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microchem 光刻胶SU-8 2000系列永久性环氧负性光刻胶:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075
SU-8 2000 特性
•高纵横比成像
•0.5 > 200 ?m 膜 厚度 在 一 个 外套
•改善涂层性能
•加快干燥速度,提高产量
•近UV (350-400 nm)加工
•胎侧垂直
处理指南
SU-8 2000光刻胶最常用的是传统的UV (350-400 nm)辐射,尽管i-line (365 nm)是推荐的波长。SU-8 2000也可以用电子束或x射线照射。在曝光后,交联过程分为两个步骤(1)在曝光过程中形成强酸,接着是(2)在曝光后烘烤(PEB)过程中酸催化、热驱动环氧交联。正常的工艺是:旋涂、软烤、曝光、PEB,然后显影。当SU-8 2000结构仍将作为设备的一部分时,建议使用受控硬烘焙技术进一步交叉连接这些结构。整个过程应针对具体应用进行优化.
COAT
SU-8 2000有12种标准粘度。本加工指南文件涉及四种产品:SU-8 2025、SU-8 2035、SU-8 2050和SU-8 2075。图1所示。提供所需的信息,以选择合适的SU- 8 2000抗蚀剂和旋转条件,以达到所需的薄膜厚度。
衬底制备
为了获得最大的工艺可靠性,在使用SU-8 2000抗蚀剂之前,基板应保持清洁和干燥。为了达到最佳效果,底物应该用食人鱼湿蚀刻(使用H2SO4和H2O2)清洗,然后用去离子水冲洗。基片也可以用反应离子蚀刻法清洗(RIE)或任何装有氧气的桶式装置。通常不需要附着力促进剂。对于包括电镀在内的应用,推荐使用MCC引物80/20 (HMDS)对基体进行预处理。
推荐项目
1)。为每英寸(25mm)的衬底直径分配1ml的抗蚀剂。
2)。以每分钟500转的速度旋转5-10秒,加速度为每秒钟100转。
3)。以每分钟2000转的速度旋转30秒,加速度为每秒钟300转。
边缘去除(EBR)
在自旋涂覆过程中,光刻胶可能在基板边缘形成。为了最大限度地减少热板的污染,应该去除这个厚珠。这可以通过在晶圆片顶部或底部边缘使用少量溶剂(MicroChem的EBR PG)来实现。大多数自动旋转涂布机现在都有这个功能,可以通过编程自动完成。
通过移除任何边缘珠,掩模可以与晶圆片紧密接触,从而提高分辨率和长宽比。
软烤
建议在软烘烤过程中使用具有良好热控制和均匀性的水平热板。不建议使用对流烤箱。在对流烤箱烘烤过程中,抗蚀剂上可能会形成一层表皮。这种皮肤可以抑制溶剂的进化,导致薄膜不完全干燥和/或延长烘烤时间。表2。显示各种SU-8 2000产品在选定薄膜厚度下的推荐软烘焙温度和时间。
注意:v要优化烘烤时间/条件,请在规定时间后将晶圆片从热板中取出,并将其冷却到室温。然后,将晶圆片返回到热板。如果薄膜“起皱”,将晶圆片放在热板上几分钟。重复冷却和加热循环,直到“皱纹”不再出现在影片中。
光学参数
色散曲线和柯西系数如图3所示。这一信息对于基于椭圆度和其他光学测量的薄膜厚度测量是有用的。
曝光
为了在SU-8 2000抗蚀剂中获得垂直侧壁,我们建议使用长通滤波器来消除350NM以下的紫外线辐射。欧米茄光学公司()或旭硝子科技玻璃公司(AsahiTechnoglass)推荐的V-42型和UV-D35型滤镜()的推荐滤镜(PL- 360-LP)需要增加约40%的曝光时间才能达到最佳的曝光剂量。
注:在最佳曝光条件下,将显影潜影置于PEB热板上后5-15秒内,而不是之前。应进行接触矩阵实验,以确定最佳剂量。
曝光后烘烤(PEB)
PEB应在暴露后直接进行。表5所示。显示推荐的时间和温度。
注:在95°C条件下,经PEB处理1分钟后,SU-8 2000光刻胶涂层应能看到掩膜的图像。如果在PEB期间或之后没有看到可见的潜影,这意味着没有足够的曝光、加热或两者兼备。
发展
SU-8 2000型光刻胶已与MicroChem公司的SU-8显影剂一起被设计用于浸没、喷雾或水坑工艺。其他溶剂型显影剂,如乳酸乙酯和二丙酮醇也可以使用。当发展高展弦比和/或厚膜结构时,强烈搅拌是推荐的。表6给出了浸入式工艺的推荐开发时间。这些发展时间是近似的,因为实际溶解速率可能随搅拌作用而变化很大
注:使用超声波或megasonic浴可能有助于开发通过或孔的模式或结构与紧密节距。
清洗和干燥
使用SU-8显影剂时,喷洗显影剂图4。光学透过率图像用新鲜溶液冲洗约10秒,然后用异丙醇(IPA)再喷/洗10秒。空气干燥与过滤,加压空气或氮气。
注: IPA冲洗过程中产生的白色薄膜表明未曝光的光刻胶发育不良。只需简单地用额外的SU-8显影剂浸没或喷洒基板即可除去白色薄膜并完成显影过程。重复清洗步骤。
使用超声波或megasonic浴将激活溶剂,并允许更有效地开发未暴露的抗蚀剂。
产品货期: 200天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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