激光镀膜设备

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激光镀膜设备相关的厂商

  • 深圳市威斯利激光设备有限公司
    深圳市威斯利激光设备有限公司，最早成立于2010年，一直从事激光在广告，轻加工行业等领域的研究与制造。公司集研发、生产、销售、维修服务为一体，专业制造整套型号的光纤激光打标机，紫外激光打标机、绿光激光内雕机、CO2激光打标机、CO2激光贺卡切割机、CO2激光切割机、CO2激光雕刻机、激光焊接机等系列产品。 威斯利激光系列产品已被广泛应用于广告行业、工艺礼品、建筑模型、电子、装饰装潢、服装、标识、印章等多种行业。 到目前为止，公司产品已通过国家ISO9001、欧盟CE、美国FDA等认证；设备性能稳定，操作维护简便，在国内同类产品中占有很高的性价比，深得广大客户的青睐和好评。 产品远销俄罗斯、加拿大、美国、墨西哥、西班牙、巴西、英国、波兰、挪威、意大利、摩洛哥、伊朗、马来西亚、印度、澳大利亚、新西兰等100多个国家。---西门子，DOOSANS，SGD Pharma的供应商。 威斯利激光公司成员：是一支年轻化、专业化的技术团队。威斯利激光公司理念：智，信，锐意，敢担当！威斯利激光公司愿景：力争做中国最好的激光打标、激光雕刻、激光切割、焊接工艺解决方案供应商。让客户开心！致力于为全球客户提供最优质的激光设备！
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  • 深圳市新铭升激光设备有限公司
    深圳市新铭升激光设备有限公司是一家致力于为全球用户提供激光设备及激光智能配备解决方案的高新技术企业。深圳市新铭升激光设备有限公司地处深圳市坪地街道宝地工业区11号，公司占地面积5000多平方米，自2007年成立以来，坚持“创新驱动、质量为先、人才为本”的原则，秉持顾客至上、持续改善、品质卓越的质量方针，目前在激光打标机、激光切割机、激光雕刻机、激光焊接机、激光智能配备解决方案等范畴取得长足进展。 深圳市新铭升激光设备有限公司生产的激光设备及激光智能配备解决方案目前广泛应用在精细器械、汽车配件、厨卫五金、电子电器、智能家居、手机部件、仪器仪表、照明灯具、五金工具、卫浴洁具、模具、医疗器械、IT数码金属外壳、广告装饰、珠宝首饰等行业。拥有广泛的客户典范。
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  • 355nm紫外激光_皮秒/飞秒激光器_武汉华日激光
    华日激光坚持以市场需求引领新产品的研发，为客户提供纳秒、皮秒、飞秒等多种脉冲宽度，红外、绿光、紫外、深紫外等多种波长的激光器产品，所有产品均具备自主产权，同时产品通过欧盟CE质量安全认证，完全满足严苛条件下的工业加工要求，是超精细加工领域的理想光源。同时通过与全球高端激光设备制造商在电子电路、硬脆材料、半导体、新能源、生命科学等领域开展紧密合作，为用户提供全面的激光技术解决方案。
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激光镀膜设备相关的仪器

  • SURFACE超高真空PLD激光镀膜系统 400-860-5168转1679
    自从1993年起SURFACE公司就从事脉冲激光沉积镀膜系统（以下简称PLD）的研发和制造工作，在这期间SURFACE公司不但向市场提供了标准的PLD系统，而且也提供专门为客户订制的PLD系统。经过了这么多年的发展，SURFACE公司开发出许多能够满足客户需求的产品和技术。以下就是由SURFACE公司独家提供的这些产品和技术的简要介绍： 一． 基本资料 1.、SURFACE基底运载系统 对机械手来说，热均匀和热隔离的有效性是十分重要的。这其中，精确的热电偶是关键的质量因素。 （图上的文字） SURFACE常规电阻1英寸基底运载器 嵌入式Omicron原子力基底夹 热电偶直接嵌入基底运载系统，30mm的基底中间区域 基底和银酱一起安装在激光切边运载器上。运载系统可转换并直接嵌入热电偶（请见另一页）这保证绝大多数的温度测量。 2、靶切换系统 超高真空技术需要反应釜通过一个负载锁的腔体进行相互作用。从一开始，SURFACE就意识到这一点，并设计了一个靶转盘来实现这一需求。 多层盖板避免了强热的基底转移到靶材。所有靶材是受保护，以防止交叉污染。盖板能够非常容易地被更换，无需工具。靶材将通过磁场操纵或位于中央转移腔的内部转移操纵手被转移。该耦合和靶材的精确检索是自动完成的。靶转盘和切换动力保证了均质烧蚀过程。 3、模块化的系统概念 SURFACE公司多年来一直从事于研发超高真空材料科学系统。在大多数情况下，一个系统的工作负载起始于一个单一的过程控制，往往过了一段时间以后，客户的需求会增多。为了通过附加的过程控制提升整套设备的功能，SURFACE公司认识到需要用完整的模块化概念来解决这个问题。 从向市场提供单一的腔体加上负载锁，一直到提供更多的扩展，而不需要冒任何将来转换而产生的风险。 可以方便客户的细节： 1、 转换过程有照相机支持 从开始我们的束工具生产，我们就决心让使用设备变得更加简便。最早我们使用了一个独立的监视器，连接一台独立的BW照相机。为了实现自动化，增加了第二个TTL监视器来观测实时的彩色照片和相关的其他过程数据。尤其是当我们的激光加热系统应用以后，另外一台显示器对显示实际得图表和数据非常有用。毫无疑问，所有的照片都能够被实时地存储在过程控制系统的硬盘驱动器上。 2、 整套系统的紧凑安装 实验室里的空间是昂贵的，所以任何空间都必须被非常有效地使用。SURFACE公司从一开始就设计将激光放置在控制箱的顶部，并可将其他的激光气舱加入这一过程。 将气舱整合到这个配置里面将使安装变得非常容易和迅速。 这种节约成本的设计克服了PLD安装之前昂贵的本地安装&mdash &mdash 所有项目都被包括在SURFACE的交货中。 气舱通过一个大的方便的管子与客户端的排气设备相连接。 3、 SURFACE公司的交货与交钥匙工程 这方面包括从SURFACE公司将系统直接运来（这些设备的生产基地都是在西欧及周边地区）。运输到客户的卸载地点是关键。但SURFACE公司帮助，甚至客户实验室的建设。客户只需要提供当地的交通和吊车来将货物运送到设备使用地。所有的运输路线在采购决定之前都会被考察到。 4、 SURFACE公司支持S3处理软件。 S3处理软件提供一个全新的立体支持：一键式操作，客户可以直接与SURFACE的技术支持团队进行沟通。软件使用中的问题和操作中的问题经常会发生，通过完全的远程操控，技术支持人员可以为客户提供设备使用各个阶段的帮助。这将防止一些不必要的困难的发生，并为客户提供快捷的响应。这个支持工具在SURFACE系统中是免费的，客户只需提供正确的网络链接。
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    厂商： 上海纳腾仪器有限公司
    品牌： 未知
    型号： PLD-Workstation
    价格： 500万 - 10,000万元
  • GSL-450-PLD激光镀膜设备 400-860-5168转1374
    产品简介：用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作及清理方便的优点,是一款实验室制备材料粉末的理想设备。 产品型号GSL-450-PLD（Pulsed Laser Deposition）安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机，水温小于25℃，水压0.25-0.4Mpa，流量高于12 l/min（加注纯净水或者去离子水）；2、电：AC380V 50Hz，功率大于10KW，波动范围：小于±6％，必须有良好接地（对地电阻小于2Ω）；3、气：设备腔室内需充注氮/氩气（纯度99.99%以上），需自备氮/氩气气瓶（自带?10mm双卡套接头）及减压阀4、场地面积：设备尺寸2000mm×2000mm，承重1000kg以上5、通风装置：需要（外排废气管道）；主要特点1、由于激光光子能量很高，可溅射制备很多困难的镀层：如高温超导薄膜，陶瓷氧化物、氮化物薄膜，多层金属薄膜等；2、体积小，操作简便可以非常容易的连续融化多个材料，实现多层膜制备；3、可以通过控制激光能量和脉冲数，精密的控制膜厚；4、易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性；5、沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；6、工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；技术参数1、极限真空度：≤6.67x10-5 Pa (经烘烤除气后)；2、系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；3、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，20分钟可达到5x10-3 Pa；基片参数1、基片尺寸：可放置φ2″基片（带挡板）；2、基片加热最高温度 800℃±1℃，由热电偶闭环反馈控制，采用抗氧化材料作加热器；3、基片可连续回转，转速5～60转/分，电机驱动磁耦合机构控制；4、基片与靶台之间距离30～90mm可调；转靶参数1、每次可以装四块靶材，靶材尺寸：φ1″或φ2″；2、每块靶材可实现自转，转速5～60转/分，连续可调 ；3、靶通过电机控制换位，靶材屏蔽罩将4块靶材屏蔽，每次只有一个靶材露出溅射成膜，以避免靶材之间的交叉污染；真空腔体1、球型真空室尺寸Ф450mm，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；2、真空腔体带RF150活开门，方便取、放样品；3、RF100法兰2套（1套紫外石英玻璃窗口用于激光器，另1套盲板红外石英玻璃窗口用于测温可选配）；4、RF100光学玻璃窗口1套（用于观察）；产品规格整机尺寸：1800mm×1000mm×1600mm；标准配件1电源控制系统1套2真空获得机组1套3真空测量1套
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    厂商： 沈阳科晶自动化设备有限公司
    品牌： 沈阳科晶/KJ GROUP
    型号： GSL-450-PLD
    价格： 面议
  • GSL-300-PLD激光镀膜设备 400-860-5168转1374
    产品简介：用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作及清理方便的优点,是一款实验室制备材料粉末的理想设备。 产品型号GSL-300-PLD（Pulsed Laser Deposition）安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机，水温小于25℃，水压0.25-0.4Mpa，流量高于12 l/min（加注纯净水或者去离子水）；2、电：AC380V 50Hz，功率大于10KW，波动范围：小于±6％，必须有良好接地（对地电阻小于2Ω）；3、气：设备腔室内需充注氮/氩气（纯度99.99%以上），需自备氮/氩气气瓶（自带?10mm双卡套接头）及减压阀4、场地面积：设备尺寸2000mm×2000mm，承重1000kg以上5、通风装置：需要（外排废气管道）；主要特点1、由于激光光子能量很高，可溅射制备很多困难的镀层：如高温超导薄膜，陶瓷氧化物、氮化物薄膜，多层金属薄膜等；2、体积小，操作简便可以非常容易的连续融化多个材料，实现多层膜制备；3、可以通过控制激光能量和脉冲数，精密的控制膜厚；4、易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性；5、沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；6、工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；技术参数1、极限真空度：≤6.67x10-5Pa (经烘烤除气后)；2、系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；3、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，20分钟可达到5x10-3 Pa；基片参数1、基片尺寸：可放置φ1″基片（带挡板）；2、基片加热最高温度 800℃±1℃，由热电偶闭环反馈控制，采用抗氧化材料作加热器；3、基片可连续回转，转速5～60转/分，电机驱动磁耦合机构控制；4、基片与靶台之间距离30～90mm可调；转靶参数1、每次可以装四块靶材，靶材尺寸：φ1″；2、每块靶材可实现自转，转速5～60转/分，连续可调 ；3、靶通过电机控制换位，靶材屏蔽罩将4块靶材屏蔽，每次只有一个靶材露出溅射成膜，以避免靶材之间的交叉污染；真空腔体1、球型真空室尺寸Ф300mm，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；2、真空腔体带RF150活开门，方便取、放样品；3、RF63法兰2套（1套紫外石英玻璃窗口用于激光器，另1套盲板红外石英玻璃窗口用于测温可选配）；4、RF63光学玻璃窗口1套（用于观察）；产品规格整机尺寸：1800mm×1000mm×1600mm；标准配件1电源控制系统1套2真空获得机组1套3真空测量1套
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    厂商： 沈阳科晶自动化设备有限公司
    品牌： 沈阳科晶/KJ GROUP
    型号： GSL-300-PLD
    价格： 面议
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激光镀膜设备相关的资讯

  • 国产突破！松山湖材料实验室成功研制先进激光镀膜设备
    超导技术被誉为21世纪最具有经济战略意义的新兴技术之一，超导体所具备的“零电阻”和“完全抗磁”这两大神奇特性，为人们带来了巨大想象空间。例如利用超导体电阻为零的特性来进行电力输送，可以大大减少线路损耗，实现超远距离的大容量电力输送；利用它完全的磁抗性可以制造磁悬浮列车、电磁弹射装置等。“超导最近在媒体出现的频率比较高。比如时下热门的量子计算，涉及到超导量子比特；被称为‘人造太阳’的全超导托卡马克核聚变实验装置，也应用了超导磁体。”中国高温超导研究奠基人之一、国家最高科学技术奖得主赵忠贤院士介绍道，超导距离实际生活最近的应用，则是医院常见的核磁共振成像中的超导磁体。超导薄膜技术是超导技术发展的重要方向之一。日前，由赵忠贤院士倡导建立并担任顾问的研究团队，面对国外禁运，通过技术集成创新，成功研制出基于国产部件的“三光束脉冲激光共沉积镀膜系统”，并制备出大尺寸双面钇钡铜氧（YBCO）超导单晶薄膜，为我国制备高品质、应用型超导薄膜产品技术带来新突破。关键设备买不来，怎么办？在东莞松山湖科学城松山湖材料实验室“实用超导薄膜研究团队”的一间实验室内，一组银白色装置占据了房间一角，三台激光器宛如手术台上的三支机械臂，将一个带有观测窗的球形操作台围在中间，绿色和紫色的光束不时闪烁。这个装置就是该团队近期研发成功的“三光束脉冲激光共沉积镀膜系统”。该设备基于国产部件实现技术集成创新，包括采用国产小型固态脉冲激光器实现多光束共沉积、激光器与光路系统模块化整体位移、自主研发控制软件实现操作智能化等。利用这台设备，该团队还成功制备出2英寸双面YBCO超导单晶薄膜，将脉冲激光沉积技术制备高品质应用型薄膜产品，推向了一个新的高度。该团队负责人金魁研究员表示，大尺寸双面钇钡铜氧（YBCO）单晶薄膜，是设计高温超导薄膜器件的良好载体，而高温超导薄膜器件则是开发未来通信技术和超高性能雷达探测器的重要部件，具有十分重要的应用前景。然而，能够制备该类薄膜的先进设备，此前被德日美等少数国家掌握，一直以来对我国封锁核心技术，并且大尺寸薄膜制备设备近期也已对我国禁运，导致我国高品质应用型“薄膜”和“镀膜设备”核心技术受制于人。金魁坦言，按照最初构想，是希望直接从国外购买一套先进的大尺寸镀膜设备，之后按团队的需求改造，然而却未能如愿。“买小尺寸薄膜制备设备回来，做出的样品主要是用于基础研究，找规律、写论文，国外公司同意卖给我们；但要买能投入实用的大尺寸薄膜制备设备，他们就拒绝了。”金魁表示，另一方面，国外的设备只能实现单面薄膜的制备，无法满足团队需求。关键设备买不来，怎么办？在赵忠贤院士的鼓励和指导下，团队最终下定决心走上了自研之路。令他们感到高兴的是，团队产出成果的进度超过了预期。在国外禁运的情况下，团队仅用一年多时间就取得了成功。“积小胜为大胜”“我们用激光去打真空腔里面的靶材，由于瞬时高温，靶材表面的成分会变成等离子体向外喷射，之后接触高温衬底，外延沉积完成镀膜，过程就像是烙饼一样。”该设备主要的设计和搭建者冯中沛博士是团队里的一名年轻人，设备成功运转，让他格外兴奋。过去一年多，冯中沛和同事们几乎每天都围着这台设备转。在工作室紧邻该装置的墙边有一面白板，上面写满了与装置搭建相关的事项。一年时间里，大到整个装置的设计装配，小到一根螺丝钉的定制，整个团队“挂图作战”，环环推进，最终才获得了成功。“这台设备的功能可以扩展，也可以为超导以外的材料进行镀膜。就像买了一口锅，一开始只用来炒菜，后面还可以用来蒸煮。”冯中沛介绍道。令整个团队感慨的是，直到他们研制出成本更低、性能更优的设备时，从日本采购的小尺寸镀膜设备甚至因为疫情，还没有厂家工程师前来拆箱。“这件事虽然谈不上伟大，但是它给了我们很大信心。遇到‘卡脖子’难题，逼着自己进行自主研制和创新，最终把一条新的技术路线走通了。”赵忠贤表示，假如全国几十万、上百万的科研团队，能有十分之一像这样专注去做一件事，我们跟国外的科技竞争就能握有更大的主动权。“积小胜为大胜，变成大胜就有了长板，有了竞争优势，国外还怎么卡我们脖子？”他说道。除了团队自身的努力和经验积累，赵忠贤还特别提到，松山湖科学城给予的宽松科研环境与合理的评价体系，为这一成果取得提供了重要土壤。在他看来，松山湖材料实验室一方面注重研究实效，不以论文论英雄，让科研人员集中精力搞攻关；另一方面，充分信任科学家，原本购置设备的钱可以灵活用于自主研发，“允许用打酱油的钱去买醋”，赋予科学家自主权。推动超导技术成果转化能否制备出大尺寸、高质量的超导薄膜，关系诸多关键产业的发展前景。以超导薄膜为基础的数字电路，相比半导体材料做的数字电路速度更快、损耗更小、容量更大；用超导薄膜制成的超导量子干涉器，可以探测比人脑磁场弱几千倍的磁场，用收集来的磁信号进行分析，能够确定矿源、预报地震等。而超导薄膜制成的天线、谐振器、滤波器等微波通讯器件，具有常规材料（如金、银等）无法比拟的高灵敏度。此外超导薄膜在大型粒子加速器中也有着广泛的应用。粗略估计，国内外计划建设的各类加速器项目，对超导薄膜谐振腔的需求量将超过10000个。面对这一趋势，与超导基础研究打了大半辈子交道的学界泰斗，开始将工作重心放在推动超导技术成果转化与实际应用上来。2017年底，广东启动首批四家省实验室建设，赵忠贤接受邀请，出任松山湖材料实验室学术委员会主任一职，从北京来到了东莞松山湖。在他倡议和亲自指导推动下，“实用超导薄膜研究团队”在松山湖材料实验室迅速建立起来。除赵忠贤院士作为团队顾问之外，担任团队负责人的金魁研究员，也是一位高水平超导研究专家，他在高温超导体机理研究、超导薄膜制备、新超导体探索等方面都有诸多重要成果，先后在《自然》杂志等主流刊物发表重要论文80余篇。此外，多位具备国家重点实验室工作背景的超导薄膜和低温技术专家也先后加入，组成了国内一流的班底阵容。“我们选定的题目是‘实用超导薄膜及相关技术研究’，这个不像‘量子’或者‘智能’之类的名字时髦，但并不意味着研究的内容不重要。”赵忠贤说，希望以应用为目标来做一个中长期项目，解决超导应用过程中一系列关键核心技术难题，推动实现跨越性的进步，带来应用上的质变。谈及今后的打算，年届八旬的赵忠贤心心念念的，仍然是超导。“一是找到超导应用存在的短板，想办法推动一些项目、组织一批队伍来把超导领域的这些问题全部扫光；二是在超导应用的某些方面，希望看到我们比别人强，有自己的‘绝活’。”
    时间： 2021-03-23
    作者： KPC
  • 总投资5.48亿元！光驰半导体原子层镀膜与刻蚀镀膜项目竣工
    近日，光驰半导体技术（上海）有限公司投资建设的原子层镀膜与刻蚀设备项目顺利完成竣工验收。宝山高新区消息显示，原子层镀膜与刻蚀设备项目位于宝山高新区07-17地块，总投资5.48亿元，占地面积50亩，总建筑面积6.44万㎡，其中一期建筑面积约3.8万㎡，涵盖标准厂房、研发办公楼等。项目主要致力新型电子元器件及设备制造，利用全球泛半导体产业链的调整与相关前沿研发的投入与技术整合，实现电子专用设备制造产业化、规模化。光驰半导体技术（上海）有限公司，作为光驰科技（上海）有限公司全资子公司。光驰科技自2000年入驻宝山高新区南部园区。2022年，光驰科技将传统光学与半导体技术融合，于北部园区投资设立光驰半导体，进一步提升制造空间与产能，开辟光学元器件向半导体集成光学转变的新市场。项目预计达产后年产能将达到高精度原子层镀膜机120台和5台刻蚀机。2023年4月10日，光驰半导体技术（上海）有限公司半导体原子层镀膜与刻蚀镀膜项目一期正式封顶。
    时间： 2024-06-18
    作者： Jansky
  • 光驰半导体原子层镀膜与刻蚀镀膜项目落地上海宝山，计划今年8月开工
    近日，光驰半导体技术（上海）有限公司（以下简称 “光驰半导体”）成功摘得宝山高新技术产业园区的BSPO-1801单元07-17标准地33357.6平方米（合计50亩）工业用地，并与上海市宝山区规划和自然资源局签订土地使用权出让合同，光驰半导体原子层镀膜与刻蚀镀膜项目在园区实质落地。图片来源：上海宝山据上海宝山消息，光驰半导体项目未来将以半导体前沿ALD（原子层镀膜）技术与刻蚀技术为依据，以持续技术创新和市场开拓为导向，在半导体制造与器件领域实现技术的应用与扩大销售。项目计划2022年8月开工，预计2023年10月竣工。光驰半导体是光驰科技（上海）有限公司的全资子公司，据该公司官网信息，光驰科技（上海）有限公司是株式会社光驰（OPTORUN CO.,LTD）投资成立，以高精度镀膜机的设计与制造为基础的外资独资型企业，生产用于光通信设备、导光系统中制备各种光学部件的增透膜；各类型滤光片的高精度镀膜设备；工艺的研究和开发；相关设备的维修及售后服务。
    时间： 2022-08-01
    作者： KPC
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激光镀膜设备相关的方案

  • 美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用
    上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 EH 系列, 提供高电流低能量宽束型离子束, KRi 霍尔离子源可以以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用. 霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率, 低能量减少离子轰击损伤表面, 宽束设计提高吞吐量和覆盖沉积区. 整体易操作, 易维护, 安装于各类真空设备中, 例如 e-beam 电子束镀膜机, load lock, 溅射系统, 分子束外延, 脉冲激光沉积等, 实现 IBAD 辅助镀膜的工艺.
  • 上海伯东 KRI 离子源用于镀制1064nm窄带滤光片激光膜
    1064nm 窄带滤光片是在各类玻璃材质表面通过特殊的镀膜工艺而形成的光学元件, 可以从入射光中选取任意所需求的波长, 半峰值一般在 5nm~50nm之间, 具有波长定位准确、透过高、截止深、温漂小、耐用性好、光洁度好的特点, 是激光设备应用中常见的滤光片解决方案. 上海伯东美国原装进口 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380辅助沉积镀制1064nm窄带滤光片, 沉积过程稳定, 加以合理的膜系设计, 可以很好地镀制出透过率高、截止宽度宽、温度漂移小、膜层致密度高、使用寿命长的产品.
  • KRI 离子源应用于舞台灯光滤光片镀膜
    舞台灯光虽然呈现是五颜六色的, 但光源一般都是白色. 通过在光源前加上特定的光学滤光片, 对光进行“加工”, 反射和透过特定的波段, 来达到不同的色彩变化. 加上颜色滤光片, 让不同颜色的镜片不停切换, 产生不同颜色. 而在光学元件或独立基板上, 镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合, 即光学薄膜, 可以改变光波之传递特性, 包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变. 上海伯东美国进口KRI离子源辅助国产镀膜设备镀制舞台灯光滤光片, 透亮且温漂小, 满足客户降低生产成本、提高产品质量的需求, 为国内镀膜厂家进行工艺升级提供新方向！
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  • 【原创】真空镀膜在线监测设备---光密度在线检测仪

    真空镀铝膜生产几经波折后如今又在全国迅速发展，主要看重的是真空镀铝膜复合材料不仅在包装上具有很大前途，而且在工农业、通讯、国防和科研领域中得以广泛应用；真空镀膜产品在以后必将形成主流，具有很大的市场空间。 然而，在国内所有的真空镀膜生产厂家中能够生产出品质好的镀铝膜很少，所以才会出现上马快，下马也快的现象。 究其原因主要是真空镀膜行业还是处于一个发展的阶段，目前所有的真空镀膜厂家，都还没有使用一款合适的真空镀膜监测设备---真空镀膜光密度在线检测仪。所以在生产过程中很难控制好镀膜层厚度的均匀性，造成镀膜产品质量不过关，以至于镀膜品质不够好；而且生产效率低，真空镀膜生产厂家往往需要投入较大成本。 真空镀膜质量的影响因素较多，除了跟设备有关，还与操作人员的水平，技术人员的指导和合适的工艺条件有很大关系。 但是不可否认，决定真空镀膜产品品质的最重要因素是镀膜层厚度的均匀性；镀铝薄膜通常应用于具有阻隔性或遮光性要求的包装上使用，因此，镀铝层的厚度和表面状况以及附着牢度的大小将直接影响其镀铝膜性能。镀铝膜的检测主要体现在厚度、镀铝层牢度和镀铝层的表面状况等方面。 如果对镀铝膜检测方法有所了解的，就一定知道检测镀铝膜品质有一种方法叫光密度测量法，目前市场上深圳市林上科技已经研发生产出一款专门的光密度仪，它是用于直接测量镀铝膜的光密度值来判定镀铝膜产品品质的优劣。 薄膜表面镀铝的作用是遮光、防紫外线照射，既延长了内容物的保质期，又提高了薄膜的亮度，从一定程度上代替了铝箔，也具有价廉、美观及较好的阻隔性能。目前应用最多的镀铝薄膜主要有聚酯镀铝膜（VMPET）和CPP镀铝膜（VMCPP）。 由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄，因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度，通常都是需要使用光密度法来检测。光密度（OD）定义为材料遮光能力的表征。它用透光镜测量。光密度没有量纲单位，是一个对数值，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。计算公式为D=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）。通常镀铝膜的光密度值为1－3（即光线透过率为10％－0.1％），数值越大镀铝层越厚，美国国家标准局的ANSI/NAPM IT2.19对试验条件做了详细规定。 但是对于国内众多真空镀膜厂家而言，需要在大批量的生产线上就能控制好镀膜产品的镀膜层厚度均匀性。那就需要使用透光率光密度在线检测仪，在真空镀膜生产线上实行连续监测，才能保证真空镀膜产品的质量，同时提高真空镀膜设备的在线生产效率，减少生产成本。

  • 【求购】求购镀膜机

    最近单位要买一台磁控溅射镀膜机，不知国内外哪些厂家的设备比较好，因为镀膜机的部件比较多，又要求真空，出点小问题难免，所以售后方面得好。不知哪位比较有经验的，指点指点。

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  • 无镀膜激光窗口片基片
    无镀膜激光窗口片基片TECHSPEC® Uncoated Laser Window Substrates具有 10-5 的表面质量及λ/10表面平整度采用熔融石英或 N-BK7 材料制成标准英制尺寸适合现成替代解决方案提供激光谱线镀膜版本通用规格涂层:UncoatedTECHSPEC® 无镀膜激光窗口片基片是设计用于高要求激光应用的激光质量窗口片基片。这些激光窗口片基片采用熔融石英制成，适合需要良好热稳定性的高功率激光应用；或者采用 N-BK7 制成，适合更注重成本的激光应用。熔融石英和 N-BK7 激光窗口片基片都具有 λ/10 表面平整度和 10-5 表面质量的精度级别，确保最大程度地减少对透射光束的干扰。TECHSPEC® 无镀膜激光窗口片基片提供直径 12.7 至 50.8mm 的标准英制尺寸可供选择，方便现成替换为现有激光系统。定制尺寸和镀膜可供选择，请联系我们进行定制咨询。产品信息基底Dia. (mm)厚度 (mm)产品编码Fused Silica (Corning 7980)12.703.18#37-693N-BK712.706.35#38-055Fused Silica (Corning 7980)12.706.35#37-688N-BK719.106.35#38-056Fused Silica (Corning 7980)19.106.35#38-911Fused Silica (Corning 7980)25.403.18#37-694N-BK725.406.35#38-057Fused Silica (Corning 7980)25.406.35#37-689N-BK738.106.35#11-450Fused Silica (Corning 7980)38.106.35#38-912N-BK738.109.53#38-058Fused Silica (Corning 7980)50.002.00#37-666Fused Silica (Corning 7980)50.806.35#37-690N-BK750.809.53#38-059Fused Silica (Corning 7980)50.809.53#38-060Fused Silica (Corning 7980)55.001.50#37-667Fused Silica (Corning 7980)134.003.00#37-668
    供应商： 江阴韵翔光电技术有限公司
    品牌： 爱特蒙特
    价格： 面议
  • 红外(IR)薄膜分束器/低损耗镀膜激光偏振器
    红外 (IR) 薄膜分束器Ø3 - 5µm 的平均 R/T 比为 45/55Ø没有来自第二表面反射的重影Ø消除光束位移Ø还提供用于 VIS-NIR 的薄膜分束器红外 (IR) 薄膜分束器采用安装在铝制框架中的薄硝化纤维素分束膜，设计为具有 3 - 5µm 的 45R/55T 分束比。 薄硝酸纤维素膜消除了第二表面反射和光束位移，同时最大限度地减少了光路长度的变化。 铝制框架在框架下侧具有安装孔，便于安装和集成到 OEM 系统中。红外 (IR) 薄膜分束器是 MWIR 应用的理想选择，包括 MWIR 成像、红外光谱、火焰检测和红外探测器的一般用途。注意：这些分束器的硝化纤维膜非常薄且易碎。 不得接触膜，只能使用空气进行清洁。 我们建议使用鼓风机，因为来自压缩空气的力可能会损坏膜。通用规格基材:Nitrocellulose反射/透射比 (R/T):45/55波长范围 (nm):3000 - 5000镀膜:Dielectric镀膜规格:45/55 @ 3000 - 5000nm构造 :Pellicle外壳:Black Anodized Aluminum折射率 nd:1.5表面质量:40-20厚度 (μm):2 +0.3/-0.2产品型号Dia. (mm)CA (mm)产品编码19.0512.7#19-28034.9025.4#19-28163.5050.8#19-28288.9076.2#19-283114.30101.6#19-284165.10152.4#19-285技术数据低损耗 IBS 镀膜激光偏振器Ø1064nm Nd:YAG 设计波长Ø在 45° AOI 具有 10,000:1 的高消光比Ø低损耗离子束溅射 (IBS) 镀膜Ø采用 10-5 表面质量的 UV 熔融石英基片低损耗 IBS 镀膜激光偏振器用于传输 p 偏振光，同时反射 s 偏振光，消光比高达 10000:1。这些偏振器具有离子束溅射 (IBS) 镀膜，设计用于在 45° 入射角下实现最佳的低损耗性能。它们由紫外熔融石英基片制成，与高功率激光器一起使用时可将热效应降至低，并且具有 10-5 的激光级表面质量。低损耗 IBS 涂层薄膜激光偏振器非常适合与 1064nm Nd:YAG 激光器一起使用，以分离或组合 s 偏振和 p 偏振激光。如果您的应用需要具有定制尺寸、镀膜或其他激光应用要求的低损耗 IBS镀膜激光偏振器，请与我们联系。注意：这些光学元件边缘上的箭头指向薄膜偏振片镀膜。产品型号DWL (nm)消光比CA (mm)表面质量Dia. (mm)厚度 (mm)产品编码106410,000:12010-525.406.35#16-747爱特蒙特光学® F-Theta 透镜Ø激光扫描应用的理想选择Ø扫描场上的衍射受限，波前误差低Ø长工作距离和大扫描区域Ø还提供振镜、扩束器和激光源Edmund Optics® F-Theta 透镜旨在在扫描系统的图像平面提供平场，并与检流计、扩束器和激光源结合使用。 这些 F-Theta 透镜具有紧凑的外形，提供高达 273 毫米的各种焦距和高达 164 毫米 (X) x 164 毫米 (Y) 的大扫描场。 这些透镜针对常见的光纤激光源和 Nd:YAG 基波或二次谐波进行了优化，设计波长为 532nm 和 1064nm，具有通用安装螺纹，可轻松集成到振镜系统中。 爱特蒙特光学® F-Theta 透镜是用于激光扫描和激光加工应用（包括激光打标、雕刻、切割、钻孔和 3D 建模）的经济高效的解决方案。产品型号DWL (nm)扫描角 (°)扫描场 (mm)类型WD (mm)产品编码532±22.6856.5 x 56.5F-Theta Lens94.5#15-185532±25.00101.8 x 101.8F-Theta Lens193.5#15-1861064±18.6035.4 x 35.4F-Theta Lens72.1#15-1781064±22.6856.5 x 56.5F-Theta Lens107.9#15-1791064±22.6286.0 x 86.0F-Theta Lens171.2#15-1801064±28.50116.2 x 116.2F-Theta Lens188.1#15-1811064±25.00157.0 x 157.0F-Theta Lens304.6#15-1821064±24.10164.0 x 164.0F-Theta Lens313.0#15-183光散射膜Ø散射 UV 到 NIR 范围的照明光线Ø柔性聚合物基片Ø易于根据尺寸进行切割Ø另外提供玻璃散射片L光散射膜由 TAC 聚合物材料制成，可对 UV 到 NIR 范围的照明光线提供散射。可以轻松地根据尺寸对这种薄膜进行切割，以满足应用要求，可以使用轻松地根据尺寸对这种薄膜进行切割，以满足应用要求，可以使用光学胶粘剂将其粘附到玻璃表面。光散射膜非常适用于机器视觉、视觉检测和自动检测应用，以散射LED 光源，从而产生无热点的均匀照明。若您的应用需要自定义尺寸的光散射膜，或需要将光散射膜层压到光学组件（例如光学窗口片、有色玻璃和聚合物偏振片）上，请联系我们。通用规格涂层:Uncoated厚度 (mm):0.13 ±0.005波长范围 (nm):300 - 1100注意:Protective film on both surfaces should be removed before use产品型号涂层尺寸 (mm)产品编码Uncoated100 x 100#17-683Uncoated300 x 300#17-682技术数据E 系列无边缘运动光学反射镜安装座Ø用于安装分光镜和透射式光学元件的 120° 无边缘Ø价格实惠Ø对实验和 OEM 系统不可或缺的安装座E 系列无边缘运动光学反射镜安装座可提供许多对于研发、原型制造和系统集成领域的应用而言不可或缺的功能。这些安装座具有 120° 切口，非常适用于安装分光镜和透射式光学元件，若以 45° 角安装，还能容纳更宽的光束路径。两个 M6 x 0.25 (101.6 TPI) 调节螺丝可提供平稳的移动，可以通过手或内六角扳手（扳手大小 2mm）驱动，以实现翻转和倾斜的光学调整与对齐 (±3.5°)。可以拆卸调节螺丝旋钮，从而使外形更紧凑。E 系列无边缘运动光学反射镜安装座具有安装孔，这些孔是埋头孔（设计目的为容纳 M4 或 8-32 安装硬件）和 M6 x 1.0 内螺纹孔（用于提高安装的多用性，以及与TECHSPEC® 公制不锈钢安装接杆和底座接杆的直接兼容性）。通用规格光学类型:Circular调节螺丝数目:2构造 :Aluminum Plates, Stainless Steel Screws, and Brass Thread BushingsMin. Thickness of Compatible Optics (mm):2微倾斜角度 (°) :±3.5微翻转角度 (°) :±3.5调节螺丝螺距 (mm):0.25Compatible Post:M6 x 1.0, M4 x 0.7, 8-32产品型号兼容光学大小 (mm)Optical Axis Height产品编码12.5/12.725.40#17-27825/25.425.40#17-27950/50.838.10#17-280
    供应商： 江阴韵翔光电技术有限公司
    品牌： 爱特蒙特
    价格： 面议
  • IBS镀膜激光反射镜
    IBS镀膜激光反射镜IBS 反射镜镀膜具有低损耗、高反射的特点在设计波长下可保证的激光损伤阈值高达 15 J/cm2@1064nm超精密磨光的基片可提供百万分之一级别的水平散射性能Additional Sizes Coming Soon通用规格基底:Fused SilicaTECHSPEC® IBS 镀膜激光反射镜采用离子束溅射 (IBS) 技术镀膜。这些激光反射镜专为要求极其严苛的激光应用设计，这些应用要求在其激光线波长下获得最高的反射量。离子束溅射镀膜使这些镜面的表面粗糙度低于其他镀膜技术，从而减少散射。密集的镀膜使 TECHSPEC® IBS 镀膜激光反射镜具有较高的环境稳定性，性能受温度、湿度等环境因素影响极小。该反射镜专为常用的 Nd:YAG 波长设计，并经过优化，可在其设计波长下提供高损伤阈值。如果您的应用需要定制尺寸的 IBS 激光反射镜或定制的 IBS 反射镜镀膜，请与我们联系.产品信息DWL (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)AOI (°)产品编码35525.406.3545#34-83853225.406.3545#34-842106425.406.3545#34-84526612.706.3545#33-06635525.405.0045#89-45053225.405.0045#89-451106425.405.000#89-452106425.405.0045#89-453
    供应商： 江阴韵翔光电技术有限公司
    品牌： 爱特蒙特
    价格： 面议
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