德国SciDre高压提拉法工艺炉150bar

紧凑型台式克佐拉尔斯基工艺炉HCO

能够在高达150巴的环境气体压力下从充满熔体的坩埚中取出单晶。气体管理系统可调节压力、流量和工艺气氛，以及工艺室的疏散。通常使用的气体是纯氧，氩气或两者的可变混合物，但几乎任何其他气体，也包括在生长过程中干扰熔体的活性气体，都可以引入。

高压气氛对熔体中晶体生长有两种影响。一方面，高压禁止挥发性成分从熔体中分离，防止化学计量变化。另一方面，规定的纯气体和混合气体的高压气氛可以支持形成或阻止某些所需相的分解，并抑制杂质相的形成。由于HCO系统对每种气体都有独立的质量流量控制，因此可以自由调节各个分压和流量。这种世界范围内独特的设置允许用户控制材料的生长，由于其元素的高挥发性或某些相的亚稳态性质，在低压下很难或不可能产生这些材料。

坩埚的内径可达70毫米，可生长直径达2.5英寸的晶体。在坩埚-熔体相互依赖方面，可以从广泛的可能物质中选择最适合的坩埚材料，以尽量减少坩埚对熔体成分的影响。根据预期的工艺和坩埚材料，电阻加热装置可以达到1700°C的温度。

为了拉动晶棒，我们采用了磁耦合进给系统。这允许高度精确，均匀的拉速和旋转。快速齿轮实现舒适的设置过程。整个运动系统完全封装，没有加压轴承，可在所有可能的压力制度下使用。

许多过程需要惰性气氛，其中氧气的分压尽可能低。可选的活性氩气净化系统GRS从流动的氩气中可靠地去除氧颗粒，并在高压条件下将O2浓度降至10-12 ppm。

整套实验参数，如拖动驱动器的直线和旋转运动，气体混合物，气体流量，气体压力和加热功率由内置计算机控制。一个舒适的软件应用程序在一个用户界面单元中结合了所有相关的系统信息和过程调整。HCO系统的一个非常重要的特点是高度可开发和易于扩展的设计，它允许根据个人需求定制结构和规格，以及以简单和经济高效的方式安装附加组件。

技术细节:

气体压力:在工艺室中可达150bar

可自由独立调节不同气体的分压和流量(典型气体:氩气和氧气)

真空:低至10-5毫巴，宽直径涡轮泵连接

坩埚内径:可达70毫米

坩埚体积:300ml(标准配置)

温度:高达1700°C

牵引系统:精确的磁力耦合牵引和旋转馈入系统，没有加压轴承

所有系统参数都可以通过内置计算机和软件应用程序轻松控制和调节

功率坡道和旅行坡道功能

所需实验室连接:

按规定压力供气

排风系统

电源:三相交流，50hz, 400v

冷却水