博远微纳VPI 高真空磁控溅射镀膜仪SD-650MH

SD-650MH高真空磁控溅射镀膜机博远微纳VPI镀膜设备

优点：体积小，抽真空时间快，可做靶材种类多。

特点：

1、高真空磁控溅射仪要求稳定，安全可靠，操作简单便捷。适用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。

2、 高真空磁控溅射镀膜仪主要由溅射真空室、磁控溅射靶、旋转样品台、工作气路、抽气系统、真空测量及电控系统等部分组成。

3、★高真空磁控溅射仪长610mm×宽420mm×高220mm（注：含腔体总高490mm） 可放于桌面，小巧不占空间。抽真空速度快，10分钟可进入工作状态。真空腔体采用直径260mm×高270mm的金属真空腔体，真空腔体上有多个备用标准接口，方便老师想进行其他实验研究接入设备，后期可直接配备射频溅射系统，方便老师后续想镀半导体等材料。

4、前级机械泵抽速为 4L/s，带防返油电磁阀及油污过滤器 ，后级抗冲击涡轮分子泵采用抽速为300L/s。真空测量采用复合真空计监测真空，极限真空度: 5×10^-5Pa。     

5、★直流恒流电源输入电压为220V，输出电压为0-600v，输出电流为0-1.6A ，沉积速率为0-200nm/min。电控带锁系统，防止无关人士误操作。溅射定时保护装置，防止溅射时间过长引起的样品损坏。溅射磁控头直径为50mm。配备一块厚度不小于0.2mm厚的金靶，方便产品到货直接使用。基体温度较低，在不耐温材料上可以完成镀膜。

6、 样品台采用旋转式样品台。直径尺寸可选，最大不能超过φ150mm。

7、采用自循环冷却水机冷却靶头，保证靶头寿命。

8、   真空腔室采用金属腔体，具备良好气密性，防止漏气，确保高真空度。

尺寸直径260mm×高270mm（外尺寸 ），容积≥9300ml。适用更多样品。

9、     样品台直径200mm，支持水平旋转、20度倾斜球形旋转。可放置≥12个标准SEM样品座。适用更多形状的样品，保证镀膜的均匀性。

10、   溅射管头为双靶，配水冷。可支持磁控溅射、离子溅射，可溅射强磁性材料。

11、   标配铜靶、铬靶各一块。直径50mm×3mm。

其它可溅射靶材包括铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

12、   靶材均匀度直径50mm内，金属类膜厚均匀度可达±1%

13、 可配直流恒流电源、射频电源（含匹配一体机）

输入电压：220V

输出电压：0-600v可调

输出电流：0-1.6A可调

14、  配置VPI液晶控制面板，可智能控制系统操作。操作简单，人机界面良好。

15、  极限真空度5×10-5Pa，真空抽速300L/s。

16、   标配自循环冷却水机一台。

17、 气路可以通过电磁流量阀与手动阀联动控制。实现自动补气。

18、可放置于桌面，减少占地空间。

19、膜厚仪监控范围0～6000纳米。可监控速率0.001纳米/秒。与触摸屏程序操作相结合，可联动控制，监测膜厚。

原理：

    溅射镀膜的原理是稀薄气体在异常辉光放电产生的等离子体在电场的作用下，对阴极靶材表面进行轰击，把靶材表面的分子、原子、离子及电子等溅射出来，被溅射出来的粒子带有一定的动能，沿一定的方向射向基体表面，在基体表面形成镀层。溅射时产生的快电子在正交的电磁场中作近似摆线运动，增加了电子行程，提高了气体的离化率，同时高能量粒子与气体碰撞后失去能量，基体温度较低，在不耐温材料上可以完成镀膜。

SD-650MH高真空磁控溅射镀膜机博远微纳VPI镀膜设备指标

品牌：北京博远微纳科技有限公司                                            

型号：SD-650MH                                             

仪器主机尺寸:长610mm×宽420mm×高220mm（注：含腔体总高490mm）  

工作腔室尺寸：金属腔体：直径260mm×高270mm（外尺寸 ）            

                                             直径210mm×高270mm（内尺寸）            

靶材尺寸： 直径50mm×厚3mm（因靶材材质不同厚度有所不同）     

靶材料：标配一块直径50mm×0.3mm的铜靶（可溅射弱磁性金属膜）                  

靶枪冷却方式：水冷                                                   

真空系统： 抗冲击涡轮分子泵，抽速为 300L/s                        

前级机械泵： 抽速为 4L/s，带防返油电磁阀及油污过滤器                     

真空测量：采用复合真空计监测真空                                  

极限真空度:   5×10^-5Pa（10分钟可到5×10^-4Pa）                     

电源：直流恒流电源： 输入电压：220V                                      

                            输出电压：0-600v可调                                   

                            输出电流（沉积电流）：0-1.6A可调                                  

载样台： 旋转台等                                    

工作气体：  Ar等惰性气体）                  

气路：气路可以通过电磁流量阀与手动阀联动控制。实现自动补气。                                 

沉积速率：  0-200nm                                                

水冷： 自循环冷却水机                                          

电源电压：  220V 50Hz                                           

启动功率  ：   3KW                                                

保修 ：      贰年                                                

用途特点：

    高真空磁控溅射镀膜仪主要由溅射真空室、磁控溅射靶、样品台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。高真空溅射可用于金属等新型薄膜材料的制备，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。