2020/03/02 15:29
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产品配置单:
台式原子层沉积系统
型号: GEMStar
产地: 美国
品牌: ARRADIANCE
¥100万 - 200万
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方案详情:
全固态电池由于其具有高能量密度和高安全性能,被认为是最具有潜力的下一代电池体系。然而,全固态电池仍有许多挑战亟待解决。其中界面问题(包括界面不匹配、界面副反应和界面空间电荷效应)是影响全固态电池性能的主要因素之一。有效地解决界面问题是攻克全固态电池难关的重中之重。界面修饰及改性是被广泛报道改善界面问题的重要途径。其中,制备界面层材料的技术及界面层材料的性质将是界面层稳定性的决定因素。ALD/MLD技术有望在固态电池界面修饰及改性上扮演重要的角色,包括界面改性材料的制备(图2A),固态电解质的制备(图2B),ALD界面材料用于阻隔电极与固态电解质副反应(图2C),改善固态电解质与金属锂的润湿性(图2D),保护金属负极(图2E)以及薄膜/三维固态电池的制备(图2F)等。ALD/MLD有望解决全固态电池的界面问题,满足人们对于高安全性以及高能量密度电池的需求,成为下一代电池的有力竞争者。孙教授团队对近几年ALD/MLD技术在固态电池中的应用作以归纳、总结与分析,并对ALD/MLD在固态电池中的应用作以展望相关工作发表在2018年的Joule上(DOI: 10.1016/j.joule.2018.11.012)。
图2. ALD/MLD技术在固态电池中的应用. (A)不同的界面改性材料; (B) ALD技术制备LiPON固态电解质; (C) ALD界面层阻隔电极与固态电解质副反应; (D) ALD薄膜改善固态电解质与金属锂的润湿性; (E) 固态电池体系中,ALD/MLD在保护金属负极中的应用; (E) ALD/MLD技术制备三维固态薄膜电池.
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