进行初步抛光

悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光，也可用于其它材料的抛光，抛光过程中根据被抛光材料的不同选用适合的抛光液进行抛光，悬浮抛光液以液态形式存在，可均匀分布于抛光盘的表面，有利于抛光过程的顺利进行。 产品名称金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。3、氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光，也可用于其它材料的抛光。产品参数1、金刚石悬浮抛光液粒度：W0.25、W0.5、W1.0、W1.5、W2.5、W3.0、W3.5、W5.0、W7.0、W9.02、二氧化硅悬浮抛光液粒度：50nm 3、氧化铝悬浮抛光液粒度：50nm、80nm

无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。 3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

晶体抛光工具包起雾的窗片可通过红外光谱晶体抛光工具包而快速复原。该工具包可提供用于对氯化钠、溴化钾或碘化铯窗片进行重新抛光所需的各种部件，具体包括1个磨光盘、抛光用红铁粉、1块海绵、1个光学平整器、1块Selvyt布和1本用来说明再抛光步骤的小册子。晶体抛光工具包订货信息：产品描述部件编号晶体抛光工具包51001188晶体抛光工具包的替换部件产品描述部件编号Selvyt布（5件装）51001324玻璃磨盘51001325光学抛光器51001326清洁海绵（2块装）51001327装在锡罐中的抛光用红铁粉（56 g）51001328抛光器的玻璃板51001329

高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。

Akasel是一家丹麦公司，专门从事开发、生产和销售高质量的金相耗材以及最佳的金相制备方法。 凭借创始人Morten Damgaard在金相学方面的专业知识和实践经验，再加上对可持续性创新解决方案的不懈追求，不断努力，推进金相耗材的开发，提高金相样品制备的效果，创造易于执行的制备方法。经过多年的发展，这个在车库里迈出第一步的公司现在已经成功地将高品质的金相耗材以及高效的制备方法传播到全世界。 如果您为目前样品制备过程的繁琐所累，请联系我们，我们的技术专家将免费为您进行制备流程优化。抛光布Akasel的抛光布适用于金属和其他材料的抛光，是我司在丹麦的工厂专门开发和生产的，因此，我们可以保证每块抛光布的均匀性和质量。这也意味着，除了标准尺寸外，我们还可以根据要求提供任何尺寸或直径的Aka抛光布，最大可达1250 mm。Akasel的抛光布（Aka-）具有以下优点：布纤维与一种耐水、乙醇和油的聚合物阻隔层层压在一起，可保护布料免于磨损，并确保金刚石与样品表面保持良好接触，从而以最低的成本完成快速制备。低粘性的胶将抛光布牢牢地保持在盘上，同时易于清除，且不会在制备盘上留下任何残留物用于磁性支持盘的Mag磁性抛光布与上述抛光布相同，但层压在钢盘上。这些钢制圆盘配有3个卡口，便于拆卸。我们的抛光布种类繁多，涵盖金刚石抛光、最终金刚石抛光和氧化物抛光，可为所有材料实现出色的制备效果。Plaran是一种编织尼龙cloth，可用于软质材料的精细研磨和硬质材料的抛光。建议与15-3 μm的金刚石悬浮液一起使用。Paran-S是一种无纺涤纶cloth，可用于软质材料的精细研磨和抛光硬质材料。建议与15 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。丝绸是一种100%编织的丝绸抛光布，可用于黑色金属的精细研磨以及抛光，包括对较硬材料和涂层的最终抛光和氧化物抛光。建议与9 – 0.25 μm的金刚石悬浮液一起使用。Ramda是一种醋酸编织cloth，可用于所有材料的抛光。它比Daran硬。建议与3 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Daran是一种醋酸编织cloth，可用于所有材料的抛光。它比Ramda柔软，也可用于氧化物抛光。建议与6 – 0.25 μm的金刚石悬浮液一起使用。Moran-U是一种100%羊毛编织布，可用于有色金属和黑色金属的抛光和最终抛光。建议与6 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。Moran是一种100%羊毛编织布，可用于有色金属和黑色金属的抛光。建议与6 – 3 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Plural是一种植绒粘布，可快速地一步抛光钢铁、烧结碳化物和其他硬质材料。它还可以用于抛光未经镶嵌的样品。建议与3 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。Napal是一种植绒粘布，可对所有材料进行最终抛光，包括氧化物抛光。建议与1 – 0.025 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Chemal是一种合成泡沫布，与氧化物悬浮液一起，用于对所有材料进行化学/机械最终抛光。 常见问题解答：如何清除制备盘上抛光布的胶水残留物？我们的Aka-polishing cloths配有低粘性胶水，不会在制备盘上留下任何残留物如果抛光布脏了，可以清洗吗？如果您在抛光后遇到划痕，而这在实际的步骤中并不常见，那么这可能是抛光布被某些外来颗粒或较早之前的步骤中遗留的磨料颗粒污染的迹象。对于非常细的颗粒（1 μm或更细），清洗抛光cloth几乎是不可能的，但是对于较粗的颗粒（3 μm），则应该是可行的。您可以利用指甲刷或类似工具，在流动的温水下仔细刷洗抛光布，将所有碎屑清除掉。清洗后，利用机器旋转甩干抛光cloth。当抛光cloth完全干燥后，您可以再次使用它，将它视为新布，并进行所有的涂底处理。如果污染物来自较早的制备步骤，则必须确保样品在从一个步骤到下一个步骤时是绝对干净的。您还需要确保样品已正确镶嵌（使用冷镶嵌环氧树脂），以免碎屑夹在树脂和样品之间的镶嵌间隙中。

金相抛光布是金相制抛光工序最重要的一步，其金相组织呈现的清晰度与抛光息息相关，抛光质量的好坏与抛光布也有紧密的关系。金相抛光布规格有φ200mm；φ220mm；φ230mm；φ250mm及其它定制规格；带背胶或不带背胶。金相抛光布规格有：帆布、平绒、丝绒、真丝、丝绸、呢绒、法兰绒、精抛绒等。

抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类：

专用于岩石薄片抛光时使用、其配合抛光料一齐应用效果更佳，抛光布质地结实、外表美观大方，结实耐用，适用于各种岩石薄片制备时使用，一包10张，各种尺寸抛光布：分常规性、粘贴性、磁吸性。直径有Q200、Q250、Q300

高效金刚石喷雾抛光剂金刚石是金相制样的最佳磨料，本产品广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、光学玻璃、硬质合金及淬火钢材的高光亮度研磨抛光。用于金相抛光时，更显其独特的优越性，经研磨抛光后的试样更真实地显示其金相组织。不同的材料研磨抛光可选用不同粒度的产品。用于抛磨金相试样中铸铁中石墨，钢铁中夹杂，钢铁中氧化层、渗碳层、涂层时能更真实地显示其金相组织 使用方法:使用前摇动喷雾剂罐，使其磨料充分均匀。然后开启喷雾罐瓶盖，手持喷雾剂罐、倒置轻压喷射至抛光织物上，连喷3-5秒即可进行抛光。粒度：w0.25,w0.5,w1,w1.5,w2.5,w3.5,w5,w7,w10,w14,w20,w28,w40(每罐280克,350毫升)

总览Cila 2.0 连接器和电缆组件光纤抛光和检查系统可以利用精密机器设计、专业开发的抛光菜单和在线明场检查来抛光和检查所有商业和军用风格的光纤电缆组件。自动化、耐用、低运营成本和人体工程学是 Cila 的主要优势。 技术参数产品特点坚固耐用、符合人体工程学的设计和构造自动化，按钮操作自动气磨功能取代了大多数其他机器的手动去毛刺操作通用、UPC型工件夹具将容纳所有商用光纤连接器，包括FC、ST、SC、LC、MU、SMA型，以及所有圆形、环保、公母MIL型连接器专用于FC/APC、SC/APC、LC/APC和MIL型斜角终端的工作支架抛光端面的明视场视频检测高产能工艺的一致性–通常是45秒的产能/UPC连接器符合行业公认的端面公差，常见一次通过率为98%下面的图表详细说明了在Cila 2.0上抛光的二十个SC连接器，然后对其进行干涉检查。左:MIL样式 右:LC/UPC、SC/UPC、FC/APC、SMA气隙

AKO金属抛光膏不含硅树脂，适于清洁EM零件。AKO在工业领域和家用等领域也得到了广泛地使用，如挤出机，滚筒等工业机械部件。AKO金属抛光膏可以用来抛光和保养基本上所有材料的金属部件，如不锈钢、镀铬、铝、铜、黄铜、银(不使用油漆或电镀金属上)。 Wenol金属抛光膏适用于抛光所有的金属表面。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。 订购信息：货号产品名称规格71830AKO Metal Polish,AKO金属抛光膏100ml71832Wenol Metal Polish，WENOL金属抛光膏100ml

金相抛光织物适用于各种金相试样及仪器、仪表等零件的精密抛光。精抛后能达到光洁度▽8-▽12。选对抛光织物与相对应的磨料粒度对称，是抛出理想光洁度的关键。抛光织物由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的优质织物为材料。

进口抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步， 新一代抛光布更专业、更耐用和具有更好的制样效果。 本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广国产抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步，新一代抛光布更专业、 更耐用和更好的制样效果。本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广。

ALLIED抛光布（Polishing cloths） 美国Allied High Tech公司生产的系列抛光布分为三种类型，分别为编织布、无纺布和植绒抛光布，可用于所有材料的精细或粗研磨、半成品和成品的抛光。提供标准研磨盘上使用粘性背胶抛光布。1.编织抛光布（woven polishing cloths）:具有低应压力的特点，施加有效的压力即可达到最大化的材料去除率和平面度。交叉式的编织方法是精细或粗研磨、半成品抛光的理想选择.常用到的是Nylon编织抛光布，与15-3um金刚石配合使用，对于大部分材料抛光都能够达到良好的平整度和边缘保持性。2.无纺抛光布（non-woven polishing cloths）:对于柔软的表面也具有低应压力的特点，更适合软的非金属、铁合金和高分子材料/塑胶的半成品和成品抛光。常用到的是Kempad无纺抛光布，与9-1微米的金刚石配合使用，提供良好的去除率和平整度。3.植绒抛光布（napped (flocked) polishing cloths）:用不同长度的纤维和刚性布料制作而成，像植绒的“刷子”一样对成品进行抛光清理以及对半成品和粗抛样品的划痕进行清除抛光。Glenco植绒抛光布，硬绒合成人造纤维，与3-1微米金刚石或氧化铝配合，可以提供卓越的中间或最终抛光效果，尤其用于抛光软性金属和材料。Spec-Cloth植绒抛光布，柔软的中绒合成纤维，与1-0.25微米的金刚石或氧化铝配合使用，可用于各种材料的普通抛光。Final B植绒抛光布，柔软的低绒人造纤维，与3-0.25微米的金刚石或氧化铝配合使用，提供卓越的完成度和平整度，尤其是坚硬材料、含铁材料和玻璃货号产品名称规格50314-05Nylon编织抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50310-05Kempad无纺抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50318-05Glenco植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50320-05Spec-Cloth植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50344-05Final B植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张 价格仅供参考，详情请致电010-52571502

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的最后精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的最后精抛。技术参数1、金刚石悬浮抛光液粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2、W3、W5、W7、W9、W14、W20、W28、W40、W602、二氧化硅悬浮抛光液粒度：50nm3、氧化铝悬浮抛光液粒度：50nm、80nm

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

Akasel是一家丹麦公司，专门从事开发、生产和销售高质量的金相耗材以及最佳的金相制备方法。 凭借创始人Morten Damgaard在金相学方面的专业知识和实践经验，再加上对可持续性创新解决方案的不懈追求，不断努力，推进金相耗材的开发，提高金相样品制备的效果，创造易于执行的制备方法。经过多年的发展，这个在车库里迈出第一步的公司现在已经成功地将高品质的金相耗材以及高效的制备方法传播到全世界。 如果您为目前样品制备过程的繁琐所累，请联系我们，我们的技术专家将免费为您进行制备流程优化。金刚石抛光膏多晶和单晶金刚石；15 μm至0.25 μm 金刚石抛光膏主要用于手工样品制备，或在使用金刚石悬浮液和金刚石喷雾之前打底新的抛光布。Aka-Paste多晶和Aka-Paste单晶金刚石抛光膏易于分配，均匀且与水、油、甘油和酒精相容。它们最多含0.1%的水，非常适合水敏感材料的制备。可帮助您以最短时间完成样品制备。所有的Akasel diamond polishing pastes均为高度浓缩产品，其金刚石含量为500 ct/l（克拉/升）。常见问题解答：金刚石抛光膏只能用于金相制备吗？我们的金刚石抛光膏具有很高的金刚石浓度以及高粘度，所以它也非常适合用于其他工业用途，例如精密工具零件的研磨或抛光等。在抛光布上涂抹金刚石抛光膏的最佳方法是什么?使用注射器在直径为300 mm的盘片上分大概10个点涂抹少量的约5 mm长的金刚石抛光膏，盘片较小的则少涂一些。使用少许润滑剂，将金刚石抛光膏擦入布中。涂完就可以投入使用了。什么时候使用金刚石抛光膏会更有优势？当需要尽可能高的金刚石浓度时，便可以选用金刚石抛光膏。

UNIPOL抛光膏配方与WenolL抛光膏相似，被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPOL抛光膏配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPOL抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPOL抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPOL抛光膏应用于铝等软金属。

UNIPOL抛光膏配方与WenolL抛光膏相似，被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPOL抛光膏配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPOL抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPOL抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPOL抛光膏应用于铝等软金属。

磨光用抛光布：与金刚石悬浮液配合使用、材料去除率高、边缘保护好。 抛光用抛光布：与氧化物悬浮液配合使用，无材料去除、表面应力划痕去除。

抛光材料为美国标乐公司抛光材料一瓶1.0 um - 氧化铝粉，一瓶0.3 um -氧化铝粉，1大瓶 0.05 um -氧化铝粉，2块固定抛光布用的玻璃板，5片73mm直径1200金相砂纸（灰色），5片73mm直径尼龙抛光布（白色）和10片73mm直径Microcloth抛光布(咖啡色)。

AKO金属抛光膏不含硅树脂，适于清洁EM零件。AKO在工业领域和家用等领域也得到了广泛地使用，如挤出机，滚筒等工业机械部件。AKO金属抛光膏可以用来抛光和保养基本上所有材料的金属部件，如不锈钢、镀铬、铝、铜、黄铜、银(不使用油漆或电镀金属上)。 Wenol金属抛光膏适用于抛光所有的金属表面。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。 订购信息：货号产品名称规格71830AKO Metal Polish,AKO金属抛光膏100ml71832Wenol Metal Polish，WENOL金属抛光膏100ml

使用Specac窗片抛光工具包让您的窗片保持最佳状态！ 窗片抛光工具包包含了所有清理和抛光红外传输窗片必不可少的工具和材料。 简单的抛光既有效又经济。 包括完整说明和所有易损件的更换。 订购信息 04000：窗片抛光工具套件 窗片抛光工具包括下面列出的项目（每个项目可单独订购） 04030：光学平台(玻璃平板) 04070：玻璃抛光圈抛光绒布 04010：抛光绒布（5片） 04020：平滑圈研磨纸 04090：备用研磨纸（平滑圈用） 04040：聚乙烯瓶（2支） 04050：清洁海绵 04060：红铁粉（75g） 04080：非粘性绒布平条（2片） 04095：毛刷（2把）

MetaDi钻石悬浮液和浆料是高质量的单晶和多晶金刚石抛光产品，可提供可重复的性能并提供出色的样品质量。 严格控制Buehler的MetaDi钻石悬浮抛光剂和糊剂产品，以防止粒径或浓度出现任何偏差。 这样可确保每个样品的抛光结果均具有可重现性，并具有高质量的表面光洁度。 基于微米尺寸的颜色编码的钻石悬浮液和糊剂有助于防止抛光表面上的交叉污染。 由于对水的敏感性或钻石的嵌入，某些材料与传统的水基悬浮液不兼容。 与水敏感的材料一起使用时，油基MetaDi单晶金刚石悬浮液以及MetaDi金刚石浆料提供了多种选择。最终抛光悬浮液旨在去除表面变形的最后一层，并准备样品进行分析。 肉眼可能看不到变形，但是对于某些标本分析技术，必须将其消除。金刚石抛光金刚石悬浮液及研磨膏 规格产品金刚石类型材料去除表面变形应用MetaDi Supreme 多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小最快的材料去除和最小的表面变形MetaDi Supreme 无色多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小适用于容易被染色且会影响图像分析的材料MetaDi 单晶金刚石悬浮液单晶较好小对于大多数材料来所去除效果较好MetaDi 油基单晶金刚石悬浮液单晶较好小适用于水敏感的材料MetaDi Suspension 稀释单晶金刚石悬浮液单晶较好小与自动化系统一起使用时，悬浮液和增量液组合可保持一致性MetaDi 超多晶研磨膏多晶较好极小适用于需要高效去除且容易嵌入金刚石颗粒的软材料MetaDi 单晶研磨膏 (天然)单晶好小高浓度的金刚石研磨膏适用于容易嵌入金刚石颗粒的材料MetaDi II 单晶研磨膏 (合成)单晶好小中等高浓度的金刚石研磨膏适用于非常容易嵌入金刚石颗粒的材料最终抛光产品类型范围应用MasterPrep 氧化铝氧化铝终抛液0.05µ m~8.5pH较适合铸铁、钢、不锈钢、铜、聚合物、矿物质、微电子、贵金属MasterMet 硅胶硅胶终抛液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterMet 2 非结晶硅胶非结晶硅胶终抛液适用于抛光液配送系统0.02µ m~10.5pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterPolish 终抛混合高浓度氧化硅和硅胶的终抛液0.05µ m~9pH含有极少量水分，适用于水敏感材料，适用于大多数镁合金、钴合金、大多数铁合金、镍和金属基复合材料MasterPolish 2 终抛氧化铁抛光液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，适用于蓝宝石、玻璃、氧化铝、氮化硅和金属/陶瓷复合材料MicroPolish Alumina 氧化铝团聚氧化铝终抛液与相同颗粒尺寸的其他氧化铝终抛液相比，具有更高的去除率颗粒尺寸可选： 0.05µ m、0.3µ m、 1µ m适用于镁、铅及其合金，提供抛光液和抛光粉两种选择MicroPolish II Alumina 氧化铝高质量的非团聚氧化铝终抛液比结晶氧化铝终抛液可得到更高质量的表面颗粒尺寸可选：0.3µ m、 1µ m适用于大多数矿物和金属，提供抛光液和抛光粉两种选择

名称型号规格价格（元） 电极抛光材料（美国进口） 120抛光材料整套9001.0微米抛光粉（4.5g）1000.3微米抛光粉（4.5g）1000.05微米抛光粉（17g）150抛光绒布（张）40尼龙抛光布（张）40金相砂纸（张）15

为消除变形并获得高反射表面，需要具有不同弹力的不同磨料和抛光布。使用与设备配套的 Struers 耗材是确保优异抛光性能的理想方式。这是因为每种机器和耗材被设计成适于配合使用，以控制抛光过程的所有参数，从而帮助您充分利用您的投资。 抛光布、金刚砂粒度和润滑剂的选择取决于要抛光的材料。无论您对氧化物抛光还是金刚砂抛光感兴趣，Struers始终能够满足您的需求。 DiaPro是专为实现超高性能和效率而开发的一系列金刚石悬浮液，可将制备时间平均缩短30%。每种DiaPro悬浮液针对特定表面开发并且经过优化，可提供出色的平整度、边缘保护和再现性。 只有Struers耗材才能充分发挥Struers设备的优势。

Wenol金属抛光膏广泛应用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统及日常的实验室应用。Wenol为油基，不含硅脂，载液可溶解大多数碳氢化合物；用于清洁抛光如不锈钢等硬金属表面，不建议用于铝等软金属。

电极抛光材料 提供： 一小瓶的0.05 μm氧化铝粉，一小瓶0.3 μm氧化铝粉，一小瓶1.0 μm氧化铝粉，1张直径200mm的尼龙抛光布（白色），1张直径200mm的绒面抛光布（咖啡色），1张直径200mm 1200目-4000 # 金相砂纸（灰色）