晶圆测量晶圆制备系统

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晶圆测量晶圆制备系统相关的厂商

  • 400-860-5168转4572
    为了更好服务于第三方检测机构和CRO企业,国家级仪器重大专项的承担者上海科哲生化科技有限公司将下属色谱事业部分立,成立了上海纯华生物科技公司,上海纯华生物科技有限公司集高效液相色谱、制备液相系统、蒸发光检测器、荧光检测器、多维液相等产品于一体,具有独步国内的荧光检测器技术,对于黄曲霉毒素、多氯联苯、维生素等荧光物质检测可提供完整的解决方案,是第三方检测机构最实惠的选择。
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  • 400-860-5168转6230
    北京青元开物技术有限公司专注于生命科学和生物医药行业上游,以宽体积精密移液和微反应精密操控等底层技术驱动,针对测序和质谱等高端检测应用中的高通量、多组学、自动化和智能化需求,合成生物学和CGT等前沿领域的研发和生产端的需求,开发细分领域的专用工具系列产品。目前,测序前处理系列产品已量产和销售。文库制备系统集成建库、质控及均一化三位一体,实现高度自动化;超声打断工作站无需专用耗材,且可直接处理PCR孔板;质谱前处理产品线已有产品交付。在某头部医院使用的血斑萃取工作站,已完成数万例新生儿血斑萃取用于新生儿遗传代谢筛查;独立开发的质粒大提工作站,和天根生化开展背靠背合作模式,已进入量产和推广阶段。公司于2021年底成立,申请自主知识产权50余项,已获得"国家高新技术企业”、"北京市专精特新中小企业"、"北京市创新型中小企业"、"中关村高新技术企业"等资质,已完成四轮融资的交割。
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  • 400-860-5168转2793
    北廷测量技术(北京)有限公司,是一个专门提供流体力学实验测量解决方案的高科技创新性公司。 公司提供高性能、高质量的试验流体力学测量仪器及其辅件,和现场技术服务。 产品主要包括: 各种水洞风洞流场显示系统、热线热膜风速仪HWFA、适合各种应用的PIV系统、浓度场测量的PLIF系统、适合各种应用的激光多普勒测速系统LDV/PDPA系统、适合高超速流场测量的DGV系统、适合温度、压力和密度场测量的FRS系统等等。 为方便用户进行流体力学实验,还提供各类专用的辅助设备:PIV/LDV示踪粒子、示踪粒子发生器、各种波长范围的光学窄带和高通滤镜、Schemuflug角远程遥控调焦调光圈系统 、三维自动坐标架、各种展角片光源、激光光臂及其镜片PIV/LDV管道试验视窗 现场技术服务和咨询:如果只是偶尔的试验或者经费原因,公司还提供PIV/LDV/高速摄像等仪器,在现场进行试验和数据分析。 Tel:86-10 68312460 M: 13911101795Email: fu@btfluid.com web: www.btfluid.com北廷测量技术(北京)有限公司地址:北京市海淀区西三环北路87号国际财经中心A座14层邮编:100044
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晶圆测量晶圆制备系统相关的仪器

  • PrepChromaster-8000型高压制备色谱系统-----专为高通量纯化打造 为了满足中药与天然产物分离纯化领域的需求,推出了PrepChromaster品牌,为该领域提供制备色谱解决方案级产品,是中药与天然产物分离纯化实验室的理想选择。PrepChromaster-8000型是一款连接快速色谱和传统高压制备高效液相色谱的二元制备色谱设备,主要应用于药物活性成分、天然产物研究,合成化学分离纯化,在节省制备成本的同时极大地提高了分离效率。仪器特点1、本系统最大制备量可达克级,可适配10-100mm直径的各类色谱柱;2、本系统检测器使用全波长紫外-可见检测器,可同时选用4个不同检测波长3、本系统可使用Flash柱,支持各种级别的Flash低压分离纯化;4、本系统可以使用高压不锈钢柱,支持300bar以内高压级别的分离;5、本系统支持液体或固体样品上样,可以避免贮备过多的定量环;6、具有压力显示、报警、过压保护功能,实时监控泵的压力波动;7、本系统具有全波长光谱扫描功能,可检测190nm-850nm范围任意四个波长信号;8、带有光源自检功能,管理光源寿命,提醒及时更换;9、带有单色仪自校正功能,波长准确性高;10、进样方式独特设计,防止样品与溶剂扩散;11、本系统采用先进的进样技术,两种进样模式可选,进样时间短,避免样品残留和堵塞;12、高速准确的阀切换,避免样品的损失,提高回收率。13、本系统可以使用小粒度填料的不锈钢柱和商品化的Flash柱;14、独立的进样和馏分收集流路,避免交叉污染;15、智能馏分收集器可按体积、阈值、时间和色谱峰收集馏分;16、本系统提供多种标准试管架和试管,用户可自定义试管架,标配孔径18mm试管架;17、软件具有自动进样、梯度、色谱图、馏分收集图、设备状态同图显示的功能;18、软件具有自动进样状态显示与控制功能,可显示阀、注射泵、进样臂的状态;19、软件支持梯度,程序设定功能,具有阶梯、线性、点-拖式梯度曲线;20、软件支持智能馏分收集,具有时间、阈值、峰值、手动等多种收集方式;21、软件支持馏分索引功能,实时显示馏分收集位置与对应的色谱峰位置;22、软件支持色谱分峰与定量功能、审计追踪、数据管理、用户管理、个人管理等功能;23、仪器操作有软件控制,分离纯化参数都可以在线更改;24、软件中文界面,模块化设计,便于学习和操作,符合中国用户使用习惯。 仪器组成1、高压二元梯度泵系统;2、混合器;3、四波长UV-VIS检测器;4、自动进样器馏分收集一体机;5、溶剂槽;6、模块化液相工作站;7、电脑 ; 技术指标泵1、流量范围:0~200mL/min单泵,0~400mL/min双泵;2、压力范围:标准300bar;紫外检测器1、检测器范围:190~850nm;2、检测器光源:氘灯-钨灯组合光源;3、波长精度:±1nm;重复性0.2nm;4、检测方式:UV-VIS检测器,4波长实时显示;自动进样模块1、定量环:10mL;2、进样位数:108位;3、试管规格:13*100mm;馏分收集模块1、馏分收集容器:400位(标配);2、试管规格:18*180mm,(其它规格可定制); 可选配件1、 蒸发光散射检测器;2、二极管阵列检测器; 由于技术不断进步,本公司保留设计更改之权利,更改恕不通知,敬请谅解。
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  • PuriMaster -2000型二元自动收集制备色谱系统 上海科哲生化科技公司是上海知名分析仪器企业,为了满足中药分离纯化的客户需求,以国家重大仪器专项成果为基础,成立了分离纯化事业部,并启用PuriMaster品牌,专注于中药分离纯化。PuriMaster -2000型二元自动收集制备色谱系统是为满足小型研发组的分离纯化需求的制备型HPLC系统,自动化程度高,产品结实耐用、具有极高的性价比,是小型中药研发组创立之初的理想选择。仪器特点1、使用全自动馏分收集器,快捷的阀切换收集;2、软件支持智能馏分收集,具有时间、阈值、峰值、手动等多种收集方式;3、软件支持馏分索引功能,实时显示馏分收集位置与对应的色谱峰位置;4、仪器使用高精度HPLC制备色谱泵,重现性良好;5、仪器使用高压梯度混合,不需要脱气机,梯度基本无滞后;6、仪器使用进口专用高压六通阀,配合制备定量管,使用寿命长;7、采用氘灯-钨灯组合光源,双波长检测器,可检测190nm-850nm范围任意两个波长信号;8、带有光源自检功能,管理光源寿命,提醒及时更换;9、带有单色仪自校正功能,波长准确性高;10、采用进口高性能光电检出器,性能稳定、检测灵敏;11、采用1200线高分辨光栅,在紫外-可见范围具有良好的分光效能;12、采用X-Y矩阵式收集,收集数量远高于多通阀;13、软件具有梯度、色谱图、馏分收集图、设备状态同图显示的功能;14、软件具有多检测器同一坐标系内显示色谱图的功能;15、软件具有在线UV-VIS光谱扫描的功能,可得出组分的紫外光谱图;16、软件支持色谱分峰与定量功能、审计追踪、数据管理、用户管理、个人管理等功能;17、软件中文界面,模块化设计,便于学习和操作,符合中国用户使用习惯; 主要指标泵1、流量范围:0.01 ~ 50.00 mL/min(更大流量可定制);2、压力范围:0-30MPa;检测器1、波长范围:190 nm-850 nm(双波长同时检测);2、波长精度:±1nm;重复性0.2nm;3、单色仪:1200线光栅;4、光源:氘灯-钨灯组合光源;5、基线噪音:±0.1mAU,254nm;6、基线漂移:0.2mAU,254nm;馏分收集器1、试管架规格:15*150mm试管,160位;(其它规格定制); 仪器组成1、高压双泵二元梯度系统;2、混合器;3、双波长UV-VIS检测器;4、高压六通进样阀(含定量环);5、馏分收集器;6、溶剂槽;7、制备柱(C18, Φ10× 250mm,10μm填料);8、模块化液相工作站;9、电脑; 可选配件1、ELSD-5000KS制备型蒸发光散射检测器;2、二极管阵列检测器;3、示差检测器;4、其它规格色谱柱; 由于技术不断进步,本公司保留设计更改之权利,更改恕不通知敬请谅解。
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  • PuriMaster-3000A型二元全自动制备色谱系统 上海科哲生化科技公司是上海知名分析仪器企业,为了满足中药分离纯化的客户需求,以国家重大仪器专项成果为基础,成立了分离纯化事业部,并启用PuriMaster品牌,专注于中药分离纯化。PuriMaster-3000A型二元全自动制备色谱系统是为满足大型纯化实验室的分离纯化需求的制备型HPLC系统,可实现四波长同时检测,产品高度自动化、具有较高的性价比,是大型纯化实验室的良好选择。仪器特点1、采用了自动进样器与全封闭样品瓶,可以实现全自动过夜运行;2、进样器具有洗针功能,可最大程度的避免交叉污染;3、采用功能强大的馏分收集器,快捷的阀切换收集;4、软件支持智能馏分收集,具有时间、阈值、峰值、手动等多种收集方式;5、软件支持馏分索引功能,实时显示馏分收集位置与对应的色谱峰位置;6、仪器使用高精度HPLC制备色谱泵,重现性良好;7、仪器使用高压梯度混合,不需要脱气机,梯度基本无滞后;8、采用氘灯-钨灯组合光源,四波长UV-VIS检测器,可检测190nm-850nm范围任意四个波长信号;9、带有光源自检功能,管理光源寿命,提醒及时更换;10、带有单色仪自校正功能;11、采用1200线高分辨光栅,在紫外-可见范围具有良好的分光效能;12、采用X-Y矩阵式收集,收集数量远高于多通阀;13、软件具有自动进样、梯度、色谱图、馏分收集图、设备状态同图显示的功能;14、软件具有自动进样状态显示与控制功能,可显示阀、注射泵、进样臂的状态;15、软件具有在线UV-VIS光谱扫描的功能,可得出组分的紫外光谱图;16、软件支持梯度程序设定功能,具有阶梯、线性、点-拖式梯度曲线;17、软件支持色谱分峰与定量功能、审计追踪、数据管理、用户管理、个人管理等功能;18、软件中文界面,模块化设计,便于学习和操作,符合中国用户使用习惯; 仪器指标泵1、流量范围:0.01 ~ 50.00 mL/min(双泵,更大流量可定制);2、压力范围:0-30MPa;检测器1、波长范围:190 nm-850 nm(四波长同时检测);2、波长精度:±1nm;重复性0.2nm;3、单色仪:1200线光栅;4、光源:氘灯-钨灯组合光源;自动进样器1、定量环:5mL(标配),其它规格定制;2、进样位数:42位;馏分收集器1、试管架规格:15*150mm试管,160位;(其它规格定制);仪器组成1、高压二元梯度泵系统;2、混合器;3、四波长UV-VIS检测器;4、全自动进样器;5、馏分收集器;6、溶剂槽;7、制备柱(C18, Φ10× 250mm,10μm填料);8、模块化液相工作站;9、电脑;可选配件1、ELSD-5000KS制备型蒸发光散射检测器;2、二极管阵列检测器;3、示差检测器;4、其它规格色谱柱; 由于技术不断进步,本公司保留设计更改之权利,更改恕不通知敬请谅解。
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晶圆测量晶圆制备系统相关的资讯

  • 我国突破12英寸二维半导体晶圆批量制备技术
    7月4日,《科学通报》以《模块化局域元素供应技术批量制备12英寸过渡金属硫族化合物》为题,在线发表了松山湖材料实验室/北京大学教授刘开辉、中国科学院院士王恩哥团队,松山湖材料实验室/中国科学院物理研究所研究员张广宇团队及合作者最新研究成果。该研究提出模块化局域元素供应生长技术,成功实现了半导体性二维过渡金属硫族化合物晶圆批量化高效制备,晶圆尺寸可从2英寸扩展至与现代半导体工艺兼容的12英寸,有望推动二维半导体材料由实验研究向产业应用过渡,为新一代高性能半导体技术发展奠定了材料基础。二维半导体是一种新兴半导体材料,具有优异的物理化学性质,以单层过渡金属硫族化合物为代表。与传统半导体发展路线类似,晶圆材料是推动二维半导体技术迈向产业化的根基。如何实现批量化、大尺寸、低成本制备二维半导体晶圆是亟待解决的科学问题。针对二维半导体晶圆的尺寸放大与批量制备核心科学问题,研究人员提出了一种全新的模块化局域元素供应生长策略,实现了二维半导体最大到12英寸晶圆的批量化制备。为了解决批量化制备的难题,研究人员在单层过渡金属硫族化合物制备过程中,实验设计将所需的多种前驱体与生长衬底以“面对面”模式组装构成单个生长模块。过渡金属元素与硫族元素按精确比例局域供应至生长衬底,实现单层过渡金属硫族化合物晶圆的高质量制备。多个生长模块可通过纵向堆叠组成阵列结构,实现多种尺寸晶圆薄膜的低成本批量化制备。该研究成果为二维半导体晶圆的大尺寸、规模化制备提供了一种全新的技术方案,有望推动二维半导体走向产业应用。值得一提的是,松山湖材料实验室在前沿科学研究和创新样板工厂两大核心板块都布局了二维半导体方向的研究。近3年来,该实验室针对二维半导体晶圆制备和规模化器件构筑取得系列进展,在国际上引起广泛关注。
  • 电镜学堂丨扫描电子显微镜样品要求及制备 (一) - 常规样品制备
    这里是TESCAN电镜学堂第6期,将继续为大家连载《扫描电子显微镜及微区分析技术》(本书简介请至文末查看),帮助广大电镜工作者深入了解电镜相关技术的原理、结构以及最新发展状况,将电镜在材料研究中发挥出更加优秀的性能!样品制备对扫描电镜观察来说也至关重要,样品如果制备不好可能会对观察效果有重大影响。通常希望观察的样品有尽可能好的导电性,否则会引起荷电现象,导致电镜无法进行正常观察;另外样品还需要有较好的导热性,否则轰击点位置温度升高,使得试样中的低熔点组分挥发,形成辐照损伤,影响真实的形貌观察。如果要进行EDS/WDS/EPMA定量检测,还需要样品表面尽可能平整。第一节 常规样品制备样品制备主要包括取样、清洗、粘样、镀膜处理几个步骤。§1. 取样在进行扫描电镜实验时,在可能的条件下,试样应该尽量小,试样有代表性即可。特别在分析不导电试样时,小试样能改善导电性和导热性能。另外,大试样放入样品室会有较多气体放出,特别是多孔材料,不但影响真空度,还大幅度增加抽真空的时间,可能也会引入更多的污染。因此对于多孔材料在放入电镜前,可以在不损伤样品的前提下,对样品进行一定的热处理,比如电吹风吹,红外灯烘烤,或者放入烘箱低温加热一段时间,将其空隙的气体排出,以减小进入电镜后的抽真空时间。对于薄膜截面来说最好能够进行切割、镶嵌、抛光等处理。在镶嵌时最好能将试样一分为二,将要观察的膜面朝里然后对粘,然后再进行镶嵌、抛光处理。这样做的好处是避免在抛光过程中因为膜面和镶嵌料之间的力学性能有一定的差异,而引起薄膜的脱落或者出现裂纹和缝隙,如图4-1。对粘后的膜面两面力学性能一样,会改善此种情况。 图4-1 单膜面力学性能不对称引起的损伤对于比较软的样品在制截面时,一般不要用剪刀直接剪断,直接剪断的截面经过了剪切的拉扯,质量较差。可以考虑用锋利的刀片切断,比如手术刀片等。或者在将试样浸泡在液氮中进行冷冻脆断。在冷冻脆断前可以先切一个小缺口,这样冻硬的样品可以顺着切口用较小的力就可发生断裂。有条件的话可以考虑用截面离子束抛光或者FIB抛光。对于粉末样品来说,取样要少量,否则粉末堆叠在一起会影响导电性和稳定性。粉末样品团聚严重的话,可以考虑将粉末混合在易挥发溶剂中(如纯水、乙醇、正己烷、环己烷等),配成一定浓度的悬浊液,用超声分散,然后取小滴滴在试样座或者硅片、铜(铝)导电胶带上。此时不要使用碳导电胶带,因为碳导电胶带不够致密,会使得样品嵌入在空隙中影响观察。等待溶剂挥发干燥后,粉体靠表面吸附力粘附在基底上,如图4-2。 图4-2 粉末超声分散制样不过值得注意的是溶剂的选择,溶剂不能对要观察的试样有影响,否则会改变试样的初始形貌而使得图像失真。如图4-3,高分子球样品在用水稀释分散后仍为球形,而用无水乙醇分散后,形貌发生了变化。 图4-3 水(左)和乙醇(右)稀释分散对形貌的影响§2. 清洗试样尽可能保证新鲜,避免沾染油污。特别是不要直接用手直接接触试样,以免沾染油脂。清洁不仅仅是针对试样的要求,同样还包括了样品台。样品台要做到经常用无水乙醇进行清洗。§3. 粘样试样的粘贴应该尽量保持平稳、牢固,并尽可能减少接触电阻,以增加导电性和导热性。特别是对于底面不平整的试样,最好用银胶进行粘贴,让银胶填满缝隙以保证平稳。如果要进行EBSD测试,最好也用银胶。EBSD采集要经过70度的倾转,重力力矩较大,而导电胶带有一定的弹性,可能会因为重力缘故而逐步拉伸,导致样品漂移。此外,平时大多数试样都是采用碳导电胶带进行粘贴,不过如果要进行极限分辨率的观察,最好也用银胶,以进一步增加导电性。我们粘贴样品的目的是使得样品要观察的表面要能和样品台底座之间具有导电通路,而不是仅仅认为表面导电就好。样品表面导电性再好,如果没有导电通路和样品台联通的话,仍然会有荷电。特别是对于不规则样品,更要注意粘贴时候的导电通路。如图4-4,左边与中间的表面并未和样品台导通,属于不合理的粘贴,而右边形成了通路,是合理的粘贴方式。 图4-4 合理(右)与不合理(左、中)的粘贴对于很多规则样品,比如块体或者薄片样品,也存在很多不合理的粘贴方式。很多人认为试样有一定的导电性,就将试样直接粘在导电胶带上,如图4-5左。样品表面和样品台之间依然会出现没有通路的情况,有时即使样品导电性好,可能也会因为有较大的接触电阻使得图像有微弱的荷电或者在大束流工作下有图像漂移。而图4-5右,则是开始将导电胶带故意留一段长度,将多余的长度反粘到试样表面去。这样使得不管样品体内导电性如何,表面都能通过导电胶带形成通路。而且即使样品整个体内都有较好的导电性,连接到表面的导电胶带相当于一个并联电路,并联电路的总电阻总是小于任何一个支路的电阻,所以无论试样的导电性任何,都应习惯性的将一段导电胶带连接到表面,以进一步减小接触电阻,增强导电性。 图4-5 将导电胶带延伸到试样表面的粘贴 对于粉末试样的粘贴,也是要少量,避免粉末的堆叠影响导电性和导热性。粉体可以取少量直接撒在试样座的双面碳导电胶上,用表面平的物体,例如玻璃板或导电胶带的蜡纸面压紧,然后用洗耳球吹去粘结不牢固的颗粒,如图4-6左。如果粉末量很少,无法用棉签或药勺进行取样,也可将碳导电胶带直接去粘贴粉末,如图4-6右。 图4-6 粉末试样的粘贴方法§4. 镀膜对于导电性不好的试样,我们通常可以选择镀膜处理。通常情况我们选择镀金Au膜,如果对分辨率有较高的要求,可以选择镀铂Pt、铬Cr、铱Ir。如果要对样品进行严格的EDS定量分析,则不能镀金属膜,因为金属膜对X射线有较强的吸收,对定量有较大影响,此时可选用蒸镀碳膜。现在的镀膜设备一般都能精确控制膜厚,通常镀5nm的薄膜就足够改善导电性,对于有些特殊结构的试样,比如海绵或泡沫状,表面不致密,即使镀较厚的导电层,也难以形成通路。所以我们镀膜尽量控制在10nm以下,如果镀10nm的导电膜仍没有改善导电性,继续增加镀膜也没有意义。一般镀金的话在10万倍左右就能看见金颗粒,镀铂的话可能需要放大到20万倍才能看见铂颗粒,而镀铬或者铱则需要放大到接近30万倍。所以对于导电性不好的试样来说,可以根据需要选择不同的镀膜。镀膜之后,由金属膜代替试样来发射二次电子,而一般镀的金、铂都有较高的二次电子激发率,在镀膜之后还能增强信号强度和衬度,提升图片质量。只要镀膜不会掩盖试样的真实细节,完全可以进行镀膜处理,而不用纠结于一定要不镀膜进行观察,除非有特别不能镀膜的要求。当然,对于要求倍数特别高或者严格测量的一些观察要求,则要谨慎镀膜处理。毕竟在高倍数下,镀膜会掩盖一定的形貌,或者使测量产生偏差。如图4-7,左边是镀金处理的PS球在SEM下的测量结果,右边是TEM直接拍摄的结果,可以发现SEM的测量结果大约在195nm左右,而TEM的测量结果在185nm左右,这就是因为给PS球镀了5nm金而引起直径扩大了10nm左右。 图4-7 PS球在SEM下镀膜观察和TEM直接观察的对比除了不导电样品需要镀膜,对于一些导热性不佳的试样,有时也需要镀膜。电子束轰击试样时,很多能量转变成热能,使得轰击点温度升高,升高温度表达式为ΔT(K) = 4.8 × VI / kd其中,V为加速电压、I为束流、d为电子束直径,k为试样热导率。对于导热性差的试样,k较低,ΔT有时能接近1000K,很容易对试样造成损伤。比如有时候对高分子样品进行观察时,会发现样品在不断的变化,其实是样品受到电子束轰击造成了辐照损伤损伤,如图4-8。而经过镀膜后,可以提高热导率,降低升温程度,避免样品受到电子束辐照损伤。 图4-8 电子束辐照损伤【福利时间】每期文章末尾小编都会留1个题目,大家可以在留言区回答问题,小编会在答对的朋友中选出点赞数最高的两位送出本书的印刷版。【奖品公布】上期获奖的这位童鞋,请后台私信小编邮寄地址,我们会在收到您的信息并核实后即刻寄出奖品。 【本期问题】如果要对样品进行严格的EDS定量分析,可以镀金属膜吗,为什么?(快关注“TESCAN公司”微信公众号去留言区回答问题领取奖品吧→)简介《扫描电子显微镜及微区分析技术》是由业内资深的技术专家李威老师(原上海交通大学扫描电镜专家,现任TESCAN技术专家)、焦汇胜博士(英国伯明翰大学材料科学博士,现任TESCAN技术专家)、李香庭教授(电子探针领域专家,兼任全国微束分析标委会委员、上海电镜学会理事)编著,并于2015年由东北师范大学出版社出版发行。本书编者都是非常资深的电镜工作者,在科研领域工作多年,李香庭教授在电子探针领域有几十年的工作经验,对扫描电子显微镜、能谱和波谱分析都有很深的造诣,本教材从实战的角度出发编写,希望能够帮助到广大电镜工作者,特别是广泛的TESCAN客户。这里插播一条重要消息:TESCAN服务热线 400-821-5286 开通“应用”和“维修”两条专线啦!按照语音提示呼入帮你更快找到想要找的人 ↓ 往期课程,请关注“TESCAN公司”微信公众号查看: 电镜学堂丨扫描电子显微镜的基本原理(一) - 电子与试样的相互作用电镜学堂丨扫描电子显微镜的基本原理(二) - 像衬度形成原理电镜学堂丨扫描电子显微镜的基本原理(三) - 荷电效应电镜学堂丨扫描电子显微镜的结构(一) - 电子光学系统电镜学堂丨扫描电子显微镜的结构(二) - 探测器系统
  • 268万!南京农业大学园艺学院氮素连续流动分析仪及样品制备系统等采购项目
    项目编号:ZF20220131项目名称:南京农业大学园艺学院氮素连续流动分析仪及样品制备系统等采购项目预算金额:268.0000000 万元(人民币)采购需求:包件一:氮素连续流动分析仪及样品制备系统 预算金额:人民币50万元;超高速冷冻落地式离心机 预算金额:人民币55万元包件二:全自动轮转式半薄切片机 预算金额:人民币35万元包件三:高效液相色谱仪 预算金额:人民币30万元包件四:EAG昆虫触角电位测量系统 预算金额:人民币48万元包件五:自定位手持式三维激光扫描仪 预算金额:人民币50万元投标人的投标报价超过预算金额的将作无效投标处理。采购需求:1)本项目分为五个包件,投标人可对其中一个或多个包件进行报价,须对所投包件中所有内容进行报价。2)本项目同一家投标人不限定中标包件数。包件一:氮素连续流动分析仪及样品制备系统、超高速冷冻落地式离心机包件二:全自动轮转式半薄切片机包件三:高效液相色谱仪包件四:EAG昆虫触角电位测量系统包件五:自定位手持式三维激光扫描仪(具体内容详见招标文件第三部分 采购需求)项目地点:招标人指定地点(南京农业大学)。是否专门面向中小企业采购:否,本项目面向大、中、小、微型企业,事业法人等各类供应商采购。本项目是否接受进口产品响应:包件五不接受进口产品,其他包件均接受进口产品。(进口产品是指通过中国海关报关验放进入中国境内且产自境外的产品)。合同履行期限:合同签订后120天内到货完成安装调试并验收合格。本项目( 不接受 )联合体投标。

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    法国多功能超临界流体微粒制备与结晶系统在国家纳米技术与工程研究院一次安装验收成功,可完成RESS(Rapid Expansion of Supercritical Solutions,超临界饱和溶液快速膨胀法)、SAS(Supercritical Anti- Solvent,超临界反溶剂法)和SEDS(Solution Enhanced Dispertion by Supercritical Fluids,超临界流体溶液增大分散法)等多种超临界流体微粒制备与结晶实验。更多信息欢迎垂询未来化学科技有限公司:http://www.futurechemtech.com

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  • 【分享】透射电镜样品制备

    透射电镜的样品制备是一项较复杂的技术,它对能否得到好的TEM像或衍射谱是至关重要的.投射电镜是利用样品对如射电子的散射能力的差异而形成衬度的,这要求制备出对电子束"透明"的样品,并要求保持高的分辨率和不失真.  电子束穿透固体样品的能力主要取决加速电压,样品的厚度以及物质的原子序数.一般来说,加速电压愈高,原子序数愈低,电子束可穿透的样品厚度就愈大.对于100~200KV的透射电镜,要求样品的厚度为50~100nm,做透射电镜高分辨率,样品厚度要求约15nm(越薄越好).  透射电镜样品可分为:粉末样品,薄膜样品,金属试样的表面复型.不同的样品有不同的制备手段,下面分别介绍各种样品的制备.  (1)粉末样品  因为透射电镜样品的厚度一般要求在100nm以下,如果样品厚于100nm,则先要用研钵把样品的尺寸磨到100nm以下,然后将粉末样品溶解在无水乙醇中,用超声分散的方法将样品尽量分散,然后用支持网捞起即可.  (2)薄膜样品  绝大多数的TEM样品是薄膜样品,薄膜样品可做静态观察,如金相组织;析出相形态;分布,结构及与基体取向关系,错位类型,分布,密度等;也可以做动态原位观察,如相变,形变,位错运动及其相互作用.制备薄膜样品分四个步骤:  a将样品切成薄片(厚度100~200微米),对韧性材料(如金属),用线锯将样品割成小于200微米的薄片;对脆性材料(如Si,GaAs,NaCl,MgO)可以刀将其解理或用金刚石圆盘锯将其切割,或用超薄切片法直接切割.  b切割成φ3mm的圆片  用超声钻或puncher将φ3mm薄圆片从材料薄片上切下来.  c预减薄  使用凹坑减薄仪可将薄圆片磨至10μm厚.用研磨机磨(或使用砂纸),可磨至几十μm.  d终减薄  对于导电的样品如金属,采用电解抛光减薄,这方法速度快,没有机械损伤,但可能改变样品表面的电子状态,使用的化学试剂可能对身体有害.  对非导电的样品如陶瓷,采用离子减薄,用离子轰击样品表面,使样品材料溅射出来,以达到减薄的目的.离子减薄要调整电压,角度,选用适合的参数,选得好,减薄速度快.离子减薄会产生热,使样品温度升至100~300度,故最好用液氮冷却样品.样品冷却对不耐高温的材料是非常重要的,否则材料会发生相变,样品冷却还可以减少污染和表面损伤.离子减薄是一种普适的减薄方法,可用于陶瓷,复合物,半导体,合金,界面样品,甚至纤维和粉末样品也可以离子减薄(把他们用树脂拌合后,装入φ3mm金属管,切片后,再离子减薄).也可以聚集离子术(FIB)对指定区域做离子减薄,但FIB很贵.  对于软的生物和高分子样品,可用超薄切片方法将样品切成小于100nm的薄膜.这种技术的特点是样品不会改变,缺点是会引进形变.  (3)金属试样的表面复型  即把准备观察的试样的表面形貌(表面显微组织浮凸)用适宜的非晶薄膜复制下来,然后对这个复制膜(叫做复型)进行透射电镜观察与分析.复型适用于金相组织,断口形貌,形变条纹,磨损表面,第二相形态及分布,萃取和结构分析等.  制备复型的材料本身必须是"无结构"的,即要求复型材料在高倍成像时也不显示其本身的任何结构细节,这样就不致干扰被复制表面的形貌观察和分析.常用的复型材料有塑料,真空蒸发沉积炭膜(均为非晶态物质) .  常用的复型有:a塑料一级复型,分辨率为10~20nm;b炭一级复型,分辨率2nm,c塑料-炭二级复型,分辨率10~20nm;d萃取复型,可以把要分析的粒子从基体中提取出来,这种分析时不会受到基体的干扰.  除萃取复型外,其余复型只不过是试样表面的一个复制品,只能提供有关表面形貌的信息,而不能提供内部组成相,晶体结构,微区化学成分等本质信息,因而用复型做电子显微分析有很大的局限性,目前,除萃取复型外,其他复型用的很少.

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    Xact 自动电镜样品制备系统 SELA是一家半导体行业最前沿的产品表征和失效分析设备的制造商,隆重推出了提供优异样品质量、可以大幅度降低周转时 间和提高生产率的Xact技术,是一个使用全新的AIM技术的TEM样 品制备系统。SELA 公司独创的自适应离子研磨技术比传统的聚焦离子束(FIB)技术更优越, AIM 可以将大面积材料制作的样品宽度降 低到 50nm以下,精确度高,免人工且产量较高。SELA的最新系统 -Xact,推出了一种独特的双束技术,可以 获得更清晰的无伪影样品图像和更精确的终点探测。 Xact 结合 SELA 的扫描电镜定向的微劈尖方法 ,可以满足半导体行业和纳米技术领域中高质量标准、自动化表征以及失效分析的要求。 Xact和SELA最新的独立的预减薄系统(EM3)为 TEM和SEM提供了一个综合的,高性价比的样品制备方法,预减薄和最终减薄 是两个独立且优化的设备,可以同时进行两个过程,从而提高整 体的生产率。这也会降低单个样品的制作成本,进而提高具有高质量、大面积和终点探测的样品制备工作的成功率。产品优势※ 无可匹敌的质量,免人工※ 高精度的特定区域研磨※ 常规薄片减薄到30nm以下,覆盖大面积相关区域※ 各方向薄区硬度均可满足要求※ 高效生产,带有突破性终点探测※ 采用独特的动态氙离子束减薄的AIM技术自适应性离子减薄(AIM技术)入射角:0~30°全球定位:0~360°※ 能量变化:1~10keV※ 精抛:1000~1600eV※ 点轮廓:圆形或者椭圆※ 点尺寸:10~1000μm※ 最大电流:20μA扫描范围:200μm研磨速度:粗抛 0.5~2μm/min精抛 5~20nm/minSEM/STEM※ SEM/STEM实时图像监控※ STEM基于实时厚度监控※ SEM采用钨或者LaB6灯丝※ 三点的暗场/明场的热电探测器加工参数 自动光束校正的光学部件 厚度测量范围5~2000nm 非晶态1~2nm※ 进程中的厚度变化控制※ 进程中的表面质量控制※ 研磨质量控制※ 基于厚度测量反馈进行样品剖面优化※ 感兴趣区域/厚度:10μm/40μm/操控器 反转倾斜-360°※ 五轴快速样品触发器※ 通过扩展X轴载入样品※ 自动样品准直和定位
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