晶圆测量晶圆制备系统

PuriMaster -2000型二元自动收集制备色谱系统 上海科哲生化科技公司是上海知名分析仪器企业，为了满足中药分离纯化的客户需求，以国家重大仪器专项成果为基础，成立了分离纯化事业部，并启用PuriMaster品牌，专注于中药分离纯化。PuriMaster -2000型二元自动收集制备色谱系统是为满足小型研发组的分离纯化需求的制备型HPLC系统，自动化程度高，产品结实耐用、具有极高的性价比，是小型中药研发组创立之初的理想选择。仪器特点1、使用全自动馏分收集器，快捷的阀切换收集；2、软件支持智能馏分收集，具有时间、阈值、峰值、手动等多种收集方式；3、软件支持馏分索引功能，实时显示馏分收集位置与对应的色谱峰位置；4、仪器使用高精度HPLC制备色谱泵，重现性良好；5、仪器使用高压梯度混合，不需要脱气机，梯度基本无滞后；6、仪器使用进口专用高压六通阀，配合制备定量管，使用寿命长；7、采用氘灯-钨灯组合光源，双波长检测器，可检测190nm-850nm范围任意两个波长信号；8、带有光源自检功能，管理光源寿命，提醒及时更换；9、带有单色仪自校正功能，波长准确性高；10、采用进口高性能光电检出器，性能稳定、检测灵敏；11、采用1200线高分辨光栅，在紫外-可见范围具有良好的分光效能；12、采用X-Y矩阵式收集，收集数量远高于多通阀；13、软件具有梯度、色谱图、馏分收集图、设备状态同图显示的功能；14、软件具有多检测器同一坐标系内显示色谱图的功能；15、软件具有在线UV-VIS光谱扫描的功能，可得出组分的紫外光谱图；16、软件支持色谱分峰与定量功能、审计追踪、数据管理、用户管理、个人管理等功能；17、软件中文界面，模块化设计，便于学习和操作，符合中国用户使用习惯； 主要指标泵1、流量范围：0.01 ～ 50.00 mL/min（更大流量可定制）；2、压力范围：0-30MPa；检测器1、波长范围：190 nm-850 nm（双波长同时检测）；2、波长精度：±1nm；重复性0.2nm；3、单色仪：1200线光栅；4、光源：氘灯-钨灯组合光源；5、基线噪音：±0.1mAU，254nm；6、基线漂移：0.2mAU，254nm；馏分收集器1、试管架规格：15*150mm试管，160位；（其它规格定制）； 仪器组成1、高压双泵二元梯度系统；2、混合器；3、双波长UV-VIS检测器；4、高压六通进样阀（含定量环）；5、馏分收集器；6、溶剂槽；7、制备柱（C18, Φ10× 250mm,10μm填料）；8、模块化液相工作站；9、电脑； 可选配件1、ELSD-5000KS制备型蒸发光散射检测器；2、二极管阵列检测器；3、示差检测器；4、其它规格色谱柱； 由于技术不断进步，本公司保留设计更改之权利，更改恕不通知敬请谅解。

PuriMaster-3000A型二元全自动制备色谱系统 上海科哲生化科技公司是上海知名分析仪器企业，为了满足中药分离纯化的客户需求，以国家重大仪器专项成果为基础，成立了分离纯化事业部，并启用PuriMaster品牌，专注于中药分离纯化。PuriMaster-3000A型二元全自动制备色谱系统是为满足大型纯化实验室的分离纯化需求的制备型HPLC系统，可实现四波长同时检测，产品高度自动化、具有较高的性价比，是大型纯化实验室的良好选择。仪器特点1、采用了自动进样器与全封闭样品瓶，可以实现全自动过夜运行；2、进样器具有洗针功能，可最大程度的避免交叉污染；3、采用功能强大的馏分收集器，快捷的阀切换收集；4、软件支持智能馏分收集，具有时间、阈值、峰值、手动等多种收集方式；5、软件支持馏分索引功能，实时显示馏分收集位置与对应的色谱峰位置；6、仪器使用高精度HPLC制备色谱泵，重现性良好；7、仪器使用高压梯度混合，不需要脱气机，梯度基本无滞后；8、采用氘灯-钨灯组合光源，四波长UV-VIS检测器，可检测190nm-850nm范围任意四个波长信号；9、带有光源自检功能，管理光源寿命，提醒及时更换；10、带有单色仪自校正功能；11、采用1200线高分辨光栅，在紫外-可见范围具有良好的分光效能；12、采用X-Y矩阵式收集，收集数量远高于多通阀；13、软件具有自动进样、梯度、色谱图、馏分收集图、设备状态同图显示的功能；14、软件具有自动进样状态显示与控制功能，可显示阀、注射泵、进样臂的状态；15、软件具有在线UV-VIS光谱扫描的功能，可得出组分的紫外光谱图；16、软件支持梯度程序设定功能，具有阶梯、线性、点-拖式梯度曲线；17、软件支持色谱分峰与定量功能、审计追踪、数据管理、用户管理、个人管理等功能；18、软件中文界面，模块化设计，便于学习和操作，符合中国用户使用习惯； 仪器指标泵1、流量范围：0.01 ～ 50.00 mL/min（双泵，更大流量可定制）；2、压力范围：0-30MPa；检测器1、波长范围：190 nm-850 nm（四波长同时检测）；2、波长精度：±1nm；重复性0.2nm；3、单色仪：1200线光栅；4、光源：氘灯-钨灯组合光源；自动进样器1、定量环：5mL（标配），其它规格定制；2、进样位数：42位；馏分收集器1、试管架规格：15*150mm试管，160位；（其它规格定制）；仪器组成1、高压二元梯度泵系统；2、混合器；3、四波长UV-VIS检测器；4、全自动进样器；5、馏分收集器；6、溶剂槽；7、制备柱（C18, Φ10× 250mm,10μm填料）；8、模块化液相工作站；9、电脑；可选配件1、ELSD-5000KS制备型蒸发光散射检测器；2、二极管阵列检测器；3、示差检测器；4、其它规格色谱柱； 由于技术不断进步，本公司保留设计更改之权利，更改恕不通知敬请谅解。

PuriMaster-5000型二元全自动制备色谱系统 上海科哲生化科技公司是上海知名分析仪器企业，为了满足中药分离纯化的客户需求，以国家重大仪器专项成果为基础，成立了分离纯化事业部，并启用PuriMaster品牌，专注于中药分离纯化。PuriMaster-5000型二元全自动制备色谱系统是为满足大型纯化实验室的分离纯化需求的制备型HPLC系统；标配四波长UV-VIS检测器和蒸发光散射检测器，功能强大；产品高度自动化、具有较高的性价比，是大型纯化实验室的良好选择。仪器特点1、采用了自动进样器与全封闭样品瓶，可以实现无人操作，节省人力；2、进样器具有洗针功能，可最大程度的避免交叉污染；3、采用功能强大的馏分收集器，快捷的阀切换收集；4、软件支持智能馏分收集，具有时间、阈值、峰值、手动等多种收集方式；5、软件支持馏分索引功能，实时显示馏分收集位置与对应的色谱峰位置；6、使用高精度HPLC制备色谱泵，重现性良好；7、使用高压梯度混合，不需要脱气机，梯度基本无滞后；8、采用氘灯-钨灯组合光源，四波长UV-VIS检测器，可检测190nm-850nm范围任意四个波长信号；9、带有光源自检功能，管理光源寿命，提醒及时更换；10、带有单色仪自校正功能；11、采用1200线高分辨光栅，在紫外-可见范围具有良好的分光效能；12、标配ELSD检测器，可用于无紫外吸收样品检测；13、采用X-Y矩阵式收集，收集数量远高于多通阀；14、软件可以控制设备所有部件，具有高度的自动化性能；15、检测器同时检测4个波长的色谱峰，并可以同图显示并指导收集；16、软件具有多检测器同一坐标系内显示色谱图的功能；17、软件具有自动进样状态显示与控制功能，可显示阀、注射泵、进样臂的状态；18、软件具有在线UV-VIS光谱扫描的功能，可得出组分的紫外光谱图；19、软件支持梯度程序设定功能，具有阶梯、线性、点-拖式梯度曲线；20、软件具有自动进样、梯度、色谱图、馏分收集图、设备状态同图显示的功能；21、软件支持色谱分峰与定量功能、审计追踪、数据管理、用户管理、个人管理等功能；22、软件中文界面，模块化设计，便于学习和操作，符合中国用户使用习惯； 主要指标泵1、流量范围：0.01 ～ 50.00 mL/min（更大流量可定制）；2、压力范围：0-30MPa；紫外检测器1、波长范围：190nm-850nm（四波长同时检测）；2、波长精度：±1nm；重复性0.2nm；3、单色仪：1200线光栅；4、光 源：氘灯-钨灯组合光源；蒸发光检测器1、蒸发光光源：650nm激光；2、蒸发光气体流量范围：0-5L/min；自动进样器1、自动进样器：5mL（标配），其它规格可选；2、进样位数：42位；馏分收集器1、试管架规格：15*150mm试管，160位；（其它规格定制）； 仪器组成1、高压二元梯度泵系统；2、混合器；3、紫外检测器；4、蒸发光检测器；5、全自动进样器；6、馏分收集器；7、溶剂槽；8、制备柱（C18, Φ10× 250mm,10μm填料）；9、模块化液相工作站；10、电脑； 可选配件1、二极管阵列检测器；2、示差检测器；3、其它规格色谱柱； 由于技术不断进步，本公司保留设计更改之权利，更改恕不通知敬请谅解。

ChemTron 样品制备系统聚合物样品制备系统 ISP-1 * 该系统包含天平、注射泵和操作软件。 * 样品可以在 75 秒内完成制备* 样品信息会自动传输到 RPV-1 粘度量软件 * 使用重量 / 重量数据计算浓度优于重量 / 体积 -- 避免由于温度和密度造成的误差 * 内置安全自检程序 * 自动修正灰分和水分纸浆样品制备系统 ISP-2 * 该系统包含天平、注射泵和语音提示软件 * 样品可以在 75 秒内完成制备 * 样品信息会自动传输到 RPV-1 粘度量软件 * 使用重量 / 重量数据计算浓度优于重量 / 体积 -- 避免由于温度和密度造成的误差 * 内置安全自检程序 * 自动修正灰分和水分 * 声音信号提示操作员按步骤操作PP/PE 高密度样品制备系统 ISP-1HD* 样品信息会自动传输到 RPV-1 粘度量软件 * 使用重量 / 重量数据计算浓度优于重量 / 体积 -- 避免由于温度和密度造成的误差 * 内置安全自检程序 * 自动修正灰分和水分 * 声音信号提示操作员按步骤操作

1) 1.5小时即可从复杂样品中回收超纯化合物Prominence UFPLC无缝集成传统制备LC和创新馏分捕集功能，可捕集至多5个目标化合物。仪器由专用软件控制，即使非专家用户也可轻松建立色谱分离方法，在90分钟内完成目标化合物的分离、捕集、纯化、洗脱和高纯化合物的回收。在洗脱前，通过重复进样并在同一根捕集柱上捕集，可增加化合物的回收量，轻松完成低浓度目标化合物的分离制备。2) 高纯化合物，以游离碱形态选择性回收Prominence UFPLC完全避免了传统制备液相所存在的问题，尤其是解决了传统制备液相的流动相存在添加剂，而造成目标成分纯度低的问题，这些添加剂会在最终收集的馏分中造成污染并抑制粉末化。岛津Shim-pack C2P-H 捕集柱在有效保留目标化合物的同时，去除不必要的有机溶剂、水和添加剂。此外，于捕集后用氨水冲洗捕集柱，可将目标化合物以游离碱回收，更易粉末化，有利于在药物筛选和药代动力学研究等方面取得更高质量的结果。无论是否以游离碱形态回收，所有洗脱的化合物最终都收集在易挥发的有机溶剂中，比传统制备液相减少高达90%的馏分干燥时间。3) 不断优化的仪器提供高性价比的解决方案全新Prominence UFPLC集成了制备液相、馏分捕集、馏分制备和回收功能，所占实验台的空间仅为各步骤专用的传统仪器的三分之一。Prominence UFPLC具有两种标配方案：标准系统包含单个捕集柱，可从样品中分离、纯化、洗脱单个目标化合物；高端系统装配5个捕集柱，可从单个样品中分离、纯化、洗脱至多5个目标化合物。

Munich Metrology VPD 系统及模组　Munich Metrology GmbH, 是 PVA TePla的全资子公司, 拥有VPD，气相分解设备超过二十年的VPD经验，无论在设备和应用方面都是前沿供应商。在2012年Munich Metrology 被PVA-TEPLA收购，Munich Metrology 产品目前是由PVA-TEPLA制造，扩大其半导体集团的计量功能。产品：WSMS - 晶圆表面测量系统　Munich Metrology提供了最先进的，完全整合的VPD测量系统。该WSMS包括前缘的VPD，气相分解，最先进，精密的化学品输送系统，自动提供所需的所有集成的ICP-MS分析的校准的化学品VPD和所有的化学物质样品采集系统系统。它是一台用计算机控制的系统，接受远程命令，并通过SECS / GEM工厂自动化接口提供的测量结果实时在一个完整的测量系统。该WSMS的优点包括：全自动最低的检出限制更快地取得测量结果实时操作过程通过精密，无错，加药，稀释，混合和传递到两个VPD和ICP-MS的操作精确测量无需人工较准, 降低成本UtilitiesDimensionPower : 220/110 V, 2.2 kWDI water : 1.5 bar (20 psi), 2 l/hNitrogen : 1.5 bar (20 psi), 0.7 m3/hExhaust : 50 m3/hDrainDepth : 1507 mmWidth : 2065 mmHeight : 2140 mmTable Top : 945 mmWeight : 1100 kgWSPS - 晶圆表面制备系统(VPD Preparation)WSPS系统包括处理模块，机器人控制，录像带站cassette stations 和固定负载接口站系统中的FOUPS，提供过滤后的洁净空气，工具和电源各个独立模块。WSPS软件提供了完整的系统运行能力和数据收集，包括定制配方设置，作业定义，作业执行，晶圆优先级和远程监控和操作管理。扫描整个晶圆表面无残留系统模块设计自动处理功能适用于硅片及其它材料表面WSPS, Wafer Surface Preparation System and VPD ModulesPAD-Fume可编程自动分解烟化机PAD-Fume是Munich Metrology 晶圆表面清洗装置的模 块之一 , 用于分析硅片表面和其氧化物的超微量金属污染。它也可与自动液滴扫描器 PAD-Scan以及PAD-Dry （只适用于全反射X射线荧光-TXRF分析）组合使用。PAD-Fume, Oxide Etch ModulePAD-Scan可编程自动液滴扫描器PAD-Scan 提供了一个高度敏感硅晶片VPD分析的新质量。它的全自动化操作,除去了人工操作所造成的所有微粒污染，降低空白试验值, 从而大幅度提升并达到卓越的侦测度。由于其扫描程序的精确控制,PAD-Scan把VPD打造成为一个能提供优良重复性的可靠制备方法, 是个适合用于前端工艺, 针对晶圆表面质量管理的理想方案。由于精密的部分扫描模式,任何晶片的范围皆可选择用于收集VPD残液。机器手的晶圆处理能力可用于所有晶圆, 直径达300毫米。PAD-Scan, Sample Collection ModulePAD-Dry可编程自动液滴烘干机T只适用于全反射X射线荧光-TXRF分析。 采用真空及适度的热量, 平均及快速地把晶圆烘干。全自动化系统操作作为以生产导向工具的WSPS系统提供了自动晶圆处理，包括SMIF和FOUP loadports的所有选项。所有以软件标准，如SECS / GEM与工厂控制系统结合。　VPD 原理以校准了的化学溶液或超纯水（50?350微升）先以移液管滴到晶片上。之后由高纯度管作为引导，在晶片表面形成可编辑的格局。在扫描完成后，管子将在一个短氮气脉冲下脱离液滴。液滴可在晶片的预定位置上蒸发(用于TXRF分析)，或利用移液管转移到小瓶（用于ICP-MS分析）。扫描前后可以使用清洗液清洗，再用超纯水冲洗扫描官子和移液管。　300/450mm 桥梁工具Munich Metrology VPD 系统和模块可用于晶圆尺寸可达450mm。 所有450毫米的产品以桥梁工具将两个300和450毫米的晶圆一起工作。　系统翻新 (Refurbished Systems)Munich Metrology 可以将旧的GeMeTec VPD 产品翻新成一台先进的系统，请与我们的销售联系。

WSPS系统包括处理模块，机器人控制，录像带站cassette stations 和固定负载接口站系统中的FOUPS，提供过滤后的洁净空气，工具和电源各个独立模块。WSPS软件提供了完整的系统运行能力和数据收集，包括定制配方设置，作业定义，作业执行，晶圆优先级和远程监控和操作管理。• 扫描整个晶圆表面无残留• 系统模块设计• 自动处理功能• 适用于硅片及其它材料表面　WSPS, Wafer Surface Preparation System and VPD ModulesPAD-Fume, Oxide Etch Module PAD-Fume可编程自动分解烟化机PAD-Fume是Munich Metrology 晶圆表面清洗装置的模 块之一 , 用于分析硅片表面和其氧化物的超微量金属污染。它也可与自动液滴扫描器 PAD-Scan以及PAD-Dry （只适用于全反射X射线荧光-TXRF分析）组合使用。PAD-Scan, Sample Collection Module PAD-Scan可编程自动液滴扫描器PAD-Scan 提供了一个高度敏感硅晶片VPD分析的新质量。它的全自动化操作,除去了人工操作所造成的所有微粒污染，降低空白试验值, 从而大幅度提升并达到卓越的侦测度。由于其扫描程序的精确控制,PAD-Scan把VPD打造成为一个能提供优良重复性的可靠制备方法, 是个适合用于前端工艺, 针对晶圆表面质量管理的理想方案。由于精密的部分扫描模式,任何晶片的范围皆可选择用于收集VPD残液。机器手的晶圆处理能力可用于所有晶圆, 直径达300毫米。 PAD-Dry可编程自动液滴烘干机T只适用于全反射X射线荧光-TXRF分析。 采用真空及适度的热量, 平均及快速地把晶圆烘干。全自动化系统操作作为以生产导向工具的WSPS系统提供了自动晶圆处理，包括SMIF和FOUP loadports的所有选项。所有以软件标准，如SECS / GEM与工厂控制系统结合。以校准了的化学溶液或超纯水（50?350微升）先以移液管滴到晶片上。之后由高纯度管作为引导，在晶片表面形成可编辑的格局。在扫描完成后，管子将在一个短氮气脉冲下脱离液滴。液滴可在晶片的预定位置上蒸发(用于TXRF分析)，或利用移液管转移到小瓶（用于ICP-MS分析）。扫描前后可以使用清洗液清洗，再用超纯水冲洗扫描官子和移液管。

Flash 150二元梯度制备系统 Flash 150型二元梯度制备色谱系统，配备流量为150毫升/分钟、 耐压200psi的Flash150型二元梯度泵；VUV14固定波长检测器；系统控制单元可存取10个梯度的方法程序，用户还可自行编写梯度程序。 实现数据采集和馏分收集。 接触媒介的部分采用:不锈钢流体路径。 友好的操作界面 实用方便的馏分收集系统相关信息：

制备纯化系统的特点 · 毫克级到百克级样品纯化的最佳工具 · 高通量多通道快速纯化处理 · 正相或反相色谱层析 · 液体样品采用进样泵进样，固体样品预装柱 · 操作简单，软件控制界面直观（全自动型） · 模块化紧凑设计，方便安装，占用空间小 · 程序实现阶梯性、线性或曲线梯度（全自动型） · 不锈钢材质流通池 · 可选配自动馏份收集器 · 简化化学合成工作、加快新产品开发制备纯化系统的组成 SSI/LabAlliance Prep200系统完全可以满足常规自动化半制备及制备HPLC的要求。可以分离纯化毫克至百克级的样品，LabAlliance Prep 200制备HPLC系统既可进行单元等度分离，也可执行高压混合二元梯度分离，大大提高了制备应用的效率。建议选配馏分收集器，这样您就拥有了一套真正完美的制备系统。输液系统 由两个Prep100双柱塞泵，组成流动相输送系统。包括系统压力监控，高压梯度控制，内置低脉冲匀速器，每个泵流速最大可达100ml/min。自清洗泵头设计最大限度地延长了泵密封的使用寿命，延长了系统的无故障运行时间。检测器 UV201检测器，可根据待测样品组份的紫外吸收特性，编制波长随时间变化的程序。在液相色谱分析过程中，我们有时会遇到样品混合物中各组份紫外吸收波长不一致的情况，采用UV201检测器，由于其波长可编程，能够做到一次进样即可分析出多种组份含量，真正做到一箭双雕甚至一箭多雕。否则对于这种情况，往往需要就一个待测样品多次进样才能达到分析各组份含量的目的，既费时又浪费经费。对于无紫外吸收的样品制备。也可以根据需要选择示差、蒸发光散射检测器（需要配备分流器）等。如需提供选型帮助，可以随时联系我们各地的技术服务工程师，我们将为您设计出最佳配置方案。CSChrom Plus 色谱工作站 从仪器控制到监测,探讨分析条件到随心所欲的报告形式,都可轻松设定； 符合GLP和FDA 21 CFR Part 11法规电子记录和签名认证要求；全面的变更履历(Audit trail),记录从文件创建开始的每一个事件变化； 软件支持从单用户到客户/服务器网络的升级,组成强大的实验室数据管理系统。FC Jr.馏份收集器多种功能，方便使用 可选择从左到右或盘旋型收集方式。 操作简便，可设定存储9种收集方式。 节省使用空间 收集器体积紧凑，可节省您的实验室使用空间多种试管支架选择，覆盖从12-25mm直径，还有微型或超大体积试管架。对大体积制备，可放置9个三角瓶。四种收集方法 可按时间、滴定次数、泵流量或出峰顺序收集

晶圆中作为杂质所含的氧、碳和氮对晶圆的性能有很大影响。 傅里叶变换红外光谱仪晶圆反射率测量系统是一种可以通过在 FT/IR 样品室中安装专用载物台来对高达 12 英寸的晶圆进行透射和反射测量，整个测试过程采用专用软件进行分析处理，操作方便快捷。&bull 无损和非接触分析使用红外光可以以非破坏性和非接触式方式评估样品。&bull 高精度和可重复性通过充分利用高性能FT/IR功搭配晶圆测试附件可以进行高精度和高重现性的测量。&bull 兼容各种执行标准与JEITA和JEIDA等各种标准兼容&bull 软件分析测量特点硅分析浓度定量程序，量化硅中所含的氢和氧的浓度晶圆反射测量通过软件设置进行分析测量

仪器简介：北京温分分析仪器技术开发有限公司生产的LC98-I型三元梯度制备液相色谱仪采用国际先进技术及关键部件的基础上结合自主创新，产品性能国内领先，此配置可做三元梯度制备洗脱，适用于制药、教学科研等行业制备提纯；仪器性能可靠,售后服务较好,可保修2年以上，终身维护。技术参数：1 P98-Ⅰ三元梯度制备泵 2 UV98-Ⅰ可变波长紫外制备检测器 3 Rheodyne 3725i-038制备阀 4 C18 10&mu m ODs ID30× 250mm制备柱 5 N2000色谱工作站（双通道）主要特点：此配置可做三元梯度制备洗脱，适用于制药、教学科研等行业制备提纯 最新推出,国内独家低压混合模式三元梯度制备

仪器简介：北京温分分析仪器技术开发有限公司生产的LC98-I型三元梯度制备液相色谱仪采用国际先进技术及关键部件的基础上结合自主创新，产品性能国内领先，此配置可做三元梯度制备洗脱，适用于制药、教学科研等行业制备提纯；仪器性能可靠,售后服务较好,可保修2年以上，终身维护。技术参数：P98-I型三元梯度制备泵 流量范围：0~200ml/min 流量精度：3%(5ml/min~200ml/min) B液%精度：=± 0.5%ABS 压力范围：0.00MPa～20MPa(200Kgf/cm2) 微处理器控制，编码盘控制比例阀；精度高。主要特点：此配置可做三元梯度制备洗脱，适用于制药、教学科研等行业制备提纯 最新推出,国内独家低压混合模式三元梯度制备

无臭气体制备系统由无臭气体配气仪、无油压缩机、吸附剂、连接管路等组织，为恶臭气体实验室分析提供清洁无污染的无臭气体，是三点比较式臭袋法实验室必备仪器。 我公司提供恶臭实验室建设整套解决方案；空气净化装置、标准臭液、瞬时无动力采样器 1L\3L\5L\10L 臭气采样桶,污染源采样器、污染采样袋，平衡袋、嗅辩袋、配气稀释仪，无臭气体制备系统、无油泵、橡胶塞、进样器等；可提供技术支持和培训，产品保证满足扩项要求，若不满足全额退款~符合国家标准：GB/T14675-1993 《空气质量恶臭的测定 三点比较式臭袋法》HJ905-2017 《恶臭污染源监测技术规范》HJ865-2017《恶臭嗅觉实验室检测技术规范》

人源抗体噬菌体文库制备服务卡梅德生物科技拥有先进的噬菌体抗体展示文库构建平台，利用该平台可以为客户提供不同级别，不同物种的抗体噬菌体展示文库。抗体文库制备服务 – 人源抗体噬菌体展示文库制备 噬菌体展示技术（phage displayed technology）是通过将外源肽段和噬菌体衣壳蛋白融合展示于噬菌体表面，进行高通量筛选及富集，并对所需功能的克隆进行定性分析，该技术展示对象涵盖抗体、抗体片段、肽段、cDNA等。该技术是由Smith，G.P在1985年提出，通过吸附-洗脱-扩增的重复过程，将含有靶蛋白噬菌体从表达各种外源蛋白的噬菌体库中筛选出来，然后进行富集、扩增及基因序列测定，推断外源蛋白的氨基酸组成，具有缩短实验周期、筛选容量大、可发酵大量生产、方法简单等优点。 卡梅德生物拥有M13，T4和T7噬菌体展示体系，根据客户的项目需求（展示的蛋白或抗体片段的大小等参数），会采用不同的噬菌体进行蛋白或者抗体的展示。同时，客户也可以提供抗原，进行体外外周血淋巴单核细胞敏化，以获得更高亲和力和特异性的单克隆抗体，通常基于该方法制备的抗体亲和力能达到10-13 M级别。 平台优势：*可溶抗原的快速制备能力：结合公司现有的重组蛋白表达体系，我们能够在短时间内制备出高纯度、高生物学活性的可溶抗原蛋白，用以支持噬菌体抗体的免疫及筛选工作。*成熟稳定的免疫文库构建技术：目前我们获得的噬菌体一级免疫文库的库容可高达108 ~ 109，序列丰度超过99%，获得的抗体亲和力达到nM甚至pM级别。*快速可靠的候选抗体筛选及初步鉴定技术：根据不同的抗体药物功能需求，开发了多种筛选体系，包括直接筛选法、竞争法、负筛选发、细胞筛选法等。卡梅德生物科技（天津）有限公司真诚期待与您的合作！

PuriMaster-3000A型二元全自动制备色谱系统 上海科哲生化科技公司是上海知名分析仪器企业，为了满足中药分离纯化的客户需求，以国家重大仪器专项成果为基础，成立了分离纯化事业部，并启用PuriMaster品牌，专注于中药分离纯化。PuriMaster-3000A型二元全自动制备色谱系统是为满足大型纯化实验室的分离纯化需求的制备型HPLC系统，可实现四波长同时检测，产品高度自动化、具有较高的性价比，是大型纯化实验室的良好选择。仪器特点1、采用了自动进样器与全封闭样品瓶，可以实现全自动过夜运行；2、进样器具有洗针功能，可最大程度的避免交叉污染；3、采用功能强大的馏分收集器，快捷的阀切换收集；4、软件支持智能馏分收集，具有时间、阈值、峰值、手动等多种收集方式；5、软件支持馏分索引功能，实时显示馏分收集位置与对应的色谱峰位置；6、仪器使用高精度HPLC制备色谱泵，重现性良好；7、仪器使用高压梯度混合，不需要脱气机，梯度基本无滞后；8、采用氘灯-钨灯组合光源，四波长UV-VIS检测器，可检测190nm-850nm范围任意四个波长信号；9、带有光源自检功能，管理光源寿命，提醒及时更换；10、带有单色仪自校正功能；11、采用1200线高分辨光栅，在紫外-可见范围具有良好的分光效能；12、采用X-Y矩阵式收集，收集数量远高于多通阀；13、软件具有自动进样、梯度、色谱图、馏分收集图、设备状态同图显示的功能；14、软件具有自动进样状态显示与控制功能，可显示阀、注射泵、进样臂的状态；15、软件具有在线UV-VIS光谱扫描的功能，可得出组分的紫外光谱图；16、软件支持梯度程序设定功能，具有阶梯、线性、点-拖式梯度曲线；17、软件支持色谱分峰与定量功能、审计追踪、数据管理、用户管理、个人管理等功能；18、软件中文界面，模块化设计，便于学习和操作，符合中国用户使用习惯； 仪器指标泵1、流量范围：0.01 ～ 50.00 mL/min（双泵，更大流量可定制）；2、压力范围：0-30MPa；检测器1、波长范围：190 nm-850 nm（四波长同时检测）；2、波长精度：±1nm；重复性0.2nm；3、单色仪：1200线光栅；4、光源：氘灯-钨灯组合光源；自动进样器1、定量环：5mL（标配），其它规格定制；2、进样位数：42位；馏分收集器1、试管架规格：15*150mm试管，160位；（其它规格定制）；仪器组成1、高压二元梯度泵系统；2、混合器；3、四波长UV-VIS检测器；4、全自动进样器；5、馏分收集器；6、溶剂槽；7、制备柱（C18, Φ10× 250mm,10μm填料）；8、模块化液相工作站；9、电脑；可选配件1、ELSD-5000KS制备型蒸发光散射检测器；2、二极管阵列检测器；3、示差检测器；4、其它规格色谱柱； 由于技术不断进步，本公司保留设计更改之权利，更改恕不通知敬请谅解。

PP3000T冷冻制备系统：是Cryo-SEM技术的一次&ldquo &rdquo ，她保留原PP2000T特色优点并集成了多种技术成果，具有无与伦比的高性能，是当今全球非常先进的Cryo-SEM系统。系统采用大触摸屏显示所有参数并自动控制，用户可自定义操作方案；高效冷却，一次灌装液氮后系统运行时间可达一整天，期间无需补加液氮，使用更加方便，使用成本更低；广泛的自动操作：自动抽真空、自动升华、自动溅射镀膜等。PP3000T是一款带有涡轮分子泵的高真空系统，其制备腔室的真空度能很好匹配于扫描电镜腔室的真空度（不污染SEM腔室），用于场发射类或钨灯丝类扫描电镜配套冷冻台。

PuriMaster-5000型二元全自动制备色谱系统 上海科哲生化科技公司是上海知名分析仪器企业，为了满足中药分离纯化的客户需求，以国家重大仪器专项成果为基础，成立了分离纯化事业部，并启用PuriMaster品牌，专注于中药分离纯化。PuriMaster-5000型二元全自动制备色谱系统是为满足大型纯化实验室的分离纯化需求的制备型HPLC系统；标配四波长UV-VIS检测器和蒸发光散射检测器，功能强大；产品高度自动化、具有较高的性价比，是大型纯化实验室的良好选择。仪器特点1、采用了自动进样器与全封闭样品瓶，可以实现无人操作，节省人力；2、进样器具有洗针功能，可最大程度的避免交叉污染；3、采用功能强大的馏分收集器，快捷的阀切换收集；4、软件支持智能馏分收集，具有时间、阈值、峰值、手动等多种收集方式；5、软件支持馏分索引功能，实时显示馏分收集位置与对应的色谱峰位置；6、使用高精度HPLC制备色谱泵，重现性良好；7、使用高压梯度混合，不需要脱气机，梯度基本无滞后；8、采用氘灯-钨灯组合光源，四波长UV-VIS检测器，可检测190nm-850nm范围任意四个波长信号；9、带有光源自检功能，管理光源寿命，提醒及时更换；10、带有单色仪自校正功能；11、采用1200线高分辨光栅，在紫外-可见范围具有良好的分光效能；12、标配ELSD检测器，可用于无紫外吸收样品检测；13、采用X-Y矩阵式收集，收集数量远高于多通阀；14、软件可以控制设备所有部件，具有高度的自动化性能；15、检测器同时检测4个波长的色谱峰，并可以同图显示并指导收集；16、软件具有多检测器同一坐标系内显示色谱图的功能；17、软件具有自动进样状态显示与控制功能，可显示阀、注射泵、进样臂的状态；18、软件具有在线UV-VIS光谱扫描的功能，可得出组分的紫外光谱图；19、软件支持梯度程序设定功能，具有阶梯、线性、点-拖式梯度曲线；20、软件具有自动进样、梯度、色谱图、馏分收集图、设备状态同图显示的功能；21、软件支持色谱分峰与定量功能、审计追踪、数据管理、用户管理、个人管理等功能；22、软件中文界面，模块化设计，便于学习和操作，符合中国用户使用习惯； 主要指标泵1、流量范围：0.01 ～ 50.00 mL/min（更大流量可定制）；2、压力范围：0-30MPa；紫外检测器1、波长范围：190nm-850nm（四波长同时检测）；2、波长精度：±1nm；重复性0.2nm；3、单色仪：1200线光栅；4、光 源：氘灯-钨灯组合光源；蒸发光检测器1、蒸发光光源：650nm激光；2、蒸发光气体流量范围：0-5L/min；自动进样器1、自动进样器：5mL（标配），其它规格可选；2、进样位数：42位；馏分收集器1、试管架规格：15*150mm试管，160位；（其它规格定制）； 仪器组成1、高压二元梯度泵系统；2、混合器；3、紫外检测器；4、蒸发光检测器；5、全自动进样器；6、馏分收集器；7、溶剂槽；8、制备柱（C18, Φ10× 250mm,10μm填料）；9、模块化液相工作站；10、电脑； 可选配件1、二极管阵列检测器；2、示差检测器；3、其它规格色谱柱； 由于技术不断进步，本公司保留设计更改之权利，更改恕不通知敬请谅解。

WD4000晶圆几何形貌测量系统采用高精度光谱共焦传感技术、光干涉双向扫描技术，完成非接触式扫描并建立3D Mapping图，实现晶圆厚度、TTV、LTV、Bow、Warp、TIR、SORI、等反应表面形貌的参数。WD4000晶圆几何形貌测量系统自动测量Wafer厚度、表面粗糙度、三维形貌、单层膜厚、多层膜厚。1、使用光谱共焦对射技术测量晶圆Thickness、TTV、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI等参数，同时生成Mapping图；2、采用白光干涉测量技术对Wafer表面进行非接触式扫描同时建立表面3D层析图像，显示2D剖面图和3D立体彩色视图，高效分析表面形貌、粗糙度及相关3D参数；3、基于白光干涉图的光谱分析仪，通过数值七点相移算法计算，达到亚纳米分辨率测量表面的局部高度，实现膜厚测量功能；4、红外传感器发出的探测光在Wafer不同表面反射并形成干涉，由此计算出两表面间的距离（即厚度），可适用于测量BondingWafer的多层厚度。该传感器可用于测量不同材料的厚度，包括碳化硅、蓝宝石、氮化镓、硅等。测量功能1、厚度测量模块：厚度、TTV(总体厚度变化)、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI、平面度、等；2、显微形貌测量模块：粗糙度、平整度、微观几何轮廓、面积、体积等。3、提供调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能。其中调整位置包括图像校平、镜像等功能；纠正包括空间滤波、修描、尖峰去噪等功能；滤波包括去除外形、标准滤波、过滤频谱等功能；提取包括提取区域和提取剖面等功能。4、提供几何轮廓分析、粗糙度分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。几何轮廓分析包括台阶高、距离、角度、曲率等特征测量和直线度、圆度形位公差评定等；粗糙度分析包括国际标准ISO4287的线粗糙度、ISO25178面粗糙度、ISO12781平整度等全参数；结构分析包括孔洞体积和波谷。产品优势1、非接触厚度、三维维纳形貌一体测量集成厚度测量模组和三维形貌、粗糙度测量模组，使用一台机器便可完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度、及三维形貌的测量。2、高精度厚度测量技术（1）采用高分辨率光谱共焦对射技术对Wafer进行高效扫描。（2）搭配多自由度的静电放电涂层真空吸盘，晶圆规格最大可支持至12寸。（3）采用Mapping跟随技术，可编程包含多点、线、面的自动测量。3、高精度三维形貌测量技术（1）采用光学白光干涉技术、精密Z向扫描模块和高精度3D重建算法，Z向分辨率高可到0.1nm；（2）隔振设计降低地面振动和空气声波振动噪声，获得高测量重复性。（3）机器视觉技术检测图像Mark点，虚拟夹具摆正样品，可对多点形貌进行自动化连续测量。4、大行程高速龙门结构平台（1）大行程龙门结构(400x400x75mm)，移动速度500mm/s。（2）高精度花岗岩基座和横梁，整体结构稳定、可靠。（3）关键运动机构采用高精度直线导轨导引、AC伺服直驱电机驱动，搭配分辨率0.1μm的光栅系统，保证设备的高精度、高效率。5、操作简单、轻松无忧（1）集成XYZ三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦等测量前准工作。（2）具备双重防撞设计，避免误操作导致的物镜与待测物因碰撞而发生的损坏情况。（3）具备电动物镜切换功能，让观察变得快速和简单。应用场景1、无图晶圆厚度、翘曲度的测量通过非接触测量，将晶圆上下面的三维形貌进行重建，强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度、粗糙度、总体厚度变化(TTV)，有效保护膜或图案的晶片的完整性。2、无图晶圆粗糙度测量Wafer减薄工序中粗磨和细磨后的硅片表面3D图像，用表面粗糙度Sa数值大小及多次测量数值的稳定性来反馈加工质量。在生产车间强噪声环境中测量的减薄硅片，细磨硅片粗糙度集中在5nm附近，以25次测量数据计算重复性为0.046987nm，测量稳定性良好。部分技术规格型号WD4200厚度和翘曲度测量系统可测材料砷化镓 、氮化镓 、磷化 镓、锗、磷化铟、铌 酸 锂 、蓝宝石 、硅 、碳化 硅 、玻璃等测量范围150μm~2000μm测量参数厚度、TTV(总体厚度变 化) 、LTV 、BOW、WARP 、平面度、线粗糙度三维显微形貌测量系统测量原理白光干涉测量视场0.96mm×0.96mm可测样品反射率0.05%~ 100%测量参数显微形貌 、线/面粗糙度、空间频率等三大 类300余种参数系统规格晶圆尺寸4" 、6" 、8" 、 12"晶圆载台防静电镂空真空吸盘载台X/Y/Z工作台行程400mm/400mm/75mm工作台负载≤5kg外形尺寸1500× 1500×2000mm总重量约 2000kg恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

NS4330三元制备液相柱塞泵系统/DAC80 性能特点 该套系统包括两台NP7030C高压制备输液泵，可以实现高压梯度运行，并可以选配一台7030C进样泵，实现自动进样和手动进样双重功能。所有GLP可以累计记录柱塞冲程次数。系统支持不停泵在线修改流量。参数配置1、NP7030C制备泵（300ml/min泵头）2、NU3000C检测器3、流通池4、INJ-P手动制备进样阀5、20ml定量环6、动态混合器7、EasyChrom-1000色谱工作站8、启动工具包9、DAC-HB80动态轴向压缩柱10、网络控制器11、在线过滤器

GEMINIFB 自动化集体晶圆对晶圆接合系统GEMINI FB Automated Collective Die-to-Wafer Bonding System 高容量生产系统集体die-to-wafer (Co-D2W)键 特性一个有前途的方法混合D2W结合集体D2W (Co-D2W)。 在Co-D2W结合,多个模具转移到最终的晶片在一个处理步骤。 制造流Co-D2W焊接过程由四个主要部分:载体制备、载体的人口,晶片键合和载体分离。 EVG GEMINI FB配置为D2W Co-D2W集成流中键是一个决定性的元素,使有效的清洁和载体的转移安装模具,焊接和载波分离系统。 GEMINI FB系统行业标准对薄片以及Co-D2W融合和混合成键。 特性灵活的处理晶片和运营商定制的死亡行业标准SmartViewNT面对面债券对准器载波设备晶片对齐六预处理模块:清洁模块LowTemp™ 等离子体活化模块校准验证模块热压键模块XT框架概念与EFEM高吞吐量(设备前端模块)

凝胶净化（渗透制备）系统，本系统专门用于中药材或饮片、食品中有机氯农药多组分残留量等农药残留物净化制备提取。一、产品介绍1.采用国外先进技术，提供一个快速、效率的分析系统2.主要用于实验室，天然产物分离、蛋白质纯化与鉴定、有机合成产物分离纯化、精细化学品剖析、新药化合物筛、农药残留物净化提取制备等样品前处理。3.凝胶净化（渗透制备）系统，本系统专门用于中药材或饮片、食品中有机氯农药多组分残留量等农药残留物净化制备提取。4.根据2015版药典中药材或饮片和食品相关的国家标准规定的关于农药残留物净化提取制备要求完美定制。目前国内多家龙头药企及其他用户已在使用二、参数：1.流速范围：0～50ml/min2.压力范围：0～100kg(1500PSI）3.洗脱方式：等度洗脱三、定制：以环己烷-乙酸乙酯（1:1）混合溶液为流动相，流速为每分钟5.0ml净化，收集相关标准规定要求的洗脱液（流分）四、配置：1.凝胶净化（渗透制备）专用泵 1台2.进样装置 1套3.系统专用包、配件 1套4.凝胶净化（渗透制备）专用检测器 （可选） 5.专用色谱柱 （可选）

PuriMaster -2000型二元自动收集制备色谱系统 PuriMaster -2000型二元自动收集制备色谱系统是为满足小型研发组的分离纯化需求的制备型HPLC系统，自动化程度高，产品结实耐用、具有极高的性价比，是小型中药研发组创立之初的理想选择。 仪器特点1、使用全自动馏分收集器，快捷的阀切换收集；2、软件支持智能馏分收集，具有时间、阈值、峰值、手动等多种收集方式；3、软件支持馏分索引功能，实时显示馏分收集位置与对应的色谱峰位置；4、仪器使用高精度HPLC制备色谱泵，重现性良好；5、仪器使用高压梯度混合，不需要脱气机，梯度基本无滞后；6、仪器使用进口专用高压六通阀，配合制备定量管，使用寿命长；7、采用氘灯-钨灯组合光源，双波长检测器，可检测190nm-850nm范围任意两个波长信号；8、带有光源自检功能，管理光源寿命，提醒及时更换；9、带有单色仪自校正功能，波长准确性高；10、采用进口高性能光电检出器，性能稳定、检测灵敏；11、采用1200线高分辨光栅，在紫外-可见范围具有良好的分光效能；12、采用X-Y矩阵式收集，收集数量远高于多通阀；13、软件具有梯度、色谱图、馏分收集图、设备状态同图显示的功能；14、软件具有多检测器同一坐标系内显示色谱图的功能；15、软件具有在线UV-VIS光谱扫描的功能，可得出组分的紫外光谱图；16、软件支持色谱分峰与定量功能、审计追踪、数据管理、用户管理、个人管理等功能；17、软件中文界面，模块化设计，便于学习和操作，符合中国用户使用习惯； 主要指标泵1、流量范围：0.01 ～ 50.00 mL/min（更大流量可定制）；2、压力范围：0-30MPa；检测器1、波长范围：190 nm-850 nm（双波长同时检测）；2、波长精度：±1nm；重复性0.2nm；3、单色仪：1200线光栅；4、光源：氘灯-钨灯组合光源；5、基线噪音：±0.1mAU，254nm；6、基线漂移：0.2mAU，254nm；馏分收集器1、试管架规格：15*150mm试管，160位；（其它规格定制）； 仪器组成1、高压双泵二元梯度系统；2、混合器；3、双波长UV-VIS检测器；4、高压六通进样阀（含定量环）；5、馏分收集器；6、溶剂槽；7、制备柱（C18, Φ10× 250mm,10μm填料）；8、模块化液相工作站；9、电脑； 可选配件1、ELSD-5000KS制备型蒸发光散射检测器；2、二极管阵列检测器；3、示差检测器；4、其它规格色谱柱； 由于技术不断进步，本公司保留设计更改之权利，更改恕不通知敬请谅解。

汉邦二元半制备液相色谱系统产品简述 柱塞泵式高效液相色谱系统是汉邦科技为实验室分析、小试和中试 放大而开发的色谱产品。输液泵泵头及液路接触材质可选择SS316L，钛 合金，PEEK等，适合不同体系的特殊要求。 双波长紫外-可见光检测器， 可扩大检测范围，同时可选配示差折光检测器或蒸发光检测器。配套色 谱柱有常规的高效液相色谱柱、弹簧柱、动态轴向压缩柱、多功能轴向压缩柱等。 产品特点 输液泵采用电子阻尼流量控制技术，有效提高流速精度和梯度精度 浮动活塞设计，有效延长密封圈使用寿命 紫外-可见光检测器，检测精 准性和重复性，双波长检测，扩大 检测范围 可选配自动馏分收集器，支持保留时间收集、响应值收集和即时手动收集等多种馏分收集方式 丰富而完整的产品规格，能够满足从开发到生产各个环节的要求 广泛应用于发酵产品、天然产物、合成药等产品的分离纯化

n产品简介: SemDex A32型全自动晶圆厚度测试系统是德国SENTRONICS公司一款高性能的半导体用全自动晶圆表面检测系统，该系统可集成红外光谱干涉测量技术，光学干涉技术及光学反射技术，广泛用于半导体Wafer Manufacturing, FEOL, BEOL 及Wafer Level Packaging领域，SENTRONICS以其精准的测量能力，非接触的测量方式，快速的测试速度，上下双探头符合SEMI标准的测试方式，使得该设备在半导体，MEMS，在化合物外延领域拥有很高的市场占有率，全球半导体行业已有120多个Fab工厂已安装该系统。 n主要功能： 1、红外光谱技术：采用专利的光谱相干干涉技术，该技术可用于测量最小厚度为1um的wafer, 分辨率可达纳米量级，主要用于测量晶圆的厚度、TTV、Bow、Warp、RST、wafer上薄膜厚度。 可以测量背面研磨减薄和刻蚀后的晶圆，也可测量粘附在薄膜或者其他载体上的有图形或凸起的晶圆，可应用于堆叠芯片和微机电系统。 配置单探头系统，可以测量一些对红外线透明的材料，例如Si, GaAs, InP, SiC, 玻璃，石英和一些聚合物，还可以测量常规有图形、有胶带、凸起或者键合在载体上晶圆的衬底厚度。 配置双探头系统时，还提供晶圆整体厚度测量（包括衬底厚度和在光不能穿透的情况下的图形高度厚度)。 还可以测量沟槽深度和通孔深度（包括微机电中的高深宽比的沟槽和通孔），微机电应用中薄膜厚度测量和凸块高度测量。2、白光干涉技术：采用白光干涉技术，可得到wafer表面的3D形貌，表面粗糙度，TSV等关键尺寸，测量范围为0-100um，分辨率为亚纳米水平。3、光学反射技术：采用光学反射技术，可得到wafer表面涂层或薄膜的厚度，可测量最小厚度5nm的薄膜，分辨率为亚纳米量级。 n产品特点： - 兼容4,6,8,12寸样品；- 所有检测数据，一步同时完成测量；- 可在一台仪器上搭配不同技术的测量探头，用于测量晶圆的厚度、TTV、Bow、Warp、RST、wafer上薄膜厚度，3D形貌，TSV，关键尺寸，粗糙度等参数。- 符合SEMI S2和S8标准； - 最多可加载4个8寸片Load Port或者3个12寸片Load Port；- 两个可翻转的机械手臂，吞吐量最高达100 wafers /h；- 旋转台用于晶圆全尺寸快速测量；- SECS/GEM软件包，可以根据用户提供定制化需要；- 用户界面友好的WaferSpect 软件； n选配件 1、真空吸盘；2、高分辨率HD CMOS相机及图像识别的软件；3、集成OCR、条形码或QR码识别的摄像头；4、区分不同Cassette类型的阅读信息板；5、通过测试数据自动进行分拣 n应用行业： - 化合物半导体：研磨芯片厚度控制GaAs，InP, SiC，GaN - 硅基器件前段：功率器件，MEMS，射频MEMS- 硅基器件后段：8”和12”的封装及bumping线，TSV(硅通孔技术)- LED：可用作检测蓝宝石或碳化硅片厚度及TTV- 光通讯：石英材料类 n典型应用案例：

产品优势徕科光学推出的LK-ZDJY80R型号自动晶圆缺陷密度检查系统用于检查晶圆位错形态和分布，为晶圆材料研究、改进制备工艺提供数据支持。系统高度集成显微镜、摄像机、电动扫描台等硬件设备；项目化管理、流程化操作。不仅可用于晶圆位错缺陷分析、也可用于粉末冶金、涂料粒颗等分布形态分析。依靠着科技感和创新感双强的研发力量，可以根据不同客户的需求定制出高性价比的产品方案；具备内核稳定的售后方案，7*24小时响应，提供安装培训 一体化互动，更加直接且高效地为客户做好售前、售中、售后服务保障。经过十余年的研发服务，已积累千万客户，并在多地区投建服务部方便与客户的沟通互动。下图为现场安装、培训实景图：下图为合作伙伴情况：下图为服务站分布图：自动晶圆缺陷密度检查系统产品介绍1、 高整合的自动分析系统 Automatic Analysis System半导体晶圆制备中位错缺陷的形状和分布情况对电子元器件的性能有较大影响，由于掺杂材料、制备工艺的不同，位错分布也不同。本系统用于检查晶圆位错形态和分布，为晶圆材料研究、改进制备工艺提供数据支持。系统高度集成显微镜、摄像机、电动扫描台等硬件设备；项目化管理、流程化操作。不仅可用于晶圆位错缺陷分析、也可用于粉末冶金、涂料粒颗等分布形态分析。2、 自动扫描样品 Auto Scanning/Focusing/Snap支持多种扫描路径：矩形区域、圆形区域等，满足不同形状的样品需要；对于形状不规则的样品，采用四点矩形确定扫描区域，并支持空白区设置，减少扫描图像数目，提高工作效率。抓拍过程照片自动保存，进度状态实时可见；照片信息存入数据库，方便查询；提供视场图片浏览功能，可以实现视场定位回溯、重新拍照等功能；3、 软件支持多种自动聚焦方式 Automatic Focus Algorithm系统支持拟合补偿聚焦模式以保证低倍下每个视场的对焦精度；采用最新的图像融合聚焦算法，以确保高倍景深不足时的图像清晰度。4、 缺陷个数分布统计 Etch pits Density Analysis 位错在晶圆里产生由于晶体生长条件和掺杂材料或者是制造过程中的物理损坏。晶体缺陷会引起有害的电流漏出，可能阻止器件在正常电压下工作。1) 统计方式分为全覆盖扫描和抽点检查颗粒个数分布。其中全覆盖扫描更能准确反映缺陷分布情况；而抽点方式能更快速完成检查。2) 全覆盖扫描模式支持用户将整个晶圆划分为不同单元格进行个数统计，单元格可以通过输入单元格尺寸或输入单元格个数MxN自行设置。3) 抽点检查的单元格可设定为MxN方式，可按间距均匀分布以及按数量设定MxN均分两种方式；自动统计单元格内的缺陷个数。4) 支持设定单元格最大允许缺陷数，作为依据判断单元格合格指标，统计合格率（合格单元格数/单元格总数）。5) 支持设置单元格缺陷个数区间，统计落在不同区间的单元格数，以及该区间单元格数占总个数的百分比。6) 按单元格输出缺陷分布MAP图，支持设置过渡色，MAP图上按缺陷密度自动计算过渡色进行填充，并显示区间代码。支持以上数据以Excel形式输出。5、 缺陷形态分析 Etch pits Morphology Analysis 形态分析功能通过自动计算表面缺陷卡规直径、面积、形态因子等多种参数用于分析位错的大小、形状，进而通过改进工艺降低缺陷的危害。 1）缺陷参数包括面积、长度、宽度、圆度、形状因子等十余种参数。 2）支持按不同按缺陷参数设置分类区间，统计不同分布参数下的缺陷个数、该区间个数百分比、该区间内的平均参数。6、 缺陷的识别与参数计算 Particles Detection 1）软件采用马赛克技术实现帧间颗粒的探测，即使是跨视域的较大缺陷也能准确识别；软件也可自行定义探测参数，自动忽略探测范围外的缺陷。 2）提供扫描台与相机的夹角校正功能，提高帧间颗粒计算的准确性。 3）抽点检查时处于边缘的缺陷可按设定全部保留或全部忽略；全覆盖扫描时能精确分析和识别扫描区域内的缺陷，以准确反映缺陷的分布特性。 4）对于重叠较大无法自动识别的位错，系统也支持手动抽点检查位错密度分布情况。7、 晶圆图像电子存档，可日后追溯 Electronic Archive of Filter 扫描分析时系统将晶圆完整图像、分析数据以及测试报告以电子形式存档，日后如有需要，可以随时调取查阅或重新分析，不需重新扫描。8、 快捷方便的数据交互功能 Easy Editing 所有颗粒数据可快速浏览、定位、排序；支持管理员进行颗粒数据修正功能，解决特殊颗粒及聚集颗粒识别问题。9、 专业报告 Professional Report 报告模板和格式可根据不同的公司标准和需求自由设置；包含位错个数密度数据、个数分布MAP图，缺陷形态统计分类结果、样品全貌图、最大缺陷照片等信息。

WD4000晶圆表面厚度翘曲度测量系统通过非接触测量，将晶圆的三维形貌进行重建，强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度，TTV，BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕缺陷。兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。测量功能1、厚度测量模块：厚度、TTV(总体厚度变化)、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI、平面度、等；2、显微形貌测量模块：粗糙度、平整度、微观几何轮廓、面积、体积等。3、提供调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能。其中调整位置包括图像校平、镜像等功能；纠正包括空间滤波、修描、尖峰去噪等功能；滤波包括去除外形、标准滤波、过滤频谱等功能；提取包括提取区域和提取剖面等功能。4、提供几何轮廓分析、粗糙度分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。几何轮廓分析包括台阶高、距离、角度、曲率等特征测量和直线度、圆度形位公差评定等；粗糙度分析包括国际标准ISO4287的线粗糙度、ISO25178面粗糙度、ISO12781平整度等全参数；结构分析包括孔洞体积和波谷。产品优势1、非接触厚度、三维维纳形貌一体测量WD4000晶圆表面厚度翘曲度测量系统集成厚度测量模组和三维形貌、粗糙度测量模组，使用一台机器便可完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度、及三维形貌的测量。2、高精度厚度测量技术（1）采用高分辨率光谱共焦对射技术对Wafer进行高效扫描。（2）搭配多自由度的静电放电涂层真空吸盘，晶圆规格最大可支持至12寸。（3）采用Mapping跟随技术，可编程包含多点、线、面的自动测量。3、高精度三维形貌测量技术（1）采用光学白光干涉技术、精密Z向扫描模块和高精度3D重建算法，Z向分辨率高可到0.1nm；（2）隔振设计降低地面振动和空气声波振动噪声，获得高测量重复性。（3）机器视觉技术检测图像Mark点，虚拟夹具摆正样品，可对多点形貌进行自动化连续测量。4、大行程高速龙门结构平台（1）大行程龙门结构(400x400x75mm)，移动速度500mm/s。（2）高精度花岗岩基座和横梁，整体结构稳定、可靠。（3）关键运动机构采用高精度直线导轨导引、AC伺服直驱电机驱动，搭配分辨率0.1μm的光栅系统，保证设备的高精度、高效率。5、操作简单、轻松无忧（1）集成XYZ三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦等测量前准工作。（2）具备双重防撞设计，避免误操作导致的物镜与待测物因碰撞而发生的损坏情况。（3）具备电动物镜切换功能，让观察变得快速和简单。WD4000晶圆表面厚度翘曲度测量系统可实现砷化镓、氮化镓、磷化镓、锗、磷化铟、铌酸锂、蓝宝石、硅、碳化硅、玻璃不同材质晶圆的量测。广泛应用于衬底制造、晶圆制造、及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、显示面板、MEMS器件等超精密加工行业。测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的厚度、粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。应用场景1、无图晶圆厚度、翘曲度的测量通过非接触测量，将晶圆上下面的三维形貌进行重建，强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度、粗糙度、总体厚度变化(TTV)，有效保护膜或图案的晶片的完整性。2、无图晶圆粗糙度测量Wafer减薄工序中粗磨和细磨后的硅片表面3D图像，用表面粗糙度Sa数值大小及多次测量数值的稳定性来反馈加工质量。在生产车间强噪声环境中测量的减薄硅片，细磨硅片粗糙度集中在5nm附近，以25次测量数据计算重复性为0.046987nm，测量稳定性良好。重点参数测量速度：最快15s测量范围：100μm~2000μm 测量精度：0.5um 重复性（σ）：0.2um探头分辨率：23nm扫描方式：Fullmap 面扫、米字、 自由多点测量参数：厚度、TTV(总体厚度变化)、BOW、WARP、LTV、粗糙度等可测材料：砷化镓、氮化镓、磷化镓、锗、磷化铟、 铌酸锂、蓝宝石、硅、碳化硅、氮化镓、玻璃、外延材料等

WD4000国产半导体晶圆表面形貌测量系统兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。它采用白光光谱共焦多传感器和白光干涉显微测量双向扫描技术，完成非接触式扫描并建立表面3D层析图像，实现Wafer厚度、翘曲度、平面度、线粗糙度、总体厚度变化(TTV)及分析反映表面质量的2D、3D参数。WD4000国产半导体晶圆表面形貌测量系统自动测量Wafer厚度、表面粗糙度、三维形貌、单层膜厚、多层膜厚。1、使用光谱共焦对射技术测量晶圆Thickness、TTV、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI等参数，同时生成Mapping图；2、采用白光干涉测量技术对Wafer表面进行非接触式扫描同时建立表面3D层析图像，显示2D剖面图和3D立体彩色视图，高效分析表面形貌、粗糙度及相关3D参数；3、基于白光干涉图的光谱分析仪，通过数值七点相移算法计算，达到亚纳米分辨率测量表面的局部高度，实现膜厚测量功能；4、红外传感器发出的探测光在Wafer不同表面反射并形成干涉，由此计算出两表面间的距离（即厚度），可适用于测量BondingWafer的多层厚度。该传感器可用于测量不同材料的厚度，包括碳化硅、蓝宝石、氮化镓、硅等。WD4000国产半导体晶圆表面形貌测量系统在衬底制造、晶圆制造、及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、显示面板、MEMS器件等超精密加工行业中，可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的厚度、粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。测量功能1、厚度测量模块：厚度、TTV(总体厚度变化)、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI、平面度、等；2、显微形貌测量模块：粗糙度、平整度、微观几何轮廓、面积、体积等。3、提供调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能。其中调整位置包括图像校平、镜像等功能；纠正包括空间滤波、修描、尖峰去噪等功能；滤波包括去除外形、标准滤波、过滤频谱等功能；提取包括提取区域和提取剖面等功能。4、提供几何轮廓分析、粗糙度分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。几何轮廓分析包括台阶高、距离、角度、曲率等特征测量和直线度、圆度形位公差评定等；粗糙度分析包括国际标准ISO4287的线粗糙度、ISO25178面粗糙度、ISO12781平整度等全参数；结构分析包括孔洞体积和波谷。产品优势1、非接触厚度、三维维纳形貌一体测量集成厚度测量模组和三维形貌、粗糙度测量模组，使用一台机器便可完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度、及三维形貌的测量。2、高精度厚度测量技术（1）采用高分辨率光谱共焦对射技术对Wafer进行高效扫描。（2）搭配多自由度的静电放电涂层真空吸盘，晶圆规格最大可支持至12寸。（3）采用Mapping跟随技术，可编程包含多点、线、面的自动测量。3、高精度三维形貌测量技术（1）采用光学白光干涉技术、精密Z向扫描模块和高精度3D重建算法，Z向分辨率高可到0.1nm；（2）隔振设计降低地面振动和空气声波振动噪声，获得高测量重复性。（3）机器视觉技术检测图像Mark点，虚拟夹具摆正样品，可对多点形貌进行自动化连续测量。4、大行程高速龙门结构平台（1）大行程龙门结构(400x400x75mm)，移动速度500mm/s。（2）高精度花岗岩基座和横梁，整体结构稳定、可靠。（3）关键运动机构采用高精度直线导轨导引、AC伺服直驱电机驱动，搭配分辨率0.1μm的光栅系统，保证设备的高精度、高效率。5、操作简单、轻松无忧（1）集成XYZ三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦等测量前准工作。（2）具备双重防撞设计，避免误操作导致的物镜与待测物因碰撞而发生的损坏情况。（3）具备电动物镜切换功能，让观察变得快速和简单。WD4000晶圆检测设备可实现砷化镓、氮化镓、磷化镓、锗、磷化铟、铌酸锂、蓝宝石、硅、碳化硅、玻璃不同材质晶圆的量测。部分技术规格品牌CHOTEST中图仪器型号WD4000系列测量参数厚度、TTV(总体厚度变化)、BOW、WARP、LTV、粗糙度等可测材料砷化镓、氮化镓、磷化镓、锗、磷化铟、 铌酸锂、蓝宝石、硅、碳化硅、氮化镓、玻璃、外延材料等厚度和翘曲度测量系统可测材料砷化镓 氮化镓 磷化 镓 锗 磷化铟 铌酸锂 蓝宝石 硅 碳化硅 玻璃等测量范围150μm~2000μm扫描方式Fullmap面扫、米字、自由多点测量参数厚度、TTV(总体厚度变 化)、LTV、BOW、WARP、平面度、线粗糙度三维显微形貌测量系统测量原理白光干涉干涉物镜10X(2.5X、5X、20X、50X,可选多个)可测样品反射率0.05%~100粗糙度RMS重复性0.005nm测量参数显微形貌 、线/面粗糙度、空间频率等三大类300余种参数膜厚测量系统测量范围90um(n= 1.5)景深1200um最小可测厚度0.4um红外干涉测量系统光源SLED测量范围37-1850um晶圆尺寸4"、6"、8"、12"晶圆载台防静电镂空真空吸盘载台X/Y/Z工作台行程400mm/400mm/75mm恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

应用领域经典的二元梯度分析兼半制备系统，半制备色谱能够胜任大部分复杂体系的分析检测，常规检验，质量控制、环保疾控等众多领域，仪器介绍 二元梯度分析兼半制备系统 其分析灵敏度高重现性好。积木式设计，操作简单易于掌握应用。维护简单故障点少，使用维护成本底，深受用户好评。本系统可任选其他检测器，如：示差折光检测器、荧光检测器等。 主要特点：1.双泵可作梯度洗脱，流量0.01-80.00ml/min2.可兼作梯度分析3.操作简单，检测灵敏度高，稳定性好4.长期免维护运行5.兼容性好 具体参数请来电或留言咨询！

三为科学是制备色谱的市场主流品牌，其制备色谱系统包含：小分子分离纯化制备色谱系统和大分子蛋白纯化制备色谱系统。其制备色谱系统稳定性能高而且软件易用，专为进行单次和多次纯化的科学家设计。Purifier中压制备液相色谱系统旨在满足您的不同应用需求：不论您是每天只需处理少量样品，还是您的工作量要求仪器能实现更大通量，我们的制备液相色谱系统使您可快速制备宝贵且复杂的混合物并获得高纯度、高回收率的完全可信结果。高效的模块化制备色谱系统，广泛应用于天然产物、有机合成产物和蛋白质生物高分子的分离纯化。 Purifier中压制备色谱系统组成：整套仪器有液相泵、玻璃柱、紫外检测器、蒸发光散射检测器、梯度混合器、自动馏分收集器等配套组成，可按需选配。可选用多种规格玻璃柱，玻璃柱耐压可达50巴压力。玻璃柱柱壁清晰透明，可看到柱中样品分离情况，对操作人员有很大帮助。 中压制备液相色谱优点可灵活选择二元泵或四元泵进行中压多溶剂混合或在高达200 ml/min的流速下实现高压梯度溶剂混合通过高灵敏度的190-800nm全波长紫外检测器或基线噪音低至0.01mv蒸发光检测器器对目标化合物进行鉴别与分离可使用内径不超过50 mm的色谱柱对从几毫克到几克不等的样品进行可靠纯化高度灵活的模块化配置，一体化馏分收集，让科研过程更直观智能的全自动馏份收集器可按色谱峰、时间或体积进行馏份收集严格地权限管理、电子记录、电子签名、审计追踪功能，执行用户注册和多种权限设定方式泵系统中无脉冲，对分离效果有帮助，更有助于延长密封及仪器的使用寿命；标准的色谱分析系统；人机工程学：直观方便的操作；高速的系统总线保证高效的数据传输操作极其简单；维护非常方便；大大提高了实验室分离纯化的重复性和可靠性。灵活的设置使分析方法由分析色谱向制备色谱扩展更为容易系统易于升级，为您的试验室带来新的分离纯化新技术可快速完成小分子和大分子活性成分化合物的纯化和制备凸轮曲线补偿技术有效控制流量脉动，保证低基线噪声多点流量校正曲线，保证在全流量范围内的流量精度和系统的重复性 泵头具有自动清洗功能，避免缓冲液残留、结晶析出便捷更换灯和流通池，氘灯钨灯智能切换，确保运行时间优化316L不锈钢、PEEK、纯钛、哈氏合金，流路多种材料可供选择项目管理采用数据库模式管理数据，与项目关联的仪器方法、谱图数据、分析方法都存在项目下系统控制软件完全符合CFDA GxP和FDA 21CFR Part11法规要求系统可以与品牌色谱柱、SPE固相萃取柱适配连接中压制备色谱系统技术参数: 泵头316L不锈钢泵 高精度、低脉冲、耐腐蚀 （peek泵头可选）流速范围0.01-100.00ml/min（梯度）流速精度±0.5%压力范围0-10MPa压力脉动≤0.2MPa梯度类型台阶、线性变化梯度、可在线修改梯度和流速最小梯度调节1%检测器光源氘灯+钨灯（进口）检测波长190-800nm 全波长检测器 双波长同时检测波长精度±1nm吸光度范围0-2AU收集全自动收集器收集管架2×60支试管（Φ15mm*150mm试管） 其他规格可以选配收集模式普通模式（按时间收集、峰收集、阈值收集）、顺序收集、循环收集手动上样阀制备色谱阀（标配10ml定量环）上样方式固体上样或液体上样电源220V±10% 50Hz色谱软件控制通过sanochrom色谱软件控制泵、紫外、自动收集器等组件设置与运行控制界面图形界面，USB接口+RS-232可接口，采用基于Windows7/Windows 8/Windows 10的PC软件工作站，软件符合“CFDA GXP和FDA 21CFR Part 11 ”法规要求

MSK-NFES-4静电纺丝纳米纤维制备系统是一个完整的纳米纤维制备系统，或者说是一个完整的静电纺丝涂覆系统（或电喷镀）。具有操作软件友好、设计以任务作业为基准、易于操作、优越的性价比等优点，因此领先于市场其他同类产品。可生产直径20nm-1000nm的超细纳米纤维，也可用于在基底上进行电喷雾涂层材料，相比于电纺丝，电喷雾涂层需要一个低粘度解决方案和更高的电压。产品型号 MSK-NFES-4静电纺丝纳米纤维制备系统安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：不需要 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：不需要 4、工作台：落地式设备，占地面积2m2以上 5、通风装置：需要主要特点 1、友好的操作软件界面，使得计算机能够帮助管理和控制各种参数，如旋转心轴速度、旋转时间、注射泵流量、 XY方向运动等。 2、采用典型的通风橱，可提供一个封闭式气氛，并通过四周玻璃窗监测纺丝的过程，且内部设有排气扇、卤素灯，以及加热器，可辐射加热至60℃，且都集成在一个电器控制单元上。 3、采用高压电源，最大电流容量0.5mA，可提供0-30KV输出电压。 4、配有1个固定靶、1个XY往复运动靶，6个不同直径的旋转心轴。 5、注射泵能够提供平稳的、连续的流量，使得纺丝过程始终如一。 6、已通过CE认证。技术参数　输入电源：AC 208-240V单相　高压电源 1、单相输出：0-30KV 2、最大电流：0.5mA 3、电压/电流表：数显 4、操作模式：恒定电流、恒定电压，内置保护电路　通风橱 1、材质：不锈钢、铝合金、玻璃 2、空间：1200mm×800mm； 3、通过四周的玻璃窗可以非常容易的监测电纺丝的过程； 4、采用独立的内置电源、线路，供加热、照明、排气使用； 5、经过环氧涂层处理，进行电器绝缘； 6、设有静电消除装置——残余电荷释放棒； 7、环境温度控制在60℃； 8、设有高压电源危险指示信号灯； 9、排气扇置于通风橱的顶部，可以连接外接排气设备　注射泵 1、包括四个注液分配系统，并由计算机控制； 2、分配标准2.5ml-60ml玻璃注射器； 3、注射器固定架采用绝缘材料制作，并可在高压条件下工作； 4、通过微控制器控制电机和注射流量（注意：请使用玻璃注射器，出于安全问题考虑，不要使用一次性塑料注射器）； 5、多轴喷雾式喷嘴可以满足喷嘴调节和注液分配需求； 6、注射器：30ml，玻璃制　收集系统（包括滚筒式、平板式、XY移动平面式三种标准） 1、滚筒式：Ø 2.0mm/Ø 6.0mm/Ø 12mm/Ø 25mm/Ø 75mm/Ø 100mm×200mm共6种尺寸；　且都可安装在标准的滚筒式收集器上；　采用微处理控制的带有霍尔传感器的无刷直流电机；　速度300rpm-4000rpm，稳定可调性±1%；　基于计算机控制记录速度、持续时间；　旋转心轴可获得整齐的连续网状纳米纤维 2、平板式：320mm×100mm×2mm不锈钢板，配有接地设置，作为固定的电纺丝收集器 3、XY移动平面式：300mm×200mm×5mm不锈钢板，配有接地设置； X、Y方向运动可编程，以控制涂覆薄膜特性；　基于计算机控制记录参数，如速度、行程、运动轨迹、持续时间等　软件 1、集成式软件，控制几乎所有的电纺丝参数； 2、一个软件界面控制注射泵、XY移动平面式收集器、滚筒式收集器； 3、所有工艺参数都可保存，用以用户检索分析或重新运行； 4、采用全新的笔记本电脑或Microsoft Surface Pro预装软件用于控制产品规格运输尺寸：两托盘，1450mm×1150mm×1800mm，450kg；1200mm×1000mm×900mm，140kg