核心参数
仪器种类: 其他
应用领域: 太阳能产品
产地类别: 进口
靶材: /
基片尺寸: 可达11英寸
基片温度范围: /
成膜厚度均匀性: 优
极限真空: 5×10-7mbar
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纳米颗粒与磁控溅射综合系统在1纳米颗粒膜制备中的应用
日前,由英国著名的薄膜沉积设备制造商Moorfield Nanotechnology公司生产的套纳米颗粒与磁控溅射综合系统在奥地利的莱奥本矿业大学Christian Mitterer教授课题组安装并交付使用。该设备由MiniLab125型磁控溅射系统与纳米颗粒溅射源共同组成,可以同时满足用户对普通薄膜和纳米颗粒膜制备的需求。
电子/电气
2022/06/22
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