第四代半导体工艺设备 氧化镓退火炉
第四代半导体工艺设备 氧化镓退火炉

¥18万

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晨立

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CLYHJ

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中国大陆

  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

用途:

 新型的宽禁带半导体材料,氧化镓(Ga2O3)由于自身的优异性能,凭借其比第三代半导体材料SiC和GaN更宽的禁带,在紫外探测、高频功率器件等领域吸引了越来越多的关注和研究。氧化镓是一种宽禁带半导体,禁带宽度Eg=4.9eV,其导电性能和发光特性良好,因此,其在光电子器件方面有广阔的应用前景,被用作于Ga基半导体材料的绝缘层,以及紫外线滤光片

  青岛晨立生产的氧化镓退火炉主要适用于科研单位、高等院校、研究机构及企业。主要用于2-6英寸氧化镓的退火等工艺使用。


售后服务承诺

产品货期: 90天

整机质保期: 12月

培训服务: 安装调试现场免费培训;提供付费培训

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