超高真空离子溅射热蒸发镀膜仪

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务：典型实例 1，磁控溅射合金膜2，ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3，沉积细胞定位电极4，磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备：1，磁控溅射镀膜系统2，磁控溅射镀膜机3，磁控溅射真空镀膜机4，电子束蒸发镀膜仪5，高密度等离子体增强化学气相沉积设备

纯英国进口溅射镀膜仪专用靶材产地：英国品牌：Cressington类型：Au, Pt, Au/Pd, Pt/Pd, Cr, Ir, W, Ti, Ag, 高纯碳棒等现阶段由于国内用户辨别能力不足导致市场上非常多的厂家用国产靶材冒充进口靶材现象，而国产靶材由于杂质多（虽然宣称纯度优于4个9），质量次会导致镀膜效果不均匀，污染溅射头等问题，主要区别：1. 国产靶材包装为简单的塑料密封包装，而进口靶材为特制硬纸板保护加真空包装；2. 国产靶材没有产地信息或简单贴牌，而进口靶材有明显的产品信息和编号；

【产品详情】 Pfeiffer P3号油可有效改善真空泵性能，适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵，尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。 【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3 mbar产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪： 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材：适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材：适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材，适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材，适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材，适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材，适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时，如何选择相应靶材：Gold黄金优良的靶材，广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto)，对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比，Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰，所以不是很适合EDS分析，也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低，可用于中低放大倍数场合，具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气，则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多，但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM，但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低，可用于中低放大倍数场合，颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比，SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下，则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM. 为避免氧化，需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像，溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM，需用于208HR一样的高真空镀膜仪，溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细，但氧化非常快，溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像，溅射产率低，镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合，BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低，对于SEM离子溅射不适用，且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用，但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X

高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪： 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材：适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材：适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材，适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材，适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材，适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材，适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时，如何选择相应靶材：Gold黄金优良的靶材，广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto)，对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比，Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰，所以不是很适合EDS分析，也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低，可用于中低放大倍数场合，具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气，则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多，但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM，但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低，可用于中低放大倍数场合，颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比，SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下，则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM. 为避免氧化，需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像，溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM，需用于208HR一样的高真空镀膜仪，溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细，但氧化非常快，溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像，溅射产率低，镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合，BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低，对于SEM离子溅射不适用，且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用，但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X

Quorum 耗材，靶材，载物台等附件Quorum提供了一系列消耗品和备件。溅射靶材Quorum为我们当前的Q系列（S和ES版本）和SC7620溅射镀膜机以及以前使用Emscope，Emitech，Polaron，Bio-Rad，Fisons Instruments和Thermo VG品牌制造的型号提供金属溅射靶材。包括E7400-314A TargetGold 0.2 mm, E7400-31C Target Platinum 0.2 mm, E7400-314IR Target Iridium 0.3 mm, SC500-314A Target Gold 60 mm x 0.1 mm thick, SC500-314E Target Silver 60 mm x 0.1 mm thick, SC502-314A Target Gold 57 mm x 0.1 mm, 更多溅射靶点请咨询大连力迪流体控制技术有限公司碳耗材：碳棒和碳纤维供应品有多种尺寸和纯度可供选择，通常用于将碳蒸发到样品上，用于 X 射线微量分析或透射电子显微镜 （TEM）分析。

钨篮（Tungsten Wire Basket）金属钨具有高熔点和低蒸汽压的特点，在1650°C时仍具有很好的机械性能；耐腐蚀性也很强。所以，钨是真空镀膜领域使用最为普遍的金属材料之一。 性能参数： Chemical symbol:WAtomic Radius:2.02?Atomic Volume, cm3/mol:9.53Covalent Radius:1.3 ?Crystal Structure: Body centered cubeNumber of Electron (with no charge): 74Atomic Number of Protons:74Number of Neutrons (most common/stable nuclide):110Ionic Radius: 0.62?Cross Section:18.5 barns ± 0.5真空级别钨丝，提供三种钨篮式样：参数：Basket TypeTurnsI.D. mmHeight mmWire Lead cmWire Dia. InchesA9473.50.020B8795.00.020D89144.00.030订购信息：货号产品名称规格73830钨篮Tungsten Wire Basket A50/包73832钨篮Tungsten Wire Basket B50/包73834钨篮Tungsten Wire Basket D50/包

四通阀包含3个接口、1个阀门，呈垂直且共面分布，其中2个KF40接口、1个KF25接口（可根据用户要求改制），主要用于连接真空腔室与分子泵及真空规管，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪的高真空腔室。主要特点可用于高真空腔室。技术参数 1、接口：2个KF40、1个KF25 2、阀门：1个

真空镀膜陶瓷/氧化铝陶瓷/精密陶瓷垫片/带孔陶瓷垫19.5×10×5孔×5厚3.0氧化铝陶瓷Al203作为应用最广泛的先进陶瓷材料，氧化铝陶瓷具有优异的电绝缘性、耐腐蚀性、耐磨损性和良好的机械性能，被广泛应用于电子医疗行业及机械工业零件等。材料性能表：氧化铝（A-95）氧化铝（A-99）密度：≥3.63 g/cm3≥3.9 g/cm3颜色：白色象牙白导热率：18 W/m..K27 W/m..K抗弯强度：≥280 Mpa≥360 Mpa体电阻率：＞10∧14 Ω.cm＞10∧14 Ω.cm热膨胀系数：7.2 （10-6/℃）8（10-6/℃）最高使用温度：1200℃1200℃0.1：材料解决方案电绝缘，热膨胀，硬度，导热系数等。对于任何其他要求，我们建议将材料与加工各种材料的经验相匹配。0.2：支持产品开发从提供样品到批量生产，我们将为您提供服务，我们还可以提供有关设计，交货日期的建议，以使客户的产品更好。0.3：快速交货我们内部拥有各种各样的材料和工具，这使得我们能够快速加工并交付给您。0.4：质量保证XMCERA的技能是通过严格的质量保证来控制和建立的，基于ISO9001:2015，我们承诺提供满足客户需求的产品。

产品简介：四通阀包含3个接口、1个阀门，呈垂直且共面分布，其中2个KF40接口、1个KF25接口（可根据用户要求改制），主要用于连接真空腔室与分子泵及真空规管，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪的高真空腔室。 产品型号　四通阀主要特点　可用于高真空腔室。技术参数 1、接口：2个KF40、1个KF25 2、阀门：1个

这些德国制造的PVD高纯溅射靶材是全球领先的超高纯度PVD镀膜材料，完全在德国生产，拥有世界一流的产品性能，非常适合PVD溅射靶材和PVD镀膜使用。PVD溅射靶材具有全球最为齐全的种类。Tribological Coatings and FilmsDescription:Targets for the components and tools in mechanical engineering and instrumentation.Example:Cr 99.95% WC 99.5%.Precision OpticsDescription:Targets for lasers, lightings and filters.Example:Ta 99.95%.Transparent Conductive Oxide (TCO) TargetsDescription:ITO, ZnO, SnO2 and ZnO: Al based targets for the photovoltaic, low E-glass and flat panel display industries.Example:ZnO 99.9% (TCO)Reflective MaterialsDescription:Reflective targets for solar applications.Example:Aluminum 6061.Thin Film Battery TargetsDescription:Lithium based targets for solid-state rechargeable batteries.Example:LiCoO2 99.9%Semiconductor TargetsDescription:High k-dielectric, Hafnium, Tantalum and Barium Titanate based targets for thin film capacitors.Example:Barium Titanate 99.9%.Storage MediaDescription:High density Ru targets for perpendicular storageCustom TargetsDescription:Compositions and shapes tailored for your needs.Materials ListingAAg 99.99 Al 99.99 99.999 AlN 99.9 Al2O3 99.99 Al/Cu 99.99 99.999 Al/Si 99.99 99.999 Al/Si/Cu 99.99 99.999 Au 99.99 99.999 BBaFe12O19 99.9 BaF2 99.9 BaMnO3 99.9 (Ba,Sr)TiO3 99.9 BaTa2O6 99.9 BaTiO3 99.9 BaZrO3 99.9 Bi 99.9 99.999 Bi2O3 99.99 Ba4Ti3O12 99.9 BN 99.9 CCa 99 CaF2 99.95 CaTiO3 99.9 CdTe 99.995 Ce 99.9 CeO2 99.9 99.99 Cr 99.9 99.95 99.99 Cr2O3 99.8 CrSiO2 99.5 Co 99.95 CoO 99.5 Cu 99.997 Cu/Ga 70/30 at.% 99.99 CuO 99.9 DDyFeO3 99.9 Dy2O3 99.9 EEr2O3 99.9 FFe 99.95 Fe2O3 99.9 GGd2O3 99.9 GaN 99.99 Ge 99.999 HHfO2 99.95 I-KIn 99.99 99.999 In2O3 99.99 In2O3/SnO2 90/10wt% 99.99 In/Sn 99.99 Ir 99.8 99.9 LLa 99.9 LaAlO3 99.9 LiCoO2 99.9 LiNbO3 99.9 Li3PO4 99.9 MMg 99.98 MgAl2O4 99.9 MgB2 99.5 MgFe2O4 99.9 MgF2 99.9 MgO 99.95 Mn 99.9 Mo 99.9 99.95 MoS2 99 N-ONd 99.9 Nd2O3 99.9 Ni 99.95 99.98 99.99 Ni/Cr 99.95 Ni/Cr/B 99.95 Ni/Cr/Si 99.95 Ni/Fe 99.95 Ni/V 99.9 Nb 99.95 Nb2O5 99.9 P-QPb 99.999 Pb(Zr,Ti)O3 99.9 Pd 99.95 Pt 99.9 99.99 Pr 99.9 Pr2O3 99.9 RRe 99.9 Rh 99.8 Ru 99.9 RuO2 99.9 SSe 99.999 Si 99.999 SiC 99.5 Si3N4 99.9 SiO 99.9 SiO2 99.99 Si/Cr 99.99 Sn 99.99 SrFe12O19 99.9 SrRuO3 99.9 SrTiO3 99.9 99.99 T-UTaC 99.5 Ti 99.95 99.995 TiB2 99.5 TiC 99.5 TiN 99.5 TiO 99.9 TiO2 99.9 TiSi2 99.5 Ti/Al 99.9 TiW 99,95 99,995 VV 99.7 99.9 VC 99.5 VN 99.5 V2O5 99.9 W-XW 99.95 WC 99.5 W/Ti 99.95 YYb2O3 99.9 Y2O3 99.99 ZZn 99.99 ZnO/Al2O3, 98/2 wt.% 99.9 99.99 99.999 ZnO 99.9 99.99 99.999 ZnS 99.99 ZnSn 99.9 Zn/Al 99.99 Zr 99.2 ZrB2 99.9 ZrO2 + 3, 8, or 10 mol.% Y2O3 99.9

【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外) 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：铬靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

金属钨具有高熔点和低蒸汽压的特点，在1650°C时仍具有很好的机械性能；耐腐蚀性也很强。所以，钨是真空镀膜领域使用最为普遍的金属材料之一。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。 性能参数：Chemical symbol:WAtomic Radius:2.02?Atomic Volume, cm3/mol:9.53Covalent Radius:1.3 ?Crystal Structure: Body centered cubeNumber of Electron (with no charge): 74Atomic Number of Protons:74Number of Neutrons (most common/stable nuclide):110Ionic Radius: 0.62?Cross Section:18.5 barns ± 0.5 钨丝 我们提供的钨丝纯度在99.90%以上，3种直径可选。 订购信息：货号产品名称规格73800钨丝Tungsten Wire, 0.020" (0.51mm) Diameter 20 ft73801钨丝Tungsten Wire, 0.020" (0.51mm) Diameter 100 ft73802钨丝Tungsten Wire, 0.025" (0.64mm) Diameter 20ft73803钨丝Tungsten Wire, 0.025" (0.64mm) Diameter 100ft73804钨丝Tungsten Wire, 0.009" (0.25mm) Diameter 20ft73805钨丝Tungsten Wire, 0.009" (0.25mm) Diameter100ft此外我们还提供各种尺寸的钨舟。适用于光阑清洁。真空蒸镀等领域厚度: 0.05mm (0.002") ，总长: 75mm (3") 舟槽尺寸: 12mm(1.2") long x 5mm (3/16") wide x 1mm deep.具体规格参数请直接联系我们

美国CVI laser optics 设计和生产紫外到近红外波段的高性能光学器件，主要应用在激光的光束调节和传输方面，在业内有很高的知名度。金属镀膜反射镜:通过复合镀膜能实现在紫外波段到中红外波段的反射率和起保护作用的金属膜层。美国CVI laser optics生产的反射镜有超过350种镜片可供选择；设计入射角为0°或45°，覆盖波段从190nm 到 2000nm 提供金、银、铝等金属镀膜，用于提高反射率、起保护作用等；使用BK7或UVFS材料，能够实现λ/10表面质量的镜片；提供具有高反射率的镀膜镜片,如MaxMirror 和MaxBRlte 能在宽波段内实现大于98%的反射率。若是单面镀膜,会在未镀膜面用箭头指向镀膜面,方便使用。

双线激光反射镜又名双激光谱线反射镜,是英文Dual Laser Line reflecting mirrors 的翻译。双线激光反射镜用于在两个不同的波带上实现进行高反或高透应用，入射角一般为45度。百分之百进口，质优价廉。双激光谱线反射镜采用多层镀膜，当可以在两个激光波长上实现最高的激光反射率。双线激光反射镜采用了离子束溅射技术（Iom Beam Sputtering, IBS)或电子束蒸发技术进行镀膜，这些镀膜技术非常成熟，并且采用多层镀膜技术可以保证双线激光反射镜高功率应用。双激光谱线反射镜,Dual Laser Line reflecting mirrors 技术指标基片尺寸公差：+0/-0.1mm基片波前畸变：基片表面质量：20/10 SD 40/20SD(曲面）镀膜粘附性和耐久性：Per MIL-C-675A净孔径： 90%镀膜反射率：R99,5% @ 0o Rs99,3% and Rp98,5% @ 45deg激光损伤阈值:3-5J/cm2 for 10 ns pulses @1064nm进The measured transmission curve for dual wavelength HR coating (HR @ 515+1030 nm)双线激光反射镜,双激光谱线反射镜,Dual Laser Line reflecting mirrors 询问服务：请阁下根据如下格式选择和填写您需要的镜片和镀膜参数，然后复制后直接通过Email发送给我们，您会收到及时的报价回复。Substrate material 基片材料 Shape 基片形状RectangularRound 请选择圆形或方型Dimensions 尺寸mm 如果是圆形就填写直径大小Thickness 厚度mm Type 类型Plano-ConcavePlano-ConvexOtherFlat/Flat如果您选择曲面镜片，请填写曲率半径 eg ROC1=-50mm ROC2=+1000mmSurface figure L/4 L L/2 L/8Surface quality 20/1040/2060/40Parallelism error10arcsec1arcmin3arcminWedgeNo wedge30arcmin1deg2deg3degCentral wavelenghs: eg. 1064nm+532nm Angle of incidence (AOI)deg Comments

PFA旋转蒸发仪，又叫PFA旋转蒸发器，是实验室广泛应用的一种蒸发仪器。特氟龙旋转蒸发仪弥补了玻璃的不足，它具有耐高温、耐强酸强碱、金属元素空白值低、无析出溶出等特点，弥补了玻璃器皿的不足，且更优秀。满足的实验范围更广..PFA系列顾名思义是由特氟龙材质制成，整个部件均采用耐强酸强碱的PTFE和PFA材质，主要部分有： 1. PFA蒸馏瓶 2. 四氟腔体主要用于腐蚀性物料反应，可做到在减压条件下连续蒸馏易挥发性溶剂。PFA旋蒸蒸发仪利用一台电机带动蒸馏瓶旋转。由于蒸馏器在不断旋转，可免加沸石而不会暴沸。同时，由于不断旋转，液体附于蒸馏器的壁上，形成一层液膜，加大了蒸发的面积，使蒸发速度加快。是有经常用来回收、蒸发有机溶剂。 旋转蒸发仪用途和特点旋转燕发器主要用于医药、化工和生物制药等行业的浓缩、结晶、千燥、分离及溶媒回收。其原理为在真空条件下，恒温加热，使旋转瓶恒速旋转，物料在瓶壁形成大面积薄膜,高效蒸发。溶媒蒸气经高效玻璃冷凝器冷却,回收于收集瓶中，大大提高蒸发效率。特别适用对高温容易分解变性的生物制品的浓缩提纯。瑞尼克的旋转蒸发仪有什么不一样呢？瑞尼克的旋转蒸发仪用的是特氟龙材质，接触样品的部分都是PFA材质，相信了解过PFA材质的客户都知道，耐强酸强碱及有机溶剂和耐高温，本底值低，溶出和析出少，金属离子杂质少，是实验较好选择的一种塑料容器，这个材料透明度高，可以看见溶液的反应情况。

密封装置主要用于在真空腔室上垂直安装圆柱型元器件，安装孔径为19.2mm。主要特点1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。2、安装孔径可根据用户要求改制。技术参数安装孔径：19.2mm

产品简介：不锈钢弯头共2个接口，两接口为90°垂直且共面分布，主要用于连接真空腔室与相关配件。 产品型号　不锈钢弯头主要特点 1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。 2、接口可根据用户要求改制。技术参数　接口：2个KF40 接口

UBC实验室专业莱宝镀膜机光纤端面镀膜（低功率）一．关于我们的设备 2008年12月16日加拿大UBC光纤通信实验室的高端真空镀膜设备正式投入试生产使用，满足科研需求的同时，我们也对外承接镀膜的业务。我们专注于光纤端面镀膜，以及中远红外波长晶体镀膜。光纤端面镀膜是我们的擅长，尤其是针对高反膜1550nm光通信光纤镀膜我们的成品率可以达到98%以上，反射率高达99%以上。我们也能够镀一定波段范围内增透膜或者高反膜。目前在国内，我们的典型客户有很多：华为技术有限公司，广州天赋人财有限公司，优脉管业股份有限公司。我们的产品在他们实验的方案系统中性能卓越，得到了客户的广泛认可。我们的镀膜设备分为两种：一种小锅炉：每次镀膜200根左右，另一种镀膜炉为大锅炉单次镀膜在1800根左右。小锅炉适合于两类客户群体：第一是小项目需求量比较少节约成本。第二类是第一次购买，需要验证镀膜质量的客户。大锅炉适合：小锅炉验证通过，但是需求量很大，希望节约成本的客户，镀膜同样的数量的光纤，大锅炉会节约一半的成本。 二.我们镀膜的产品：二.光谱图二.订购信息

我公司可订做多种靶材，如：金靶（Au），银靶（Ag），铂靶（Pt），镍靶（Ni）等高纯（99.99%）单质金属溅射靶材。主要适用：扫描电镜样品制备（小型离子溅射仪、镀膜机）、真空镀膜等。

我公司可订做多种靶材，如：金靶（Au），银靶（Ag），铂靶（Pt），镍靶（Ni）等高纯（99.99%）单质金属溅射靶材。主要适用：扫描电镜样品制备（小型离子溅射仪、镀膜机）、真空镀膜等。

RE－5299旋转蒸发仪 技术参数 电子无级调速，0-150转/分，微电机驱动，上下自动升降 温度：埋入式传感器，数字显示温度，温度自动控制，室温-99度 冷却器：蒸发液通过大孔径蒸发管进入粗直径冷凝管，加快蒸发速度 输入功率：1000W 电压：-220V/50HZ 加料管：阀门式供连续加液 加热锅：不锈钢特氟隆复合锅 主要特点 电子无级调速，0-150转/分，微电机驱动，上下自动升降 温度：埋入式传感器，数字显示温度，温度自动控制，室温-99度 冷却器：蒸发液通过大孔径蒸发管进入粗直径冷凝管，加快蒸发速度 输入功率：1000W 电压：-220V/50HZ 加料管：阀门式供连续加液 加热锅：不锈钢特氟隆复合锅 仪器介绍 电子无级调速，0-150转/分，微电机驱动，上下自动升降 温度：埋入式传感器，数字显示温度，温度自动控制，室温-99度 冷却器：蒸发液通过大孔径蒸发管进入粗直径冷凝管，加快蒸发速度 输入功率：1000W 电压：-220V/50HZ 加料管：阀门式供连续加液 加热锅：不锈钢特氟隆复合锅

这款宽带激光反射镜,HR Broad Band mirrors是欧洲进口的宽波段激光反射镜,非常适合宽范围波段的激光反射应用，比较适合大于关于中心波长10%范围浮动的激光的高反应用，比如，对用中心波长为800nm的激光，HR@800nm, 这种宽带激光反射镜就比较适合反射的激光范围为750-850nm 甚至更大的范围。 这种宽带激光反射镜,宽波段激光反射镜常常用于腔外激光束的操作应用，对激光束的反射要求非常严格，不允许存在透过激光的问题产生，常常使用这种宽波段激光反射镜 ，但是它只适合固定的入射角(常用45度）。宽带激光反射镜,宽波段激光反射镜采用了离子束溅射技术（Iom Beam Sputtering, IBS)或电子束蒸发技术进行镀膜，这些镀膜技术非常成熟。 基片尺寸公差：+0/-0.1mm 基片波前畸变：基片表面质量：20/10 SD 40/20SD(曲面） 镀膜粘附性和耐久性：Per MIL-C-675A 净孔径： 90% 镀膜反射率：R99% @ 0o Rave99% @ 45o 激光损伤阈值:2-3J/cm2 for 10 ns pulses @1064nm宽带激光反射镜,宽波段激光反射镜垂询格式： 如下是镜片的标准参数格式，请阁下仿照如下格式把您对镜片及其镀膜的要求发邮件给我们，我们会及时回复报价。Substratematerial 基片材料 CaF2, FS, ZnSe, UVFS, IRFSShape 形状Rectangular Round （方形还是圆形）Dimensions 尺寸 mm Thickness 厚度 mm Type 类型Other Flat/Flat Plano-Concave Plano-Convex Radius of Curvature (ROC) 曲率半径（对曲面镜而言） for curved substrates only eg ROC1=-50mm ROC2=+1000mm Surface figure L/4 L L/2 L/8 Surface quality 表面质量20/10 40/20 60/40 Parallelism error 平行误差10arcsec 1arcmin 3arcmin Wedge No wedge 30arcmin 1deg 2deg 3deg Coatings on Side1 S1面镀膜例如. PR(R=80+/-2%)@1064nmCoatings on Side2 S2 面镀膜例如. AR(R0,2%)@1064nmAngle of incidence (AOI) 入射角Comments 评论订购数量

最精密的离子溅射标样，用于校准离子枪。提供SiO2、Si3N4、Ta2O5和NiCr-7薄膜

产品简介：密封装置主要用于在真空腔室上垂直安装圆柱型元器件，安装孔径为19.2mm。 产品型号　密封装置主要特点 1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。 2、安装孔径可根据用户要求改制。技术参数　安装孔径：19.2mm

这款欧洲进口激光谱线反射镜/(HR Laser Line mirrors )是一种高功率激光反射镜,比较适合关于中心波长百分之十范围内的激光高反使用。激光谱线反射镜,高功率激光反射镜在窄带上提供绝佳的高反性能，而且比较适合对反射要求较高的应用。这款激光谱线反射镜,高功率激光反射镜比较适合关于中心波长10%范围浮动的激光的高反应用，比如，HR@800nm, 比较适合反射的激光范围为760-840nm, 由于激光谱线反射镜适合的激光波段较窄，因此高功率激光反射镜常常被称为激光谱线反射镜Laser Line mirrors 或单波长激光高反镜。 这种激光谱线反射镜常常用于腔外激光束的操作应用，对激光束的反射要求非常严格，不允许存在透过激光的问题产生，常常使用这种单波段激光谱线反射镜,高功率激光反射镜，但是它只适合固定的入射角(常用45度），而且最好是单波长激光或对波带宽度要求很窄的激光。 单波长激光谱线反射镜,高功率激光反射镜采用了离子束溅射技术（Iom Beam Sputtering, IBS)或电子束蒸发技术进行镀膜，这些镀膜技术非常成熟。 基片尺寸公差：+0/-0.1mm 基片波前畸变：基片表面质量：20/10 SD 40/20SD(曲面） 镀膜粘附性和耐久性：Per MIL-C-675A 净孔径： 90% 镀膜反射率：R99,6% @ 0o Rs99,8% and Rp99,3% @ 45o 激光损伤阈值:5-7J/cm2 for 10 ns pulses @1064nm激光谱线反射镜,高功率激光反射镜问询： 根据如下格式填写您的要求，复制后发邮件给我们，我们将及时回复报价 Substrate material ShapeRectangularRoundElliptic Dimensionsmm Thicknessmm TypePlano-ConvexFlat/FlatPlano-ConcaveOther Radius of Curvature (ROC) for curved substrates only eg ROC1=-50mm ROC2=+1000mm Surface quality20/1040/2060/4020/5 Central wavelengthnm Angle of incidence (AOI)deg Surface figure L/4 L L/2 L/8 Parallelism error10arcsec1arcmin3arcmin- WedgeNo wedge30arcmin1deg2deg3deg Comments

不含硅（silicone-free），一款专门为超高真空设计的润滑脂，其在20℃时饱和蒸汽压小于10-10 Torr。 Apiezon AP100含聚四氟乙烯微球，具有极强的润滑能力。该脂四球润滑能力测试值为450公斤，是常规石油基脂润滑能力的八倍。Apiezon AP100是一款专为室温环境设计的超高真空润滑脂。如需更高温度，推荐使用Apiezon AP101或Apiezon H真空脂。优点：l 防粘附anti-seizel 超高真空l 非硅类脂，对“蔓延”现象有很好的抑制l 室温下使用l 易清除，用一块干净软布擦掉后残余的部分，用热水（大于50℃）和液态的玻璃清洗剂冲洗掉应用：非常适合步进马达和变速箱的润滑，可以减小这些部件的磨损和腐蚀。在高负载情况下润滑效果尤为显著；AP100也可用来防止玻璃接头、活塞、或者阀门被卡死或者小金属紧固件的腐蚀。防“蔓延”特性使得AP100在科研和半导体领域使用者获益，极大提高分析技术精度和半导体制造产率。另外，硅类脂会从使用区域扩散开产生“蔓延”，造成邻近表面污染，导致表面粘附力减小，镀膜存在缺陷，而使用AP100可以克服以上缺陷。 订购信息：货号产品名称规格60709APIEZON AP100超高真空润滑脂100g/管 欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。

PFA旋转蒸发仪，又叫PFA旋转蒸发器，是实验室广泛应用的一种蒸发仪器。特氟龙旋转蒸发仪弥补了玻璃的不足，它具有耐高温、耐强酸强碱、金属元素空白值低、无析出溶出等特点，弥补了玻璃器皿的不足，且更优秀。满足的实验范围更广..PFA系列顾名思义是由特氟龙材质制成，整个部件均采用耐强酸强碱的PTFE和PFA材质，主要部分有： 1. PFA蒸馏瓶 2. 四氟腔体主要用于腐蚀性物料反应，可做到在减压条件下连续蒸馏易挥发性溶剂。PFA旋蒸蒸发仪利用一台电机带动蒸馏瓶旋转。由于蒸馏器在不断旋转，可免加沸石而不会暴沸。同时，由于不断旋转，液体附于蒸馏器的壁上，形成一层液膜，加大了蒸发的面积，使蒸发速度加快。是有经常用来回收、蒸发有机溶剂。 旋转蒸发仪用途和特点旋转燕发器主要用于医药、化工和生物制药等行业的浓缩、结晶、千燥、分离及溶媒回收。其原理为在真空条件下，恒温加热，使旋转瓶恒速旋转，物料在瓶壁形成大面积薄膜,高效蒸发。溶媒蒸气经高效玻璃冷凝器冷却,回收于收集瓶中，大大提高蒸发效率。特别适用对高温容易分解变性的生物制品的浓缩提纯。瑞尼克的旋转蒸发仪有什么不一样呢？瑞尼克的旋转蒸发仪用的是特氟龙材质，接触样品的部分都是PFA材质，相信了解过PFA材质的客户都知道，耐强酸强碱及有机溶剂和耐高温，本底值低，溶出和析出少，金属离子杂质少，是实验较好选择的一种塑料容器，这个材料透明度高，可以看见溶液的反应情况。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌钯靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：钯靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

窗口镜片,激光窗口镜片,镀膜窗口镜由孚光精仪进口，孚光精仪是中国领先的进口光学器件服务商！增透镀膜窗口镜片采用精准镀膜工艺，在某些波长上可以达到剩余反射率几乎为零的优质增透镀膜。镀膜窗口镜镀膜的波段可达190nm--10.6um. 激光窗口镜片采用了离子束溅射技术（Iom Beam Sputtering, IBS)或电子束蒸发技术进行镀膜，这些镀膜技术非常成熟，并且采用多层镀膜技术可以镀膜窗口镜适合高功率应用。激光窗口镜片,镀膜窗口镜镜技术参数 基片尺寸公差：+0/-0.1mm 基片波前畸变：基片表面质量：20/10 SD 镀膜粘附性和耐久性：Per MIL-C-675A 净孔径：90% 剩余反射率：R0.2% 激光损伤阈值：8J/cm2 for 10 ns pulses @1064nm射 The measured residual back reflection curve for AR coating (R0.2% @ 1030 nm)请根据如下格式填写您对激光窗口镜片,镀膜窗口镜的要求发送给我们： Substrate material基片材料 Shape形状RectangularRound Dimensions尺寸mm Thickness厚度mm Central wavelength中心波长nm Coating deposited on单面或双面镀膜One side onlyBoth sides Angle of incidence (AOI)入射角deg Surface figure L/4 L L/2 L/8 Surface quality20/1040/2060/40 Parallelism error10arcsec1arcmin3arcmin WedgeNo wedge30arcmin1deg2deg3deg Comments