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纳米颗粒与磁控溅射综合系统在1纳米颗粒膜制备中的应用

2022/06/22 15:38

阅读:141

分享:
应用领域:
电子/电气
发布时间:
2022/06/22
检测样品:
其他
检测项目:
其它
浏览次数:
141
下载次数:
参考标准:
NA

方案摘要:

日前,由英国著名的薄膜沉积设备制造商Moorfield Nanotechnology公司生产的套纳米颗粒与磁控溅射综合系统在奥地利的莱奥本矿业大学Christian Mitterer教授课题组安装并交付使用。该设备由MiniLab125型磁控溅射系统与纳米颗粒溅射源共同组成,可以同时满足用户对普通薄膜和纳米颗粒膜制备的需求。

产品配置单:

前处理设备

高精度薄膜制备与加工系统-MiniLab

型号: MiniLab

产地: 美国

品牌: MOORFIELD

¥100万 - 150万

参考报价

联系电话

方案详情:

日前,由英国著名的薄膜沉积设备制造商Moorfield Nanotechnology公司生产的首套纳米颗粒与磁控溅射综合系统在奥地利的莱奥本矿业大学Christian Mitterer教授课题组安装并交付使用。该设备由MiniLab125型磁控溅射系统与纳米颗粒溅射源共同组成,可以同时满足用户对普通薄膜和纳米颗粒膜制备的需求。

集成了纳米颗粒源的MiniLab125磁控溅射系统

 

传统薄膜材料的研究专注于制备表面平整、质地致密、晶格缺陷少的薄膜,很多时候更是需要制备沿衬底外延生长的薄膜。然而随着研究的深入,不同的应用方向对薄膜的需求是截然不同。在表面催化、过滤等研究方向,需要超大比表面积的纳米薄膜。在这种情况下,纳米颗粒膜具有不可比拟的优势。而传统的磁控溅射在制备纯颗粒膜方面对于粒径尺寸,颗粒均匀性方面无法实现精准控制。气相沉积法、电弧放电法、水热合成法等在适用性、操作便捷性、与传统样品处理的兼容性等方面不友好。在此情况下,Moorfield Nanotechnology推出了与传统磁控溅射和真空设备兼容的纳米颗粒制备系统


不同条件制备的颗粒粒径分布(厂家测试数据)


不同颗粒密度样品(厂家测试数据)


纳米颗粒制备技术特点:

▪  纳米颗粒的大小1 nm-20 nm可调;

▪  最多可达3重金属,可共沉积,可制备纯/合金颗粒;

▪  材料范围广泛,包括Au、Ag、Cu、Pt、Ir、Ni、Ti、Zr等

▪  拥有通过控制气氛制造复合纳米粒子的可能性(类似于反应溅射)

▪  卓越的纳米颗粒层厚度控制,从亚单层到三维纳米孔

▪  纳米颗粒结构——结晶或非晶、形状可控


纳米颗粒膜的应用方向:

▪  生命科学和纳米医学: 癌症治疗、药物传输、抗菌、抗病毒、生物膜

▪  石墨烯研究方向:电子器件、能源、复合材料、传感器

▪  光电研究:光伏研究、光子俘获、表面增强拉曼

▪  催化:燃料电池、光催化、电化学、水/空气净化

▪  传感器:生物传感器、光学传感器、电学传感器、电化学传感器

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