SELA EM3预减薄系统
SELA EM3预减薄系统

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SELA EM3

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亚洲

核心参数

产地类别: 进口

EM3是一个专用全自动化的电镜样品减薄系统,它制备的 TEM/SEM 样品可以用来观测横截面和平面。由于具备低温冷却干法切割加工等特点,EM3 系统可以用来制备晶体和非晶体材料样品。制备的样品可以在一个可兼容的或者标 准的TEM样品台上,以便再次改进。

特点:

灵活的低温冷却干法切割加工

※ TEM侧面观察、TEM平面观察以及TEM样品制备

目标距离样品边缘0.25mm以内

不需要载物台,可以处理多个目标的侧面观察

※ 300mm的平台,可以实现全晶片的观察和标记

全晶片定位能力

※ 7500倍的高放大倍数

用图像识别软件进行快速处理

多功能的封装能力

※Xact专用样品制备

倾斜光刻样品制备

规格描述:

样品输入 最大:18×18×1 mm 最小:1.5×1.5×0.05 mm

薄片宽度

FIB: 15μm,±   5μm

Xact:30μm,±   5μm

控制:可进行多轴运动控制的工业电脑

软件:基于WINDOWS * 的专用软件 

视觉系统:

2.5倍、10倍、50倍物镜光学显微镜,白光,明场照 明自动调焦,视频相机, 图像采集器,边缘检测算法

界面: 数字键盘,鼠标(追踪球),15寸TFT显示器

外形尺寸:120(长)×130(宽)×170(高)cm

      ※ 重量:300Kg

优点:

应用于特定点和普通区域

能够多次改进TEM样品

包含漫射和聚焦离子束加工界面

提高整体质量

提高产量分析

提高性能分析

低成本

 


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