SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔_参数

核心参数

同类推荐

看了等离子体刻蚀设备的用户又看了

产品介绍售后服务承诺用户评论问商家

德国Sentech 集成多腔等离子刻蚀和沉积机

高产量

等离子蚀刻和沉积腔体可以与多达两个片盒站组合，用于到200 mm晶片的高产量工艺。

研发

三到六个端口传送腔室可用于集成ICP等离子刻蚀机、RIE刻蚀机、原子层沉积系统、PECVD和ICPECVD沉积设备，以满足研发的要求。样品可以通过预真空室和/或真空片盒站加载。

SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂，可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。

用于研发的SENTECH多腔系统通过图形用户界面控制软件操作。强大的控制软件可用于工业领域高产量的多腔系统。

售后服务承诺

产品货期: 200天

整机质保期: 1年

培训服务: 安装调试现场免费培训

用户评论

暂无评论

发评论

问商家

德国SENTECH等离子体刻蚀sentech的工作原理介绍

等离子体刻蚀sentech的使用方法?

德国SENTECHsentech多少钱一台?

等离子体刻蚀sentech可以检测什么？

等离子体刻蚀sentech使用的注意事项？

德国SENTECHsentech的说明书有吗？

德国SENTECH等离子体刻蚀sentech的操作规程有吗？

德国SENTECH等离子体刻蚀sentech报价含票含运吗？

德国SENTECHsentech有现货吗？

SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔信息由南通宏腾微电子技术有限公司为您提供，如您想了解更多关于SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

推荐分类同类仪器该厂商仪器相关厂商推荐品牌