时我司将携高精度 刀刮式涂敷设备参展本次大会，欢迎各新老客户莅临指导.会议时间：2022年7月28-30日会议地点：中国 · 浙江 · 宁波湖畔凯悦尚萃酒店会议简介：随着“碳达峰、碳中和”战略目标的提出，光伏产业将迎来新的发展机遇。钙钛矿材料以光 伏新势力的姿态，从材料原理、光电转化效率、稳定性、成本以及效率提升速度等多个维度， 尽显优势！但钙钛矿如何成为真正具有市场竞争力的一股光伏新势力？哪种电池模式能让光 伏产业生态更趋良好？是材料还是工艺？是商业模式还是颠覆式技术？哪些技术革新会让 真正具有竞争力的团队破局而出，持久绽放？是规模制胜还是创新逆袭？是传统大佬还是新 锐公司？ DT 新材料以“探索·创新·光伏新势力”为主题，举办光伏产业发展论坛，加速光伏技术产业 化进程，邀请产业研究者、光伏产业链运营、模式、产品和技术先锋、资本、行业组织以及 媒体等多元角色，探讨在此轮光伏行业大发展中，哪些领域的革新将给产业和个中玩家带来 持久绽放的生命力。 共同探索钙钛矿材料在光伏领域Z新技术与创新应用！论坛参考议题：1、光伏行业展望、异质结电池、钙钛矿电池和薄膜电池产业现状分析与行业趋势 2、钙钛矿商业化的障碍、商业竞争力与产业链投资机遇、可融资性 3、钙钛矿电池企业产业化探索与未来规划 4、钙钛矿电池材料发展及其工业设计合成路线选择 5、G效稳定的钙钛矿太阳能电池的构建策略 6、大面积工业化钙钛矿电池和组件制造工艺与先进装备 7、钙钛矿电池材料的环保挑战与解决方案 8、钙钛矿电池和光伏组件的转换效率、工艺优化与效率良率以及稳定性提升 9、钙钛矿电池经济可行性与降本路径选择 10、钙钛矿电池产业化核心装备及其国产化 11、钙钛矿电池精确测试技术、设备及标准 12、钙钛矿叠层电池的各类底电池对比选型、结构设计与技术潜力 13、异质结电池关键技术与工艺、设备、耗材国产化与成本分析、产能预测 14、异质结电池与组件量产效率提升、成本降低潜力、路径与发展前景 15、异质结组件和叠层组件封装技术与封装材料 16、异质结钙钛矿叠层电池组件结构设计、关键工艺与效率极限分析 17、钙钛矿光伏组件发电量实证分析与组件效率分布- ......

会议延期通知国际显示技术大会 （ICDT 2022）届时我司将携McScience   OLED光电检测仪（M3000）参展本次大会，欢迎各新老客户莅临指导.会议时间：由之前2022年7月10-12日  改为2022年7月17-19日会议地点：中国 · 福建 · 福州数字中国会展中心展位号：B02号会议简介：2022年国际显示技术会议由国际信息显示学会主办，由国际信息显示学会北京分会、福州市人民政府、福州大学、G家新型显示技术创新中心和新型显示产业技术创新战略联盟联合主办，由SID China和闽都创新实验室承办。去年，ICDT 2021吸引了1300多名与会者，其中300名线上与会者。ICDT已经成为学术界、产业界和商业界LX会面、发布结果和分享信息显示技术的重要会议。研讨会主题：- 有源矩阵器件- 液晶显示- 应用视觉 - 照明- 增强现实及虚拟现实- 有机发光二极管显示- 显示应用- 印刷显示- 电子显示- 投影显示- 显示测量- 触控与交互显示- 显示制造- 车载显示- 显示系统- 主动发光显示、 Micro LED显示及量子点相关显示- 电子纸及柔性显示- ......

近期向三星电子供货原子层刻蚀（ALE(Atomic layer etch)）和区域选择原子层沉积（ASD(area selective deposition)）设备. 设备由2个工艺模组和传送模组构成的 Cluster type ，工艺整合一体化程序. 拥有500℃以上高温及臭氧和等离子工艺能力,Z为开发半导体元件的次世代的设备.  ALE(原子层刻蚀)设备区别ALD(原子层沉积)设备是一款可利用原子层单位刻蚀沉积膜的设备,ASD(区域选择沉积)区别ALD(原子层沉积)则是选择性指定区域原子层沉积的设备. 目前很多学校,研究所以及企业采用ALE和ASD工艺积极研发未来前端集成元件. 期待ALE/ASD设备对未来半导体前端技术发展有较多的贡献.

国际显示技术大会 （ICDT 2022）届时我司将携McScience   OLED光电检测仪（M3000）参展本次大会，欢迎各新老客户莅临指导.会议时间：2022年7月10-12日会议地点：中国 · 福建 · 福州数字中国会展中心展位号：B02号会议简介：2022年国际显示技术会议由国际信息显示学会主办，由国际信息显示学会北京分会、福州市人民政府、福州大学、G家新型显示技术创新中心和新型显示产业技术创新战略联盟联合主办，由SID China和闽都创新实验室承办。去年，ICDT 2021吸引了1300多名与会者，其中300名线上与会者。ICDT已经成为学术界、产业界和商业界LX会面、发布结果和分享信息显示技术的重要会议。研讨会主题：- 有源矩阵器件- 液晶显示- 应用视觉 - 照明- 增强现实及虚拟现实- 有机发光二极管显示- 显示应用- 印刷显示- 电子显示- 投影显示- 显示测量- 触控与交互显示- 显示制造- 车载显示- 显示系统- 主动发光显示、 Micro LED显示及量子点相关显示- 电子纸及柔性显示- ......

原子层沉积设备（ALD）用于新型半导体产品（保护涂层用）应用于半导体领域设备中使用的配件保护涂层的原子层沉积设备，此设备可以给常保养配件做防腐蚀及防等离子电弧作用的涂层。 客户使用此设备，可提高工艺的安全性和减少部分损伤，提高配件的使用寿命，减少维护周期从而降低运营费用。 在半导体产业中，生产率及成本竞争力越来越重要。通过此设备特殊沉积功能，减少高价半导体设备产品发生颗粒及损伤，随着配件更换周期减少生产费用减少随之而增加的运营时间，可大幅提高企业的竞争力。 现传统配件保护用涂层一般使用热喷涂层，阳极氧化涂层，溅射涂层，但这些方式的涂层针对形状复杂，细微的产品上受限于涂层的均匀性。但原子层沉积的应用可以解决这些问题。 可用于蚀刻工艺和腔体内部Dry-cleaning的腐蚀性气体和等离子体环境中使用的配件中，特别复杂形状的Showerhead或Electrostatic chuck等可用于原子层沉积。 采用CVD或PVD方式无法做到Showerhead众多微细孔中均匀地涂层，所以必须使用原子层沉积，ESC也要求为硅片lift的销孔内部等均匀的沉积，故而原子层沉积会成为更好的方案。 目前Al2O3原子层沉积方式防护涂层已在多个领域验证。并在积极研发比Al2O3防腐蚀能力更加出色的Y2O3。 本设备采用D创的高生产率大面积原子层沉积技术，可一次性加载多个半导体设备配件，同时实现均匀沉积。 

继曲面之后，推出了折叠式的智能手机，目前这种形态因素竞争为市场的焦点。三星电子的Galaxy Fold和Galaxy Z Flip采用了画面内折的形态因素,华为的Mate X采用了外折的新Out Folding形态因素。另外，还公开了超越这些显示屏的内外折叠，两次、三次折叠的滚筒式效果。柔性显示是由柔性基板上增加驱动元件，标识元件，再有为了保护这些元件的封装膜来构成。现有，为形成折叠显示的封装膜适用了有/无机叠层构造的封装技术，无机膜使用了PECVD方式。 用机械连续施压后，像脆性比较弱的无机膜封装特性会下降，所以柔性显示开发初期本公司适用了厚度比较薄，且封装出色的ALD封装技术。结果对于ALD设备的信赖度及量产性的疑点，所以没有实现生产。但，因原子层沉积无机膜的出色封装特性，迄今为止大学，研究所，相关显示企业还在使用ALD技术（无机膜）进行数十万次的折叠等研究及评价。购买NCD大面积 ALD 沉积设备（ Lucida GD Series）的客户对于柔性显示也在使用代替PECVD无机膜的ALD Al2O3无机膜来评价folding来实际确认显示器件是否正常动作。In-folding和 Out-folding用显示器件是5.85英寸AMOLED面板，封装膜构造为30nm Al2O3 ALD/ 8㎛-Polyer/ 30nm Al2O3构成。进行了RA 60℃/90% for 500hr的信赖性评价后，在2R 显示开启状态进行20万次的In-folding和Out-folding的评价。Folding评价时显示器件无黑点等问题, Folding评价进行后，再次进行第二次RA 60℃/90% for 48hr的信赖性评价，之后观察TFE(Thin Film Encapsulation)状态。虽然进行了2测的信赖性评价及20万次的Folding，结果TEF上没有发现裂痕。为了适用折叠手机，使用NCD的大面积原子层沉积设备，可适用薄的无机膜来实现比之前更好的封装特性，还可以同时进行多个显示器件的沉积作业来减少生产时间。因此，为了满足比现在的折叠式手机更小的曲率半径，in/out-folding都需要的未来平板显示器的封装膜，NCD的大面积ALD设备就是解决方案。

全国第十二届有机固体电子过程暨华人有机光电功能材料学术讨论会届时我司将携McScience 光电检测仪（M3000）＆MSTECH 经典型探针台（4000A）参展本次学术会议，欢迎各新老客户莅临指导.会议时间：8月20日~22日会议地址：长春国际会展中心大饭店（长春市经济开发区会展大街100号）会议简介：由中国化学会有机固体专业委员会、中国科学院化学研究所和中国科学院长春应用化学研究所共同举办；会议计划邀请国内外有机固体领域的专家、学者，分别作大会报告或邀请报告。       会议热忱欢迎祖国大陆、港澳台，及国外华人学者和研究生与会，交流和展示研究成果，展望学科未来发展趋势，推动我国有机固体领域的研究向更高目标迈进，探索如何进一步推动有机固体科学和技术在国民经济发展中的应用。会议专题：- 新型共轭分子和聚合物材料的设计与合成- 有机/聚合物场效应晶体管材料与器件- 有机/聚合物发光材料与器件- 有机/聚合物及杂化/钙钛矿光伏材料与器件- 碳材料（富勒烯、 碳管、 石墨烯、石墨炔及类似物）- 有机热电材料与器件- 化学与生物传感、 生物电子、自旋电子及其它新兴方向        第二代 OLED影像＆                 OLED TOF测试系统                有机光伏寿命测试系统    寿命测试系统                摇摆行星式混合机                     有机半导体综合测试系统                 四探针测试系统（自动款）

采用原子层沉积（ALD）技术的下一代储存技术  随着人工智能(AI), 深度学习,大数据, game 及 5G移动技术快速发展，导致数据储存量上升，半导体内存被要求低耗化。为解决这个问题目前商用化的有 Dram，Flash Memory(NAND) 等储存技术变更到新一代储存技术为一大难题。为了每秒以千兆，无延迟处理高容量数据以目前的技术很难实现。新一代技术需要像DRAM速度要快，兼具flash memory的关闭电源数据也会保存等特性，还需低耗。目前超越基准储存的新概念半导体储存有 Ferroelectric RAM(FRAM 或 FeRAM), magnetic RMA( MRAM), phase-charge ram(PRAM 或 PCRAM)和 resistive RAM(RRAM) 等都在研发阶段，而且受到关注度也比较高。这些储存技术特点是关闭电源数据也不会丢失的非挥发性(Nonvolitile), 很快的进行switching信息储存。 但因为不能进行长时间switching，内部构造粗糙，不足的高集成度,费用也比较高等原因，仅在特定领域使用。为改善这些，全世界都在用核心的ALD工程来进行研究。采用新一代储存的原子沉积(ALD) 技术fram是储存强诱电体的电极数据，一边储存是0，另外一边储存1为基本构造，和dram相似，但有非挥发性的特点。很长时间pzt材料用于强诱电体，缺点为当厚度变薄的时电极无法维持的问题。最近受到关注的有使用ALD技术，厚度为数nm沉积的 Metal Oxide-doped HFO2， 适用与28nm node的高集成密度。MRAM是自主阻抗储存,根据外部磁气场,磁性层的磁化方向，利用自主阻抗变化显示数据的1, 0。即，磁气场方向一样时表示为 0，不同时表示为1。无高速低电压动作及特性热化，而且集成度也很高。多数研究中用tunnel oxide 适用ALD技术沉积的MgO或 ZnO等。PRAM是利用物质相(phase)变化的非挥发性储存，相从非晶致状态变化到结晶致状态时储存数据。相转移物质使用GST germanium-antimony-tellurium (gst) ，使用ALD技术 step coverage制作了优Xiu的 PRAM储存。rram是绝缘体或半导体的阻抗变化储存。通过氧气空缺，从绝缘物质做成阻抗变化识别0, 1来使用。绝缘物质为通过原子层沉积的SiO2, HFO2,HfAlO, Ta2O5等。许多高校及研究所还在使用原子沉积技术（ Lucida Series ALD）进行新一代储存研究得到hen好的结果。原子沉积(ALD)技术大部分用在新一代储存，优点为原子单位厚度调节及均匀性， 步进覆盖好，对于未来新一代储存商用化做到很大贡献。