进行初步抛光

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进行初步抛光相关的耗材

  • 悬浮抛光液
    悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光,也可用于其它材料的抛光,抛光过程中根据被抛光材料的不同选用适合的抛光液进行抛光,悬浮抛光液以液态形式存在,可均匀分布于抛光盘的表面,有利于抛光过程的顺利进行。产品名称金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。3、氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光,也可用于其它材料的抛光。产品参数1、金刚石悬浮抛光液粒度:W0.25、W0.5、W1.0、W1.5、W2.5、W3.0、W3.5、W5.0、W7.0、W9.02、二氧化硅悬浮抛光液粒度:50nm3、氧化铝悬浮抛光液粒度:50nm、80nm
  • 吉致电子JEEZ碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液 slurry抛光液
    无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介:为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能,提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法:1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后,粗抛时调节PH11左右,精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法:1.贮存时应避免曝晒,贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存,防止结冰,在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格:吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快,品质好,抛光液价格亲民。
  • 光缆组件抛光/连接器抛光和检测系统
    总览Cila 2.0 连接器和电缆组件光纤抛光和检查系统可以利用精密机器设计、专业开发的抛光菜单和在线明场检查来抛光和检查所有商业和军用风格的光纤电缆组件。自动化、耐用、低运营成本和人体工程学是 Cila 的主要优势。技术参数产品特点坚固耐用、符合人体工程学的设计和构造自动化,按钮操作自动气磨功能取代了大多数其他机器的手动去毛刺操作通用、UPC型工件夹具将容纳所有商用光纤连接器,包括FC、ST、SC、LC、MU、SMA型,以及所有圆形、环保、公母MIL型连接器专用于FC/APC、SC/APC、LC/APC和MIL型斜角终端的工作支架抛光端面的明视场视频检测高产能工艺的一致性–通常是45秒的产能/UPC连接器符合行业公认的端面公差,常见一次通过率为98%下面的图表详细说明了在Cila 2.0上抛光的二十个SC连接器,然后对其进行干涉检查。左:MIL样式 右:LC/UPC、SC/UPC、FC/APC、SMA气隙

进行初步抛光相关的仪器

  • 抛光车间加湿器 400-860-5168转3155
    抛光车间加湿器 工业加湿器厂家新闻记者报道:在许多工厂企业的工作场所如手机外壳,汽车轮毂等产品的打磨抛光车间,都迫切的需要一种能够抑制粉尘的控制设备;在倡导环保低碳生产的今天,抑制粉尘已成为迫切需要解决的问题,不解决车间生产环境中存在的粉尘问题,不但违反相关的环境法规,引发粉尘爆炸等安全事故;而且还会严重影响员工的身体健康和工作状态,吸入过多的粉尘颗粒容易导致员工患有呼吸系统疾病。 在今天,加湿器的广泛应用,工业生产车间内的静电和粉尘问题已经能够完美的得到解决。正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器所产生的超细颗粒水雾,直径大概只有毛发的十分之一,如此细小的水雾颗粒有能力捕捉空气中存在的粉尘及其他尘埃粒子,通过粘附在粉尘上面,从而使得粉尘降落在地面,获得降尘的目的。 正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器产品,对于其他加湿方式的加湿器而言,具有【雾化颗粒细】 、【使用能耗低】 、【雾化能效高】,【加湿速度快】的显著优势。 正岛电器生产的ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器是采用超声波高频振荡的原理,从而达到均匀加湿的目的;具有空气加湿、净化、防静电、降温、降尘等多种用途;既可以较大空间进行均匀加湿,也可对特殊空间进行局部湿度补偿,具有较高的使用灵活性。 点击此处查看抛光车间加湿器全部新闻图片 电话: 正岛ZS系列超声波工业用加湿器生产厂家:正岛电器,产品优势区别与对比,谨防假冒!备注目前市场部分加湿器厂家仿冒正岛加湿器ZS系列型号低配置低价格在销售请客户区别以下:品 牌电 源风 机外 壳正 岛变频电源 防水等级IP68(低能耗、低故障)特制防水风机全不锈钢外壳及内胆仿冒变压器(高耗能、高故障高、维修频率高)普通风机(易烧毁)普通钣金(易锈)正岛电器郑重承诺:整机保修一年,完善售后服务体系;以质量第一,诚信至上为企业宗旨。 欢迎您来电咨询抛光车间加湿器,车间降尘加湿器,工业加湿器厂家的详细信息!工业用加湿器种类有很多,不同品牌工业用加湿器价格及应用范围也会有所不同,而我们将会为您提供全方位的售后服务和优质的解决方案。 正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器控制方式,技术参数: 控制方式加湿量1.8kg/h加湿量3kg/h加湿量6kg/h加湿量9kg/h加湿量12kg/h加湿量18kg/h开关控制ZS-06ZS-10ZS-20ZS-30ZS-40ZS-F60时序控制ZS-06SZS-10SZS-20SZS-30SZS-40SZS-F60S湿度控制ZS-06ZZS-10ZZS-20ZZS-30ZZS-40ZZS-F60Z出雾方式单管单管单管双管双管三管湿度标准适用空间(m3)适用空间(m3)适用空间(m3)适用空间(m3)适用空间(m3)适用空间(m3)50%RH以下250500100015002000250055-65%RH20040080012001600200065-75%RH1503006009001200150075-85%RH100200400600800100085-95%RH7515030045060075095%RH以上50100200300400500消耗功率180W300W600W900W1200W1500W净重15kg18kg22kg30kg38kg55kg 查看更多抛光车间加湿器,车间降尘加湿器,工业加湿器厂家的详细信息尽在:正岛电器 正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器产品六大核心配置优势: 优势一:【全不锈钢箱体】机组采用全不锈钢箱体结构,喷塑处理,美观耐用;自动进水,设有溢水保护,可自动控制水位;底部装有万向轮,可自由移动。 优势二:【集成式雾化器】机组采用集成式超音波钢化机芯,自带缺水保护装置,无机械驱动、无噪音、雾化效率高,杜绝易堵塞、维修繁锁等问题。 优势三:【IP68级防水电源】机组采用独家专利的全密封防水变频电源和全密封集成电路,防水等级为IP68(可置于水下1米深处也不会短路)。 优势四:【轴承式防水风机】机组风动装置采用防水等级为IP68的滚珠轴承式36V防水风机,具有启动快、风量大、振动小,耐腐蚀、运转稳定。 优势五:【耐碱酸陶瓷雾化片】机组选用的陶瓷雾化片适合较硬水质和耐碱酸的使用环境,且正常使用寿命长达3000-5000小时,更换方便快捷。 优势六:【高精度湿度传感器】机组配有微电脑自动控制器&日本神荣高精度湿度传感器,全自动控制面板,人机对话界面,智能化轻触式按键操作。您可能还对以下内容感兴趣...1. 洁净型湿膜加湿器(QS-9)2. 移动式水桶加湿器(CS-20Z)3. 微调型工业加湿机(ZS-20Z )4. 大型工业用加湿机(ZS-F60Z)工业加湿器厂家记者核心提示:使用正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器来降尘是一种比较经济的选择,因为高压微雾系统使用的电量有限,而且耗水量也较小,在使用过程中可以自由控制喷雾用水的水量。十分方便。在长期的使用过程中,不但节约企业资金而且符合社会所倡导的低碳环保的需求。以上关于抛光车间加湿器,车间降尘加湿器,工业加湿器厂家的最新相关新闻报道是正岛电器为大家提供的! 您可以在这里更详细地了解抛光车间加湿器的最新相关信息: 2014年8月2日,昆山中荣金属制品有限公司汽车轮毂抛光车间发生爆炸,截至8月4号为止,已造成71人死亡,近200人受伤.经初步调查,此次事故原因可能是生产过程中产生的粉尘遇明火导致爆炸。按照相关规定,粉尘车间严禁明火。那么,汽车轮毂抛光车间缘何会遭遇爆炸? 南京工业大学教授张礼敬说,当粉尘悬浮于空中,达到爆炸浓度极限时,遇到火源(包括明火、静电、摩擦等)就会发生爆炸。至于造成伤害大小,和粉尘量、空间及作业现场人员密集程度等都有关。   相关专家表示,粉尘爆炸属于工厂爆炸事故里最具危害的爆炸之一,作业车间越是密闭爆炸威力越大。早在1987年,黑龙江哈尔滨就曾发生了一起造成58死、170多人受伤的粉尘爆炸事故。   现场一位专业人士表示,粉尘爆炸需要两个条件,一是要达到一定的浓度,二是要有明火。按照规定,这种车间的安全要求极高,无论是粉尘浓度、通风还是明火方面都有严格规定。  粉尘爆炸   ●什么是粉尘爆炸?   粉尘爆炸:是由于悬在空气中的可燃粉尘燃烧而形成的高气压所造成的。粉尘是固体物质的微小颗粒,它的表面积与相同重量的块状物质相比要大得多,故容易着火。如果它悬浮在空气中,并达到一定的浓度,便形成爆炸性混合物。   七类粉尘具爆炸性:金属(如镁粉、铝粉);煤炭;粮食(如小麦、淀粉);饲料(如血粉、鱼粉);农副产品(如棉花、烟草);林产品(如纸粉、木粉);合成材料(如塑料、染料)   ●事故发生的条件   多发企业:煤矿,面粉厂,糖厂,纺织厂,硫磺厂,饲料、塑料、金属加工厂及粮库等厂矿企业。   爆炸条件:1.可燃物。可燃性粉尘以适当的浓度在空气中悬浮,形成人们常说的粉尘云;2.助燃物。有充足的空气和氧化剂;3.点火源。有火源或者强烈振动与摩擦(通常认为,易爆粉尘只要满足条件1和条件2,就意味着具备了可能发生事故的苗头)。 ●如何预防粉尘爆炸?   1.减少粉尘在空气中的浓度。采用密闭性能良好的设备,尽量减少粉尘飞散,同时要安装有效的通风除尘设备,加强清扫工作。   2.控制室内温湿度。   3.改善设备,控制火源。有粉尘爆炸危险的场所,都要采用防爆电机、防爆电灯、防爆开关。   4.应事先控制爆炸的范围。   5.要控制温度和含氧程度。凡有粉尘沉积的容器,要有降温加湿措施,必要时还可以充入惰性气体,以冲淡氧气的含量。
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  • PELCO Tripod PolisherTM 590由IBM East Fishkill实验室的研究人员设计,以准确地制备预先指定的微米尺度区域的透射电镜和扫描电镜样品。对于TEM样品,该技术已成功地用于将离子研磨时间限制在15分钟以内,并且在某些情况下,消除了离子研磨的需要。尽管这项技术是为制备半导体横截面而设计的,但它已被用于从陶瓷、复合材料、金属和地质样品等不同材料制备平面图和横截面样品。590 TEM– 用于TEM样品减薄,避免用手裸磨而容易造成的样品破碎;同时提升研磨薄度,有效减少后续离子减薄所需的制备时间590 SEM- 用于SEM样品制备,避免手磨容易造成的歪斜问题,有效提供制备精度、减少制备所需时间,从而大大提高效率590 TS– 结合590 TEM与590 SEM 双重功能,达到一机多用操作-标准法PELCO Tripod PolisherTM 590可制备用于扫描电镜和透射电镜横截面分析的样品。为此,在PELCO Tripod PolisherTM 590的带槽的L形支架上夹放一个特殊的扫描电镜样品座,将样品置于其上。首先,在15μm粘合金属的金刚石盘上进行初步研磨,再依次使用30μm到0.5μm系列尺寸的金刚石膜进行研磨和抛光,最后用二氧化硅悬浮液完成抛光过程。在研磨过程中,通过后面的两个千分尺调整抛光面。使用倒置显微镜进行定期检查,调整抛光面,直至其与感兴趣面平行。此时,可将扫描电镜样品座移至离子研磨机中进行快速研磨,以去除细微的划痕、抛光碎屑,在扫描电镜分析前得到样品表面形貌。扫描电镜样品座可直接放入扫描电镜分析。分析完成后,制作同一区域的透射电镜样品。从扫描电镜样品座上取下样品,贴在单孔TEM栅网上。拆下带槽的L形支架,将TEM栅网置于抛光机中心的圆形样品支架上。使用金刚石研磨膜(Diamond Lapping Film)对样品进行机械减薄。在此过程中,使用倒置显微镜定期检查,并通过调节千分尺使抛光面处于正确位置。样品最终抛光至1μm或更薄,然后离子研磨15分钟。操作-楔形法快速离子研磨中产生的择优减薄和形貌使不同材料间界面的研究变得困难。可通过完全消除离子研磨步骤和采用楔形技术将样品机械抛光到电子透明厚度来较少这些问题的发生。采用这种技术时,用Pyrex插件替换带槽的L型支架中的SEM样品座,将样品置于插头端面上。 在得到感兴趣面后,取下样品并置于Pyrex插件的底端。调整两个后千分尺,,回撤近样品的那个千分尺,以使样品减薄至楔形。从背侧对楔形样品顶端感兴趣特征区减薄,直到感兴趣区边缘厚约1μm。然后,使用抛光布(如MultiTex Cloth(产品编号816-12)和硅质悬浮液对样品进行最后的抛光处理,直到可以看到厚度条纹(低于几千埃)。最后将样品从Pyrex插件中取出,置于单孔TEM栅网上进行分析。 l 适用TEM分析的精细的横截面l 快速、可重现地制备TEM样品l 将离子研磨时间从数小时缩短至数分钟。l 由整个样品可制备得到大的薄区。产品编号描述59100 PELCO Tripod Polisher 590TEM 透射电镜精密样品制备59200 PELCO Tripod Polisher 590SEM 扫描电镜精密样品制备59300 PELCO Tripod Polisher 590TS 用于SEM和TEM样品制备
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  • 規格:Φ200mm Φ220mm Φ230mm Φ250mmΦ300mm带背胶,(对于无粘贴胶的织物,其规格可定做)。下面是选不带胶抛光布请参考:抛光盘直径Φ200mm (使用无粘贴后背的抛光布,其直径为240~250mm)抛光盘直径Φ230mm (使用无粘贴后背的抛光布,其直径为270mm) 抛光盘直径Φ250mm (使用无粘贴后背的抛光布,其直径为290~300mm)使用方法1.无胶普通使用时,直接放置在抛光盘上,用压圈扣住即可 2.带胶粘贴抛光盘使用,可将拋光织物直接固定在拋盘上,采用高档压敏胶制成,抛光布平整,样品不会产生倒角现象。
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  • 金相抛光时常用金相抛光粉介绍

    机械抛光的磨料通常为抛光粉和抛光膏、常用的施光粉为Al2O3、Cr2O3 ,它价格便宜,适用性强。 抛光膏一般是人造金刚石为好,抛光效果理想,但价格贵,不适合大专院校的学生实验用。笔者使用的是Al2O3抛 光粉,由于经验不足,制成悬浮液的稠稀适度和在抛光时倒入量掌握不好,加之悬浮液易使粒度不均,抛光效果也不理想,且浪费大。为了改变抛光粉的使用状况,笔者进行了一些探讨。金刚石抛光膏之所以抛光效果好,不仅是金刚石磨料硬度高,尖角锋利,还由于将粉制成膏剂后可以沾嵌在抛光织物上,有利试样的磨面接触磨料磨削,这样即可抛出理想的试样,浪费也少。根据抛光膏的原理,我们将Al2O3抛光粉配制成抛光膏。使用方法同研磨膏一样。使用效果良好。配制方法:将10ml甘油+6g 硬脂酸+60ml水混合加热完全乳化后,再加入100g Al2O3粉,不断搅拌直至冷到室温即可。还可加人少量油酸,以增加其润滑。

  • 金相抛光方法

    目的为去除金相磨面上因细磨而留下的磨痕,使之成为光滑、无痕的镜面。金相试样的抛光可分为机械抛光、电解抛光、化学抛光三类。机械抛光简便易行,应用较广。   (1)机械抛光   机械抛光是在专用的抛光机上进行的,抛光机主要是由电动机和抛光圆盘(Ф200~300mm)组成,抛光盘转速为200~600r/min以上。抛光盘上铺以细帆布、呢绒、丝绸等。抛光时在抛光盘上不断滴注抛光液。抛光液通常采用Al2O3、MgO或Cr2O3等细粉末(粒度约为0.3~1μm)在水中的悬浮液。机械抛光就是靠极细的抛光粉末与磨面间产生相对磨削和液压作用来消除磨痕的。 操作时将试样磨面均匀地压在旋转的抛光盘上,并沿盘的边缘到中心不断作径向往复运动。抛光时间一般为3~5min。抛光后的试样,其磨面应光亮无痕,且石墨或夹杂物等不应抛掉或有曳尾现象。这时,试样先用清水冲诜 ,再用无水酒精清洗磨面,最后用吹风机吹干。   (2)电解抛光   电解抛光是利用阳极腐蚀法使试样表面变得平滑光高的一种方法。将试样浸入电解液中作阳极,用铝片或不锈钢片作阴极,使试样与阴极之间保持一定距离(20~30mm),接通直流电源。当电流密度足够时,试样磨面即由于电化学作用而发生选择性溶解,从而获得光滑平整的表面。这种方法的优点是速度快,只产生纯化学的溶解作用而无机械力的影响,因此,可避免在机械抛光时可能引起的表层金属的塑性变形,从而能更确切地显示真实的金相组织。但电解抛光操作时工艺规程不易控制。   (3)化学抛光   化学抛光的实质与电解抛光相类似,也是一个表层溶解过程。它是一种将化学试剂涂在试样表面上约几秒至几分钟,依靠化学腐蚀作用使表面发生选择性溶解,从而得到光滑平整的表面的方法。

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  • 金相样品精细抛光,金相抛光布选配触手可及!
    在材料科学领域,无论教学、科研还是质量控制,金相分析是比较普遍的检测手段之一。随着现代科技的发展,对材料的需求种类越来越丰富,标准越来越高,相应的出现了一些难于制备的材料。这些材料在样品制备过程中,会出现如划痕多、塑变、浮凸、彗星拖尾、倒圆和嵌入等缺陷。这些问题,有些是可以通过合理选配金相抛光布,来解决的。可脉小编将工作中总结的一些经验分享给大家。通常情况下,在粗抛光和中等抛光过程中问题不大,基本上可以将切割产生的变形层,研磨产生的较大划痕去掉,重点是精抛阶段,如果抛光剂和抛光布不匹配,不仅影响抛光剂的性能发挥,可能还会造成抛光剂的浪费。无论从技术和经济效益上都不理想。如何选择精细抛光的金相抛光布呢?请大家看下面的表格,看懂了它,金相样品精细抛光,金相抛光布选配便触手可及!表格所列的这些金相抛光布,均来自美国QMAXIS品牌,应用于精细抛光。由人造纤维编织布、无纺布、植绒布、耐化学腐蚀合成材料等高品质的抛光织物制成,长绒、短绒、无绒等不同编织属性,配合金刚石、氧化铝、氧化硅等3μm及以下的精细抛光液使用。我们一起来看表格,从左至右:首列:应用工艺——精抛,指的就是精细抛光工艺阶段。第2列:产品描述,这一栏,每一种抛光布的材质,编织工艺,能配合的抛光剂种类和粒度,以及适合抛光的材料都做了简明扼要的说明。根据这一栏的说明,就可以给所制备的样品选配恰当的金相抛光布种类了。第3列:背衬,分为带背胶和磁性背衬两种,带背胶的是不干胶,可将塑料膜揭去后,背胶的一面直接贴敷在铁盘上进行应用,磁背衬不同于背胶的特点是粘贴和揭去更方便,更容易更换和清理铁盘表面。这一项可依据个人的习惯来选择。第4列:包装规格,有10片/包、5片/包,依据用量确定购买数量。第5-7列:5列是直径8in(203mm)的抛光布型号,6列是直径10in(254mm)的抛光布型号,7列是直径12in(305mm)的抛光布型号,可依据所使用的金相抛光机的磨盘直径选配合适的型号。美国QMAXIS金相抛光布,用于精细抛光的共有四种材质,按照表格从上到下顺序,依次为人造纤维长绒的,天鹅绒短绒的,软的带长绒的,耐化学腐蚀合成织物的。这些抛光布的特点是质地柔软,不卷边、不掉毛、不染色。根据不同材料、抛光剂种类来合理匹配,就可以分发挥抛光剂的磨削性能,从而获得理想的抛光效果。看懂了表格,明白了这些方法,金相样品精细抛光,金相抛光布选配便触手可及!你学会了吗?如有疑问,欢迎联系可脉检测工程师,获得更详细的解决方案。
  • 干货!CMP抛光垫的作用和种类
    CMP 技术是目前国际公认唯一可以提供全局平坦化的技术,它是半导体技术中的重要应用突破,而CMP抛光垫(Chemical Mechanical Polishing Pad,CMP Pad)正是这一工艺中的重要耗材。1、CMP抛光垫的作用CMP技术是使被抛光材料在化学和机械的共同作用下,材料表面达到所要求的平整度的一个工艺过程。抛光液中的化学成分与材料表面进行化学反应,形成易抛光的软化层,抛光垫和抛光液中的研磨颗粒对材料表面进行物理机械抛光将软化层除去。在CMP制程中,抛光垫的主要作用有:①使抛光液有效均匀分布至整个加工区域,且可提供新补充的抛光液进行一个抛光液循环;②从工件抛光表面除去抛光过程产生的残留物(如抛光碎屑、抛光碎片等);③传递材料去除所需的机械载荷;④维持抛光过程所需的机械和化学环境。除抛光垫的力学性能以外,其表面组织特征,如微孔形状、孔隙率、沟槽形状等,可通过影响抛光液流动和分布,来决定抛光效率和平坦性指标。抛光垫必须对抛光液具有良好的保持性,在加工时可以涵养足够的抛光液,使CMP中的机械和化学反应充分作用。为了保持抛光过程的稳定性、均匀性和可重复性,抛光垫材料的物理性质、化学性质以及表面形貌等特性,都需要保持稳定。 2、CMP 抛光垫的种类抛光垫种类可按材质结构主要有:聚合物抛光垫、无纺布抛光垫、带绒毛结构的无纺布抛光垫、复合型抛光垫。 ①聚合物抛光垫聚合物抛光垫的主要成分是发泡体固化聚氨酯,聚氨酯抛光垫具有抗撕裂强度高、耐磨性强、耐酸碱腐蚀性优异的特点,是最常用的抛光垫材料之一。图 聚氨酯抛光垫微观结构在抛光过程中,聚氨酯抛光垫表面微孔可以软化和使抛光垫表面粗糙化,并且能够将磨料颗粒保持在抛光液中,可以实现高效的平坦化加工。聚氨酯抛光垫表面的沟槽有利于抛光残渣的排出。但聚氨酯抛光垫硬度过高,抛光过程中变形小,加工过程中容易划伤芯片表面。粗抛选用发泡固化聚氨酯抛光垫。②无纺布抛光垫无纺布又称不织布,由定向的或随机的纤维构成,微观组织对抛光垫性能产生重要影响。无纺布抛光垫的原材料聚合物棉絮类纤维渗水性能好,容纳抛光液的能力强,但是其硬度较低、对材料去除率低,因此会降低抛光片平坦化效率。常用在细抛工艺中。 图 无纺布抛光垫微观结构 ③带绒毛结构的无纺布抛光垫带绒毛结构的无纺布抛光垫是以无纺布为基体,中间一层为聚合物,表层结构为多孔的绒毛结构,绒毛的长短和均匀性影响抛光效果。当抛光垫受压时,抛光液进入空洞中,压力释放时恢复原来的形状,将旧的抛光液和反应物排出,并补充新的抛光液。图 带绒毛的无纺布抛光垫微观结构图带绒毛结构的无纺布抛光垫硬度小、压缩比大、弹性好,在精抛工序中常被采用。 ④复合型抛光垫复合型抛光垫采用"上硬下软"的上下两层复合结构,兼顾平坦度和非均匀性要求。复合型抛光垫含有双重微孔结构,将目前抛光垫的回弹率大幅降低,减少了抛光垫的凹陷和提高了均匀性,解决了因抛光垫使用过程中易釉化的问题。 图 复合型抛光垫微观结构基体中加入了能溶于抛光液的高分子或无机填充物,如聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮等,这些填充物在抛光过程中溶于抛光液,形成二级微孔,延长抛光垫的使用寿命并降低缺陷率,减少抛光液的使用量。随着半导体产业的高速发展,使得 CMP 技术应用显著增加,对 CMP 抛光垫的需求量也显著增长。然而CMP抛光垫的制备技术门槛高,涉及力学、界面化学、摩擦学、高分子材料学、固体物理和机械工程学等诸多学科领域。目前,全球抛光垫生产几乎都被美日韩企业所垄断,国产替代加速。
  • QMAXIS金相抛光液,让我对样品有了期盼
    我们都知道在实验室进行金相磨抛时,想要得到一个自己满意,客户认可的样品,需要使用到多种金相磨抛耗材,在金相磨抛机上经过多次磨抛才能完成。所以,毫不夸张的说,选择什么样的金相磨抛耗材就决定了你可以收获到什么样的样品。 可脉小编今天就为大家带来金相磨抛过程中不可或缺的一款耗材,一款可以让你轻松高效且满意的磨抛耗材。它就是来自美国QMAXIS原装进口的金相抛光液,是用于高品质的金相制样抛光的,微米级、纳米级的金相抛光液。 美国QMAXIS金相抛光液,分为金刚石研磨抛光液和氧化铝/氧化硅抛光悬浮液。详情介绍如下: 金刚石抛光液:为金相制样研磨、抛光工序常用的微米级的金刚石抛光剂,手工抛光、自动抛光均适用。有单晶、多晶;水基、油基;浓缩型,常规型等多种型号可供大家选择,无毒环保,基本可以满足各种材料的研磨抛光需求。 氧化铝/氧化硅抛光悬浮液:为高品质纳米级氧化物抛光材料,包括氧化铝、氧化硅、硅-铝混悬浮液,是各种材料的抛光理想抛光剂,可以精致地再现材料微观结构。 美国QMAXIS的原装进口金相抛光液不光好用,性价比也很高。而且种类多,型号全,真正做到了可以满足各种材料的金相抛光所需。所以,有需要金相抛光液的小伙伴们赶紧来可脉检测选购吧!
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