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8英寸等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备
系统特性
可提供基于硅烷(SiH4)体系的薄膜沉积方案,还可选正硅酸乙酯(TEOS)体系的沉积方案
可提供双频设备,使氮化硅(SiNx)的应力可调,范围从压应力-1.6GPa到张应力+0.7GPa
可提供n/p型掺杂,满足磷硅玻璃(PSG)和硼磷硅玻璃(BPSG)等掺杂氧化硅工艺的需求
8/6英寸兼容
Shale® A系列等离子体增强化学气相沉积设备(PECVD),通过平行电容板电场放电产生等离子体,可以在400℃及以下沉积比较致密、均匀性较好的氧化硅、TEOS、BPSG、氮化硅、氮氧化硅、非晶硅、非晶碳、非晶碳化硅等薄膜。该设备采用了8英寸产线设备所通用的国际标准零部件,符合SEMI的设计标准,并通过了严苛的稳定性和可靠性测试验证。
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
鲁汶化学气相沉积(CVD)Shale® A 系列的工作原理介绍
化学气相沉积(CVD)Shale® A 系列的使用方法?
鲁汶Shale® A 系列多少钱一台?
化学气相沉积(CVD)Shale® A 系列可以检测什么?
化学气相沉积(CVD)Shale® A 系列使用的注意事项?
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鲁汶化学气相沉积(CVD)Shale® A 系列的操作规程有吗?
鲁汶化学气相沉积(CVD)Shale® A 系列报价含票含运吗?
鲁汶Shale® A 系列有现货吗?
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