超高真空离子溅射热蒸发镀膜仪

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超高真空离子溅射热蒸发镀膜仪相关的厂商

  • 贰零壹捌科技(天津)有限公司是一家专业从事纳米颗粒与纳米薄膜制备设备以及复杂真空系统设计、开发、制造、销售的高科技公司。创始人曾在德国和美国的高水平大学学习与工作,致力于团簇束流沉积技术和质谱、能谱等复杂真空系统的研究和设备开发。因此,公司以纳米团簇束流技术见长,拥有雄厚的复杂真空系统设计、制造及研发能力。开发完成的纳米团簇束流源及质量选择和沉积系统设备达到了国际先进水平,拥有研究型和生产型两个系列。擅长纳米团簇束流沉积技术在工业应用领域的方案设计、技术服务与产品代工,尤其适合于纳米光电与传感器件、微机电器件工业制程领域提供系统解决方案。公司采用国际上先进的“设备与工艺相结合”模式进行研发、生产与销售,引领世界先进技术。公司拥有良好的售前服务平台、完善的售后服务体系、广泛的技术支持能力,致力于向广大的国内外用户提供性能高、稳定性强、安全可靠的产品。公司配备了优秀的科研人员,为用户提供售前、售后工艺服务与工艺技术支持,包括:设备选型实验、设备考察实验、项目预研与立项、合作攻关、工艺指导、工艺培训等。 广泛应用在光学、半导体、离子束、真空设备、真空机械、科研仪器及相关控制软件。镀膜、沉积设备、超高真空设备、复杂系统联动控制、低维材料制备、石墨烯传感器及系统集成:v v沉积设备:化学(催化)、材料、新材料、电极材料(新能源)(磁控溅射(单靶或多靶)、热型、电子束轰击型) v复杂真空系统:超高真空环境下,材料制备、原位表征、材料转移、集成LEED,角分辨激光光电子能谱(磁瓶和动量谱仪型)、高分辨质谱、医用质谱、各类离子与团簇源(离子源包括高电荷态ECR、中等离子态强流ECR离子源、磁控溅射强流团簇源、整发型团簇源)、不同功能光谱、质谱、电子能谱的多功能系统集成。 v抛光:荷能纳米颗粒超光滑表面抛光 v超高真空系统设计、超高真空系统相关联动系统软件、超高真空腔体与部件的加工、离子光学系统的设计 v真空部件加工
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  • 400-860-5168转6134
    南通宏腾微电子技术有限公司(NTHT Semiconductor Technologies Limited)是一家专业的微纳材料、半导体和微电子材料及器件研发仪器及设备的供应商。南通宏腾微电子技术有限公司所销售的仪器设备广泛用于高校、研究所、以及半导体和微电子领域的高科技企业。南通宏腾微电子目前代理的主要产品包括: - 霍尔效应测试仪; - 快速退火炉; - 回流焊炉,共晶炉,钎焊炉,真空烧结炉; - 电子束蒸发镀膜机,热蒸发镀膜机 - 探针台,低温探针台,微探针台; - 金刚石划片机; - 球焊机,锲焊机; - 磁控溅射镀膜机; - 原子层沉积系统,等离子增强原子层沉积设备; - 电化学C-V剖面浓度分析仪(ECV Profiler); - 扫描开尔文探针系统; - 光学膜厚仪;-PECVD\CVD;-脉冲激光沉积系统-PLD-纳米压印;-等离子清洗机、去胶机;-反应离子刻蚀RIE - 光刻机、无掩膜光刻机; - 匀胶机; - 热板,烤胶板; -少子寿命、太阳能模拟器;-NMR-瞬态能谱仪-外延沉积-等离子清洗机光刻胶光刻机(针尖/电子束光刻机EBL,紫外光刻机,激光直写光刻机),镀膜机(磁控溅射机,电子束蒸发机,化学沉积机,微波等离子沉积机,原子层沉积机 等等…
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  • 400-860-5168转3241
    载德半导体技术有限公司是专业的半导体及微电子领域仪器设备供应商,载德所代理的仪器设备广泛用于高校、研究所、半导体高新企业。载德半导体技术有限公司目前代理的主要产品包括: - 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System); - 快速退火炉(RTP); - 回流焊炉,真空烧结炉(Reflow Solder System); - 探针台(Probe Station),低温探针台(Cryogenic Probe Station); - 贴片机(Die Bonder),划片机(Scriber),球焊机/锲焊机(Wire Bonder); - 原子层沉积系统(ALD),等离子增强原子层沉积设备(PEALD); - 磁控溅射镀膜机(Sputter),电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator),热蒸发镀膜机(Thermal Evaporator),脉冲激光沉积系统(PLD) - 低压化学气相沉积系统(LPCVD),等离子增强化学气相沉积系统(PECVD),快速热化学气相沉积系统(RTCVD); - 反应离子刻蚀机(RIE),ICP刻蚀机,等离子体刻蚀机; - 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate); - 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe),光反射膜厚仪(Reflectometer); 等等...
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超高真空离子溅射热蒸发镀膜仪相关的仪器

  • 等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件,不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。仪器元件高度集成化,在同一个腔体内即实现了两种镀膜功能;本镀膜仪采用304不锈钢腔体作真空腔体,镀膜过程完全可见。仪器标配双极旋片真空泵,能够快速达到1.0E-3Pa的真空度,极限真空度1.0E-5Pa,可满足大多数蒸发镀膜实验和二极溅射实验所需的真空环境。本仪器体积小,节省空间,能够置于试验台上使用,一机多用,性价比突出,非常适合各大高校及研究机构选用。离子溅射和蒸发二合一镀膜仪适用范围:扫描电镜样品表面喷金、蒸金喷碳等操作,以及非导体材料试验电极的制作等。 离子溅射和蒸发二合一镀膜仪技术参数:供电电压AC220V,60Hz最大功率1200W样品台直径φ65mm;与蒸发源间距可调,调节范围60mm-100mm真空腔体材质:304不锈钢 O.Dφ168mm x I.Dφ160mm x 210mm最高温度1700℃热电偶B型热电偶真空计电子式真空计真空系统前级泵:浦发MVP030 无油泵 抽速30L/min次级泵:莱宝TURBOVAC 90iX 抽速90L/s真空接口KF40进气接口1/4卡套接头整机尺寸500x350x400mm
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  • n产品简介 HEX型PVD镀膜系统采用模块化的设计理念,一套系统可同时进行磁控溅射镀膜,热蒸发镀膜及电子束蒸发镀膜,并且可以兼容手套箱使用,特别适用于科研客户高质量镀膜应用。 n产品特性:- 模块化设计,可根据用户应用需求更换,真空腔体也可以模块化组合- 兼容磁控溅射,电子束蒸发,热蒸发多种沉积技术- 适用于科研用户- 可与手套箱集成- 占地面积小n主要指标:- 模块化设计,由快速可拆换的六块独立板面形成真空腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)- 四种溅射源:磁控溅射;电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源- 抽真空速度快 (20分钟内达到 5*10-6Torr)- 适用于6英寸及以下尺寸样品- 多种工作台可选,可选配 2-20 rpm旋转台、500℃加热台,水冷台、直流偏压等- 可集成膜厚测量功能,- 兼容手套箱系统- 可配备快速进样腔(选配)- 可配备原位监测选件:热成像,原位等离子体谱,石英晶振- 系统占地空间小,约1m2n主要应用- 化学催化- 电极薄膜制备- 金属半导体薄膜制备- 磁性薄膜制备- 微纳米器件- 光学器件PVD热源简介(1)FISSION磁控溅射源- 靶材尺寸:50mm(2”)- 最大靶材膜厚:6mm(1mm厚强磁体)- 直流电源:780W(600V,1.3A)- 射频电源:300W(13.56MHz)- 气体补偿:通过内置气罩- 冷却:水冷(最小0.5L/min)(2)TAU电子束蒸发器- 工艺腔热源数:4个- 工艺腔单个热源最大功率:250W- 蒸发材料:圆棒(最大直径4mm)或置于坩埚中- 是否支持同时蒸镀:支持- 冷却:水冷(最小0.5L/min)(3)ORCA有机材料沉积源- 坩埚容积:15cc- 温度范围:50-600℃- 热电偶:K型- 电源:直流- 冷却:水冷(最小0.5L/min)(4)TES舟型热蒸发源- 舟型载体容积:1cc-5cc- 温度范围:50℃-2200℃- 电源:直流(1.2kW)
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  • n产品简介 HEX型PVD镀膜系统采用模块化的设计理念,一套系统可同时进行磁控溅射镀膜,热蒸发镀膜及电子束蒸发镀膜,并且可以兼容手套箱使用,特别适用于科研客户高质量镀膜应用。 n产品特性:- 模块化设计,可根据用户应用需求更换,真空腔体也可以模块化组合- 兼容磁控溅射,电子束蒸发,热蒸发多种沉积技术- 适用于科研用户- 可与手套箱集成- 占地面积小n主要指标:- 模块化设计,由快速可拆换的六块独立板面形成真空腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)- 四种溅射源:磁控溅射;电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源- 抽真空速度快 (20分钟内达到 5*10-6Torr)- 适用于6英寸及以下尺寸样品- 多种工作台可选,可选配 2-20 rpm旋转台、500℃加热台,水冷台、直流偏压等- 可集成膜厚测量功能,- 兼容手套箱系统- 可配备快速进样腔(选配)- 可配备原位监测选件:热成像,原位等离子体谱,石英晶振- 系统占地空间小,约1m2n主要应用- 化学催化- 电极薄膜制备- 金属半导体薄膜制备- 磁性薄膜制备- 微纳米器件- 光学器件PVD热源简介(1)FISSION磁控溅射源- 靶材尺寸:50mm(2”)- 最大靶材膜厚:6mm(1mm厚强磁体)- 直流电源:780W(600V,1.3A)- 射频电源:300W(13.56MHz)- 气体补偿:通过内置气罩- 冷却:水冷(最小0.5L/min)(2)TAU电子束蒸发器- 工艺腔热源数:4个- 工艺腔单个热源最大功率:250W- 蒸发材料:圆棒(最大直径4mm)或置于坩埚中- 是否支持同时蒸镀:支持- 冷却:水冷(最小0.5L/min)(3)ORCA有机材料沉积源- 坩埚容积:15cc- 温度范围:50-600℃- 热电偶:K型- 电源:直流- 冷却:水冷(最小0.5L/min)(4)TES舟型热蒸发源- 舟型载体容积:1cc-5cc- 温度范围:50℃-2200℃- 电源:直流(1.2kW)
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超高真空离子溅射热蒸发镀膜仪相关的资讯

  • WELCH实验室真空泵如何确保离子镀膜仪真空度的稳定性和工作效?
    WELCHLAB APPLICATION某客户致力于材料表面处理和真空薄膜仪器的研发,在竞争方面,直接对标国外知名产品。有别于其他同类产品的国产厂家,该客户产品定位高端,在国内市场有较好的口碑,其对配套的旋片真空泵(油泵)要求,无论是在真空度、噪音、外观、售后服务等,还是在品牌知名度方面,都有非常高的要求,为保证离子镀膜仪真空度的稳定性和工作效率,已标配选用了某原装进口品牌的旋片泵,且销售了数年时间,但此品牌的旋片泵价格高昂,货期不稳定,售后服务有着很大的提升空间。此时,我们针对性的向该客户介绍了Welch品牌CRVpro2旋片真空泵。CRVpro2外观设计美观,真空度高,泵体小巧,运行非常安静,泵体内部做PTFE防腐处理,能够明显提高其使用寿命,完全适合配套客户的离子镀膜仪设备。且因CRVpro2旋片真空泵性价比高,售后服务完善,能瞬间提升客户产品的受关注度和整体竞争力。当然,对于临阵换将,任何人都会有所犹豫,为打消客户疑虑,我们及时提供了一台全新的 CRVpro2旋片真空泵,进行现场测试。CRVpro2的安装非常简单,加注真空油、安装转接头、连接不锈钢波纹管,一气呵成。开机运行!在寂静的实验室里,CRVpro2安静的运行着。时间一秒一秒得飞逝,镀膜仪操作面板上的真空度数值飞速变化,结果仅仅用了不到3分钟,就达到了镀膜仪恒定工作压力以下,即1-2Pa。同时,由于Welch研发工程师对CRVpro2的排气端进行了优化设计,其排气口几乎无油雾排出,非常有利于实验室环境,该公司的测试人员对此结果非常满意。随即,设备配套顺理成章,双方打开双赢的合作局面̷̷CRVpro实验室旋片真空泵的优点:  1、泵体运行温度低,能有效减低泵被化学腐蚀风险。  2、油箱和泵体都有抗化学腐蚀涂层,能够保护泵不被化学物质侵蚀。  3、油箱容量大,能够稀释吸入真空油里的化学物质,降低了化学腐蚀的风险和油被污染的程度。  4、低噪音:运行特别安静,不干扰工作。  5、自润滑功能:确保所有运动部件浸润在新鲜的油里,平衡温度,减少油染,延长机械寿命。  6、防倒吸阀:防止在停机时油被倒吸进真空容器  7、气压载阀:减少化学蒸汽被夹带进入泵油;保护泵不被可凝性流体如水,乙酰腈等的影响。  8、cUL和CE认证:具有各国的安全认证,满足官方的3安全标准。  9、满足各种应用的外形尺寸:现代和紧凑的外形设计,满足各种应用场合的要求。  10、双电压电机:IP44 电机,可在115V 和240V之间切换,并可配置各种相应的电源插头,使CRVpro可使用。CRVpro实验室旋片真空泵的应用: 1、双排管 2、冷冻干燥 3、真空浓缩 4、采暖通风、空调 5、真空干燥箱 6、手套箱 7、质谱仪 8、工业应用关于威伊(Welch)威伊真空设备(上海)有限公司WELCH是提供优质耐用真空泵产品的专家。我们的丰富产品线涵盖了实验室和工业用真空泵,包括真空活塞泵,真空隔膜泵,真空旋片泵,螺旋泵,涡轮分子泵,液体输送泵等,还有各种真空测量仪,真空控制器,真空蒸馏装置,真空浓缩设备,真空抽吸设备等。关于英格索兰英格索兰(纽交所代码:IR),以企业家精神和主人翁意识为动力,致力于创造美好生活。我们通过旗下备受赞誉的40余个品牌,在工业、能源、医疗和特种多功能车领域提供关键和创新的产品与服务,涵盖空气压缩机、泵、鼓风机,以及流体管理、装载、动力工具和物料吊装系统以及知名的Club Car品牌多功能车。在极其复杂和严苛的工况下,亦能确保优越的性能。我们在世界各地的16,000多名员工将持之以恒地为客户提供可靠的专业知识,帮助客户提高生产力并提升效率,与客户建立终身连接。
  • 光学薄膜的真空镀膜设备
    光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw)光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw)光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw)
  • 260万!东南大学计划采购磁控溅射镀膜仪
    一、项目基本情况项目编号:0664-2260SUMEC787D项目名称:东南大学微纳系统国际创新中心磁控溅射镀膜仪采购预算金额:260.0000000 万元(人民币)最高限价(如有):260.0000000 万元(人民币)采购需求:东南大学微纳系统国际创新中心采购磁控溅射镀膜仪 一套本项目接受进口产品。合同履行期限:合同签约后12个月到货安装调试合格。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求:1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定;2.落实政府采购政策需满足的资格要求:本项目若符合扶持福利企业、促进残疾人就业、支持中小微企业、支持监狱和戒毒企业等政策, 将落实相关政策。3.本项目的特定资格要求:(1)供应商必须是所投产品的制造商或代理商,若投标人不是投标产品制造商的,投标人必须具有下列授权文件之一(本条只适用于进口产品):a.供应商必须提供制造商出具的授权函正本; b.制造商的国内全资子公司出具的授权函正本; c.制造商对授权的区域代理商出具的授权函复印件及该区域代理商出具的授权函正本; d.投标人取得的产品代理证书复印件(正本备查)。4.拒绝下述供应商参加本次采购活动:(1)供应商单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商,不得参加同一合同项下的政府采购活动。(2)凡为采购项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商,不得再参加本项目的采购活动。(3)供应商被“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn)、“中国政府采购网"(www.ccgp.gov.cn)列入失信被执行人、税收违法黑名单、政府采购严重违法失信行为记录名单。三、获取招标文件时间:2023年01月05日 至 2023年01月11日,每天上午9:00至11:00,下午14:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外)地点:线上方式:在线获取售价:¥600.0 元,本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间:2023年01月29日 09点30分(北京时间)开标时间:2023年01月29日 09点30分(北京时间)地点:南京市长江路198号苏美达大厦辅楼303会议室,五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜申请人的资格要求:1、满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定:(1)具有独立承担民事责任的能力(提供法人或者其他组织的营业执照,自然人的身份证明);(2)具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度(提供参加本次政府采购活动前半年内(至少一个月)的会计报表或者上一年度的财务审计报告,成立不足一年的提供开标前六个月内的银行资信证明原件。);(3)具有履行合同所必需的设备和专业技术能力(根据项目需求提供履行合同所必需的设备和专业技术能力的证明材料); (4)有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录(提供参加本次政府采购活动前半年内(至少一个月)依法缴纳税收和社会保障资金的相关材料);(5)参加政府采购活动前三年内,在经营活动中没有重大违法记录(提供参加本次政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明)(格式见后附件)。(6)法律、行政法规规定的其他条件。2、凭以下材料获取:(1)获取采购文件材料:1、营业执照【复印件加盖公章,扫描件】2、介绍信或者法定代表人授权书【原件加盖公章,扫描件,开具日期不得早于公告日期】3、委托代理人身份证【复印件加盖公章,扫描件】4、采购文件获取登记表word版【详见招标公告附件】(2)凡有意参加本次采购活动的供应商必须提供第(1)条规定证件登记并获取,不按规定获取的视为获取失败。3、我司提供了在线获取采购文件服务,操作流程如下:(1)、用微信关注我司公众号“苏美达达天下”。(2)、进入公众号-“在线服务”-“在线购标”。(3)、输入本项目的项目编号,举例:0664-2260SUMEC787D,点击查询。添加您所要获取的采购文件到购物车,输入投标单位名称、领购人信息以及发票信息,提交订单并确认微信支付,支付完成后将报名材料扫描件和登记表word版一并发至采购代理机构联系人:焦立阳,邮箱:jiaoly_work@163.com 即可,我们将会把采购文件电子版发送到领购人的邮箱。注意事项:(1)确保领购人邮箱真实准确无误,电子版采购文件将发送到此邮箱。(2)目前标书费发票支持开标现场领取或者顺丰到付。(3)“苏美达达天下”付款平台填写的投标单位名称必须与开票信息一致。如不一致投标人自行承担后果。请认真填写领购人信息及发票信息。(4)非采购代理机构或平台公司原因,发票一经开具不予退换。4、疫情防控期间注意事项(本项目采取在线流程):在线流程:因疫情原因,本项目进行线上开标,请供应商尽量提前准备投标文件,以便及时送达代理机构指定的地点。供应商按照不见面开标通知(附件1)的要求参加开标会议。如因投标文件未及时送至代理机构造成的后果由供应商自负。七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。1.采购人信息名称:东南大学地址:南京市玄武区四牌楼2号联系方式:技术咨询:微纳系统国际创新中心:贺老师 电话:025-83792632 分机号8806; 实验室与设备管理处:刘加彬 电话:025-83792693。2.采购代理机构信息名称:苏美达国际技术贸易有限公司地址:南京市长江路198号苏美达大厦联系方式:项目联系人:杨 扬、焦立阳 电话:025-84532455、025-845324523.项目联系方式项目联系人:杨 扬、焦立阳电话:025-84532455、025-84532452

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