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晶硅太阳能电池表面钝化用高产出原子层沉积系统
ALD for surface passivation of c-Si solar cells
应用：
1.CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积
2.晶硅太阳能电池表面钝化层沉积
3.大规模生产的应用
4.工业全自动生产设备
5.高产量：高达4500晶片/小时(156 X 156 m㎡)
特征：
1.良好的厚度＆均匀性好的Al2O3薄膜
2.用于短气体循环时间的先进工艺套件和小体积
3.具体化的ALD机械装置
4.全集成工艺模块
5.操作过程简单
6.自动式操作
技术规格：
| Model | Material | Wafer Size(mm2) | Thickness (nm) | Throughput(wph) |
|---|---|---|---|---|
| LucidaTM GS200 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥550 |
| LucidaTM GS800 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥2300 |
| LucidaTM GS1200 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥3400 |
| LucidaTM GS1600 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥4500 |
| LucidaTM GS6000 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥6000 |
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企业名称
南京伯奢咏怀电子科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司(自然人独资)
信用代码
91320113690403658N
成立日期
2009-06-18
注册资本
100万元整
经营范围
电子产品、化工产品、仪器仪表、电子元器件、机械设备及配件、计算机软硬件销售;劳务服务;科技信息咨询;自营和代理各类商品及技术的进出口业务。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)
南京伯奢咏怀电子科技有限公司（McScience中国办事处
公司地址
南京市鼓楼区北祥路67号
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