仪器简介:世界级高精度光谱椭偏仪!荣获 the award of Best of Boston and Best of Braintree for Optical Instruments and Apparatus!
可以精确测量折射指数、消光系数(n & K),膜厚等,广泛适用于半导体、电介质、聚合物、金属等材料,单层薄膜和多层膜。著名客户包括US Army Research Lab,NASA,NIST,UC Berkeley,MIT,Harvard,Honeywell和Sharp Microelectronics等;
根据客户需求,可提供不同型号:
变角度单波长椭偏仪(632.8nm);
变角度多波长椭偏仪(532, 632.8, 1064nm, …);
变角度光谱椭偏仪(深紫外、紫外-可见-近红外光谱190-2300nm);
全自动变角度光谱椭偏仪(深紫外、紫外-可见-近红外光谱190-2300nm);
红外光谱椭偏仪等;
技术参数:膜厚范围:0-30000nm
折射指数:± 0.0001
厚度准确度:± 0.01nm
入射角度:20 - 90°
波长范围:250-1100nm(深紫外、近红外、红外可选)
Psi=±0.01°,Delta=±0.02°
主要特点:光谱范围:UV/VIS range 250 - 1100 nm,可选扩展光谱范围NIR (700 - 1700 nm) or (700 - 2100 nm)、UV-VIS 范围(190 - 1100 nm) ;
自动旋转起偏器可精确测量任意偏振状态;
步进扫描分析仪可高速采集低噪音信号;
可变角度范围:from 10-90°,可升级为自动变角度10-90°控制 ;
单层薄膜/多层薄膜快速薄膜厚度、折射率测量;
专业测试软件可大范围Psi和Delta数据自动测量,并对测试数据进行采集和分析,内置几百种材料数据库;
可扩展二维自动扫描平台,实现(50X50mm, 100X100mm, 150X150mm or 200X200mm)Mapping测量功能以及3D分析;
荣获 the award of Best of Boston and Best of Braintree for Optical Instruments and Apparatus!