激光熔融系统

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激光熔融系统相关的厂商

  • 北方光科激光技术(北京)有限公司成立于2009年,是一家集专业研发、生产、销售激光设备于一体的智能激光技术企业。公司生产的自主品牌“昂泰科”激光设备,涵盖激光熔覆、激光焊接、激光切割、激光打孔、激光打标和激光清洗等激光加工领域。公司设备受到国内外客户一致好评,远销俄罗斯、印度、奥地利等国家。 北方光科专注为客户提供工程机械、煤矿、化工、石油、能源科技等各行业的工艺配套解决方案。高速激光熔覆技术主要用于提高零件表面的耐磨、耐腐蚀、耐高温、及抗氧化等性能,从而达到表面改性或修复的目标,满足了对材料表面特定性能的要求。可实现对平板类、圆柱类及异形类工件的激光修复,为企业降低成本、节约材料、优化加工系统。公司激光设备产品系列从20w至8000w均可为广大企业专机定制,解决企业由复杂的工序转换成自动化生产加工提高工作效率。公司拥有一支优秀的管理团队,从企业创新到发展,核心团队始终保持凝聚力,积极进取。作为国内最早从事矿山行业智能化,信息化的一个群体,积累了丰富的技术及管理经验。
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  • 西安国盛激光科技有限公司成立于2015年(旗下全资子公司陕西国昌熔覆激光科技有限公司),公司建有西安航天研发设计中心、渭南生产基地。国盛激光是一家专业从事自动化激光熔覆设备、高速激光熔覆设备、激光淬火设备、激光焊接设备、3D打印设备的研发、制造、销售于一体的高科技企业。为客户提供结构功能一体化激光增材制造技术的全套解决方案。国盛激光始终重视创新和研发,工程师团队涵盖激光熔覆设备等项目研发、设计、开发、检测、分析、售前售后服务等。凭借庞大的技术资源,雄厚的研发力量,先进的生产技术,快速的交付周期,灵活的技术服务,为客户提供高性价比的产品与服务。
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  • 创可激光,隶属于广州新可激光设备有限公司,13年品牌深耕,其三轴动态技术在光纤、co2和紫外激光打标雕刻系统中实现了无可匹配的刻印质量。销量超20,000台,专利认证超50个,荣获高新技术企业。创可激光致力于高端3D光纤,高功率二氧化碳以及紫外激光打标机的研发、生产与销售。满足市场对先进打标设备的需求。创可激光总部位于中国广州,国内拥有数十家分公司及办事处。并在日本、德国、美国、韩国等三十多个国家建立了代理机构,销售数量过万,品牌影响辐射全球。创可激光有一支专业的研发团队,研发内容涉及软件设计、机械设计、光路设计等多个方面。协助客户完成各种工艺难题与技术攻关。持续为客户提供全套的激光解决方案。超过十年的专业激光制造经验,追求完美细节,苛求品质第一。现正招募全球代理商,建立互动共赢的合作关系。
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激光熔融系统相关的仪器

  • MIR102 CO2 激光熔融加热系统——通用的取样和固体样品分析方法、惰性气体和同位素比质谱法ESL对MIR10全面升级,重新设计,推出新款MIR102产品亮点:Windows 10 系统ActiveView2 控制软件高分辨率相机 30W或55W连续波CO2 激光器光学参数:500万像素高分辨率数码相机(USB3)相机视野可达10 mm 光学分辨率5.52 μm 无缝数字化图片拼接 数字变焦低至8 mm,视野低至0.3 mm应用:激 光 氟 化 熔 融 ( 如 18O/16O, 17O/16O,34S/32S, 33S/32S)激光加热(例如13C/12C,18O/16O)稀有气体同位素比值测量(如40Ar/39Ar测年)用 Pb 同位素做海洋测年大气化学中对岩石的同位素分析地质材料的用40Ar/39Ar原位测年 跟踪古气候利用动物牙齿同位素分析MIR10 系统优点
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  • 紫外熔融石英楔形激光窗口片”参数说明型号:紫外熔融石英楔形规格:2.0 - 16 μm商标:一博包装:纸箱Diameter Tolerance:+0.0 / -0.2 mm紫外熔融石英楔形激光窗口片”详细介绍特性30弧分楔形N-BK7或者UV熔融石英基底镀增透膜,中心波长在普通激光激发波长附近(范围为261 - 1100 nm)?1英寸窗口片,厚5.0 mm损伤阈值高(请参看下方了解细节)联系我们可定制尺寸QXKJ提供一系列两边都镀膜的楔形激光保护窗口片。这种楔形光学元件消除了条纹样式,避免了腔反馈。窗片可以保护激光输出不受环境影响方面,用于光束取样应用 。这些楔形窗口片镀有中心波长在普通激光波长附近的增透膜,并且损伤阈值很高,能为大多数工业和激光保护应用提供非常好的解决方案。我们还提供不同基底材料和镀膜选项的其它楔形窗口片。此外,可定制楔形窗口片的尺寸、厚度或楔形角度;更多详情请联系我公司技术。 Wedge Angle30 ± 10 arcminDiameter 1"Diameter Tolerance+0.0 / -0.2 mmClear Aperture≥22.86 mmThickness5.0 mmThickness Tolerance±0.4 mmSurface Flatnessa≤λ/20 Over Central ?10 mm ≤λ/10 Over Entire Clear ApertureSurface Quality10-5 Scratch-DigAR Coating Range261 - 266 nm350 - 450 nmReflectance over AR Coating Rangeb每个表面Ravg 0.5%;两面镀膜SubstrateUV Fused SilicacDamage Threshold2 J/cm2 (266 nm, 10 ns, 10 Hz, ?0.271 mm)10 J/cm2 (355 nm, 10 ns, 10 Hz, ?0.170 mm)
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  • 扩束器,固定放大率,紫外熔融石英特性可选2X,3X,5X,10X或20X扩束器可选5种增透膜,覆盖常用的激光线240 - 360 nm宽带(-UVB)266 nm V膜(-266)355 nm V膜(-355)532 nm V膜(-532)1064 nm V膜(-1064)滑动透镜准直调节使光束偏移降到最低外壳的机械长度固定,末端不可旋转准直调节环可用附带的六角扳手锁定螺纹孔径易于集成到光学系统中Thorlabs的紫外熔融石英扩束器可以将准直光束的直径扩大或缩小2倍,3倍,5倍,10倍或20倍。这些伽利略型扩束器采用低像差、空气隙设计,产生的波前误差小于λ/4(即衍射极限性能),使其对扩束后M² 值的影响降到最小。扩大的光束可以聚焦成很小的衍射极限束腰,这对于具有窄小输入孔径的光学元件或仪器(比如我们的法布里-珀罗干涉仪)可能是必要的。扩束器中使用的光学元件可选五种增透膜,从而将空气与玻璃界面处的反射降到最低。产品型号以-UVB结尾的扩束器镀有240到360 nm宽带增透膜。其它扩束器使用V形增透膜光学元件。V膜因其反射率曲线的形状而得名,这种膜的反射率在设计波长处达到最小,在设计波长两侧急剧增大。与宽带增透膜相比,这种镀膜设计在更窄的工作范围内提供更低的反射率。四种V膜扩束器的中心波长匹配Nd:YAG激光线:266 nm,355 nm,532 nm或1064 nm。20X放大倍率扩束器只可选355 nm、532 nm或1064 nm V膜。关于镀膜性能的更多信息,请看规格和增透膜标签。滑动透镜设计既能调节准直,同时能将透镜调节时固有的光束偏移效应降到最小。如右图所示,红色环用于调节输出光束准直;达到所需的准直后,可用附带的0.05英寸六角扳手拧紧螺丝固定。紫外熔融石英扩束器,宽带增透膜:240 - 360 nm紫外熔融石英扩束器,V增透膜:266 nm紫外熔融石英扩束器,V增透膜:355 nm紫外熔融石英扩束器,V增透膜:532 nm紫外熔融石英扩束器,V增透膜:1064 nm
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激光熔融系统相关的资讯

  • 雷尼绍参展CIMES 2012 — 隆重推出激光熔融金属成型技术
    世界测量领域的领导者雷尼绍公司,在最近于北京中国国际展览中心举行的中国国际机床工具展览会 (CIMES 2012) 上,获得了巨大成功。雷尼绍展出并演示了一系列新型测量产品,吸引了大批观众前来参观。展出的产品包括用于坐标测量机的PH20全自动五轴旋转测座、QC20-W无线球杆仪以及全新推出的EquatorTM比对仪。此外,雷尼绍还首次在中国展出了领先的激光熔融金属成型技术。 通过此次CIMES展会,雷尼绍AM(快速成型)产品线正式进入中国市场,旨在为中国地区的航空航天、医疗、汽车和科研等领域的机构提供本地化的方案咨询、项目协作、技术和服务支持;带来欧洲和北美市场的应用经验,为相关领域的以金属材质为加工基础的新产品、关键项目、定制化和小批量制作需求提供快捷、稳定、高品质的金属熔融快速制造系统平台。该产品同时也为该领域的设计师和专业研发人员在保证加工速度、缩短开发流程、降低成本的前提下最大限度地释放出不受结构、工艺和人员等因素限制的开发潜能,从而优化产品和项目的可行性或商业性,避免产品生命周期中特别是产生于开发流程中的出错成本。 激光熔融金属成型技术亮相CIMES 在CIMES期间,雷尼绍展示了AM系统的演示流程和相关行业通过AM激光熔融金属快速成型系统加工的实际产品。应用涉及到航空航天、汽车、医疗植入、电子、消费品、模具和艺术等领域;产品材料范围覆盖了高密度的不锈钢、钴铬合金、铝合金和钛合金等。在谈到客户对AM产品的热烈回响时,雷尼绍AMPD产品经理马骏说:&ldquo 现场客户来自多个工业领域,其中有部分客户已经在使用雷尼绍其他产品线的方案,如测量和机床配套产品,对雷尼绍的品质、支持以及服务有着较好的应用体验。他们对AM技术、应用、材料和用户领域参考表现出极大的关注。部分来自航空航天、医疗和科研领域的专家表示,会结合所在单位或机构的实际技术需求与雷尼绍作更深入地沟通与交流。&rdquo AM250激光熔融快速成型机 如需了解详细信息,请访问http://www.renishaw.com.cn/zh/additive-manufacturing--15239
  • XRF科技推出全自动机器人电热熔融炉系统
    XRF科技公司最新推出全自动机器人电热熔融炉系统  澳大利亚XRF Scientific Ltd公司旗下MODUTEMP在2010年最新推出全自动机器人电热熔融炉系统——专为X荧光光谱仪制备样品,其双通道系统能达到每小时50-60个样品的自动处理量。上海凯来实验设备有限公司是其在中国的总代理。     全自动机器人电热熔融炉系统集合了从样品准备、坩埚/模具装卸、全熔融过程监控、自动倒模到熔片装卸等功能。真正将实验人员从高温恶劣环境中解放出来,也完全消除了人工备样过程中可能引入的分析误差,从而也大大提高了工作效率,保证了样品制备的可靠性和可重复性。  关于XRF Scientific Ltd  澳大利亚XRF Scientific Ltd公司是世界领先的激光诱导击穿光谱仪(LIBS)、熔融炉、高纯助溶剂、铂金/铂合金器皿制造商。  它生产的熔样机以坚固耐用、安全易操作、高效高通量著称。在世界钢铁行业内被广泛的大量的使用,已成为钢铁企业先进化验室的标准配置之一。  关于上海凯来实验设备有限公司  总部设在中国上海,成立于2004年。作为德国Haver & Boecker公司、Bϋ rkle公司、英国Optical Activity公司和Index Instruments公司、美国Ahura公司、Inorganic Venture公司、Reichert公司和W.S. Tyler公司、澳大利亚XRF Scientific 公司、瑞士SONOSWISS公司等在中国的总代理,以及作为德国Hirschmann、HosokawaAlpine的南方区总代理和Dionex液相产品上海区总代理。凯来公司致力于为生命科学和化学分析实验室用户提供优质的科学仪器及服务,同时希望不断完善自身,为客户提供更多更好的解决方案。  更多信息请登录www.chemlabcorp.com了解。
  • 港理工/港大/港城大《Nature Communications》:亚微米精度单光子3D打印熔融石英
    透明熔融石英玻璃作为一种不可或缺的重要材料,在现代社会中具备广泛应用价值。其卓越性能使得它在日常生活、科学和工业领域均发挥着重要作用。尽管熔融石英玻璃具备卓越的光学性能、热稳定性和化学耐久性等优异特点,但其高硬度和高脆性使得其可加工能性备受诟病。目前,传统熔融石英玻璃微结构制备工艺面临着流程复杂、成本高昂以及材料易碎等诸多挑战,并且在实现复杂三维(3D)结构方面仍然存在巨大困难。这给新型玻璃微纳米器件的开发、高效制造和在先进功能领域的应用带来了巨大的挑战。近年来,以3D打印/增材制造为代表的先进制造技术为玻璃加工行业带来了全新变革和重大突破。相较于传统的减材及等材成型工艺,这些新兴技术以数字设计和逐层累积为手段,成为赋予玻璃构件极高设计自由度和精确成型能力的强大工具,使得制造任意熔融石英玻璃三维结构成为可能。德国Karlsruhe理工学院科学家利用立体光刻(SLA)技术制备玻璃已取得重要突破(Nature, 2017, 544),成功实现了玻璃制品在质量、复杂度和精确度诸多方面的显著提升。这一里程碑式的进展也预示着通过3D打印技术制造具有出色光学性能的玻璃结构离普及更近了一步。随着时间的推移,全球范围内的研究者一直在不断努力提升玻璃打印技术的精确性。通过采用双光子飞秒激光直写(TPP-DIW)技术,实现了微纳米尺寸3D分辨率的玻璃结构的有效成形(Adv. Mater., 2021, 33)。然而,尽管立体光刻和双光子飞秒激光直写已分别实现了约50 μm和约100 nm的成型分辨率,并在宏观及纳观尺度上显著扩展了玻璃三维构件的应用领域,但由于3D打印技术在精度和效率方面存在固有矛盾,迄今为止,已有文献中报道的方法无法有效地制造出既具有毫米/厘米级尺寸又带有亚微米级特征的复杂玻璃三维结构。这一限制严重影响了该技术在微光学、微流控、微机械及微表面等先进领域上的应用。有鉴于此,香港理工大学3D打印中心温燮文教授联合香港大学机械工程系陆洋教授,在此前工作(Nat. Mater., 2021, 20, 1506)基础上更进一步,提出了一种通过摩方精密面投影微立体光刻(PμSL)3D打印技术制备同时具有亚微米特征及毫米/厘米级尺寸的熔融石英玻璃三维构件的方法。研究者选择了聚乙二醇功能化的二氧化硅纳米颗粒(平均直径~11.5 nm)胶体和两种丙烯酸酯作为聚合物前驱体,保证二氧化硅纳米颗粒良好的相容性和分散性。结合面投影微立体光刻3D打印灵活地创建具有复杂的三维亚微米结构的高性能透明熔融石英玻璃,其分辨率、构建速度及成型幅面均超越了目前大多数其他3D打印玻璃技术几个数量级。 图1:通过面投影微立体光刻3D打印所得透明熔融石英玻璃。(a)面投影微立体光刻3D打印示意图,呈现了打印所得熔融石英玻璃制成微缩维多利亚港的光学和电子显微镜图像。(b)复合纳米前驱体的各化学组分。(c)面投影微立体光刻3D打印透明熔融石英玻璃微透镜阵列在高温环境下展示了出色的稳定性。(d)4 × 6阵列的透明熔融石英玻璃蜂窝结构的光学和电子显微镜图像,其中央的细长悬线具有亚微米级别尺寸。(e)该方案所制备的熔融石英玻璃在分辨率及成型速度上的关系图,及与已报道的其他同类技术的比较。 图2:面投影微立体光刻3D打印所得具有多尺度临界特征的透明熔融石英玻璃多层级点阵。(a)多层级点阵结构;(b)多层级点阵网络;(c & d)单个多层级点阵胞元;(e)多层级架构;(f)基础点阵;(g & h)基础杆件及其具备的亚微米特征。尺寸跨度由mm逐步减少到nm,接近5个数量级。利用面投影微立体光刻3D打印透明熔融石英玻璃微透镜阵列,其具有亚纳米级别的表面粗糙度(Ra≈0.633 nm)。同时,研究者展示了通过3D打印制造的熔融石英玻璃微透镜阵列在成像方面的出色能力,具备优良的均匀性、清晰度、对比度和锐度。 图3:面投影微立体光刻3D打印的具有亚纳米级别表面粗糙度的熔融石英玻璃微透镜阵列。单个透镜的高精度光学显微镜图像,方框区域显示了白光干涉共聚焦显微镜测试结果,沿XY方向均能实现亚纳米级别表面粗糙度,以此制备高均匀性、高清晰度、高对比度和高锐度的微透镜阵列。面投影微立体光刻3D打印技术赋予了熔融石英玻璃微流体器件高精度、简化工艺、高直视性、大结构尺寸及复杂三维设计自由度,进一步展现出该器件出色的液滴/流体操控能力。 图4:面投影微立体光刻3D打印具备超疏水性能的仿生三维熔融石英玻璃微表面结构,以及具有Y型流道的免键合三维熔融石英玻璃微流控芯片。超疏水仿生三维熔融石英玻璃微表面展现了极佳的液滴黏附能力(即“花瓣效应”),即使在翻转180°后仍能牢固锁住液滴;在免键合Y型流道三维熔融石英玻璃微流控芯片,由于表面张力占主导,两种流体呈现了不互溶的“层流”现象。该工作进行于香港城市大学深圳研究院纳米制造实验室,相关成果以“One-photon Three-dimensional Printed Fused Silica Glass with Sub-micron Features”为题发表于国际期刊《自然通讯》(Nature Communications)上,课题组2020级博士研究生黎子永为该论文第一作者。在该研究中,熔融石英玻璃三维微纳样品由摩方精密2 μm精度的nanoArch P130超高精密3D打印系统制备。相关技术已申请专利,后续将与摩方精密合作进行商业化应用。

激光熔融系统相关的方案

激光熔融系统相关的资料

激光熔融系统相关的论坛

  • 【资料】ICP-MS固体进样设备-激光熔融剥蚀系统

    New wave research是美国ESI公司的分支部分,专业生产激光烧蚀进样系统。为[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url]或ICP-OES提高激光取、进样系统,使原来繁杂的样品制备过程变得极其简单快捷。常用于各种地质岩石、海洋矿物、物证鉴定等各种材料直接固体进样,进行微区分析、元素、同位素分析等。是目前全球最大的激光进样系统供应商。UP193FX-193nm 准分子激光烧蚀系统是锆石、包裹体等研究的最佳工具UP213-213nm 固体激光烧蚀系统适用于地质学、海洋学、法医罪证鉴定、半导体、生医、环境监测,广泛适用于透明和不透明材料UP266 MACRO-266nm 固体激光大光斑烧蚀系统能有效烧蚀钢铁、贵重金属、塑料、陶瓷、生医材料和部分玻璃,大量的烧蚀量使用于ICP-OES分析公司网站:www.new-wave.com如有兴趣,可联系zhufeikevin@gmail.com,手机:13693225697.[~190495~][~190496~][~190497~]

  • 高纯度熔融石英圆筒等离子熔融工艺研究——真空度(压强)控制系统

    高纯度熔融石英圆筒等离子熔融工艺研究——真空度(压强)控制系统

    [color=#cc0000]摘要:等离子熔融工艺是目前国际上生产高纯度熔融石英玻璃圆筒最先进的工艺之一,在产品的低羟基浓度、低缺陷浓度、成品率、生产效率和节能环保等方面具有非常突出的优势。本文针对石英玻璃等离子熔融工艺成型设备,设计并提出了一种真空过程实现方案,可进行等离子加热过程中的炉内真空度(气压)实时控制和监测,以满足高纯度熔融石英等离子工艺过程中的不同需要。[/color][hr/][size=18px][color=#cc0000]1.简介[/color][/size] 等离子熔融工艺是目前生产透明和不透明熔融石英空心圆筒坯件最先进的工艺技术,通过此工艺可以一次完成高纯度熔融石英圆筒胚件的制造,在成品率、生产效率和节能环保等方面具有独到的优势。 在等离子熔融工艺过程中,将高纯石英砂注入到旋转炉中,依靠离心力控制成品尺寸。在熔融工艺过程中,旋转炉中的高纯保护气体使得电极间能够激发等离子电弧,所产生的等离子电弧使晶态石英砂熔化为熔融石英。 目前全球唯一采用此独特工艺生产熔融石英空心圆筒的厂家是德国昆希(Qsil)公司,如图 1所示,昆希公司使用这种独有的“一步法”等离子加热熔融工艺生产透明和不透明熔融石英空心圆筒(坯)。[align=center][img=,690,]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2020/10/202010262149468212_8828_3384_3.png!w690x438.jpg[/img][/align][align=center][color=#cc0000]图1. 德国昆希(Qsil)公司等离子熔融工艺石英玻璃成型设备[/color][/align] 熔融石英玻璃在生产过程中,熔融态的石英玻璃将发生极其复杂的气体交换现象,此时气体的平衡状态与加热温度、炉内气压、气体在各相中的分压及其在玻璃中的溶解、扩散速度有关。因此,为获得羟基浓度小于50ppm且总缺陷(直径小于20um的气泡和夹杂物)浓度小于50个/立方厘米的高纯度熔融石英玻璃锭,需要根据加热温度选择不同的气体和真空工艺。本文提出了一种真空工艺实现方案,可进行等离子加热过程中的炉内气压实时控制和监测,以满足高纯度熔融石英等离子熔融工艺过程中的各种不同需要。[size=18px][color=#cc0000]2.真空度(气压)控制和监测方案[/color][/size] 与等离子熔融工艺石英玻璃成型设备配套的真空系统框图如图 2所示,可实现成型设备加热桶内的真空度(气压)在0.1~700Torr范围内的精确控制,控制精度可达到±1%以内。 如图2所示,真空系统的设计采用了下游控制模式,也可根据具体工艺情况设计为上游和下游同时控制模式。整个真空系统主要包括气源、进气流量控制装置、真空度探测器、出气流量控制和真空泵等部分。[align=center][color=#cc0000][img=,690,]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2020/10/202010262150259848_5706_3384_3.png!w690x345.jpg[/img][/color][/align][align=center][color=#cc0000]图2. 真空系统框图[/color][/align] 来自不同气源的气体通过可控阀门形成单独或混合气体进入歧管,然后通过一组质量流量控制器和针阀来控制进入成型设备的气体流量,由此既能实现设备中的真空度快速控制和避免较大的过冲,又能有效节省某些较昂贵的惰性气体。 成型设备内真空度的形成主要靠真空泵抽取实现,抽取的工艺气体需要先经过滤装置进行处理后再经真空泵排出。 工艺气体的真空度(气压)通过两个不同量程的真空计来进行监测,由此来覆盖整个工艺过程中的真空度控制和测量。 真空度的精确控制采用了一组质量流量控制器、调节阀控制器和阀门,可以实现整个工艺过程中任意真空度设定点和变化斜率的准确控制。 整个真空系统内的传感器、装置以及阀门,采用计算机结合PLC进行数据采集并按照程序设定进行自动控制。[size=18px][color=#cc0000]3.说明[/color][/size] 上述真空系统方案仅为初步的设计框架,并不是一个成熟的技术实施方案,还需要结合实际工艺过程和参数的调试来对真空系统方案进行修改完善。 真空度控制与其他工程参数(如温度、流量等)控制一样,尽管普遍都采用PID控制技术,但对真空度控制而言,则对控制器的测量精度和PID控制算法有很高的要求,而进口配套的控制器往往无法达到满意要求。 另外,如在真空度控制过程中,真空容器中的真空度会发生改变,系统的时间常数 也随之改变,这意味着具有固定控制参数的控制器只能最佳地控制一个压力设定值。如果压力设定值改变,控制器的优化功能将不再得到保证。必须对控制参数进行新的调整,通常是手动进行。

激光熔融系统相关的耗材

  • 薄熔融石英激光窗
    薄熔融石英激光窗TECHSPEC® 薄熔融石英激光窗• 厚度薄至1mm• 紫外或红外熔融石英基底• 低损耗宽带IBS减反射膜通用规格有效孔径 (%):90厚度 (mm):1.00 ±0.10平行度(弧秒):≤30表面质量:20-10传输波前,P-V (λ):≤λ/6TECHSPEC® 薄熔融石英激光窗的设计厚度为1mm,可用于UV或IR熔融石英基底。 这些薄窗在两个表面上均镀有离子束溅射(IBS)宽带减反射(BBAR)涂层,比传统镀膜的减反射窗具有更低的吸收损耗和散射。 TECHSPEC薄熔融石英激光窗户是需要高性能,小尺寸光学窗户的应用的理想选择。 可提供未涂覆的薄熔融石英激光窗口基板,以提供定制涂层的灵活性,以满足您的应用需求; 请与我们联系以获取更多信息。IR级熔融石英与UV级熔融石英的区别在于其OH-离子的含量降低,从而导致整个NIR光谱的透射率更高,并且UV光谱的透射率降低。产品信息Dia. (mm)涂层产品编码12.70BBAR (370-550nm)#11-74625.40BBAR (370-550nm)#11-74750.80BBAR (370-550nm)#11-74812.70BBAR (700-900nm)#11-74325.40BBAR (700-900nm)#11-74450.80BBAR (700-900nm)#11-74512.70BBAR (950-1150nm)#11-74025.40BBAR (950-1150nm)#11-74150.80BBAR (950-1150nm)#11-74212.70Uncoated#11-74925.40Uncoated#11-75050.80Uncoated#11-75112.70Uncoated#11-75225.40Uncoated#11-75350.80Uncoated#11-754
  • 薄熔融石英平凸(PCX)激光透镜
    薄熔融石英平凸(PCX)激光透镜TECHSPEC® 薄熔融石英平凸(PCX)激光透镜超薄中心厚度紫外或红外熔融二氧化硅基材低损耗宽带IBS减反射膜TECHSPEC® 薄熔融石英平凸(PCX)激光透镜的中心厚度超薄,可实现更轻巧,更紧凑的光学系统。这些透镜具有离子束溅射(IBS)防反射(AR)涂层,覆盖可见光谱和近红外(NIR)光谱。TECHSPEC薄熔融石英平凸(PCX)激光透镜提供标准的英制尺寸,有效焦距为50mm至2000mm。请联系我们使用我们标准尺寸的未镀膜薄熔融石英PCX激光透镜,可以定制镀膜机会。IR熔融石英与UV熔融石英的区别在于其OH-离子的含量降低,从而导致整个NIR光谱的透射率更高,并且UV光谱的透射率降低。通用规格表面质量:20-10Power (P-V) @ 632.8nm:1.5λIrregularity (P-V) @ 632.8nm:λ/8有效孔径 (%):90焦距容差 (%):±1中心偏(弧分):焦距指定波长 (nm):587.6产品信息Dia. (mm)EFL (mm)BFL (mm)涂层基底产品编码12.7050.0649.03UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-71112.7050.0049.03BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-67112.7050.0649.03BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-65212.7050.0649.03BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-63312.7050.0649.03UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-69212.7075.0974.06UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-71212.7075.0074.05BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-67212.7075.0974.06BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-65312.7075.0974.06BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-63412.7075.0974.06UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-69312.70100.1299.09UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-71312.70100.0099.08BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-67312.70100.1299.09BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-65412.70100.1299.09BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-63512.70100.1299.09UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-69412.70125.16124.13UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-71412.70125.00124.12BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-67412.70125.16124.13BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-65512.70125.16124.13BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-63612.70125.16124.13UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-69512.70150.17149.15UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-71512.70150.00149.14BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-67512.70150.17149.15BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-65612.70150.17149.15BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-63712.70150.17149.15UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-69612.70200.23199.20UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-71612.70200.00199.19BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-67612.70200.23199.20BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-65712.70200.23199.20BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-63812.70200.23199.20UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-69712.70250.29249.26UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-71712.70250.00249.24BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-67712.70250.29249.26BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-65812.70250.29249.26BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-63912.70250.29249.26UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-69812.70300.35299.32UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-71812.70300.00299.30BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-67812.70300.35299.32BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-65912.70300.35299.32BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-64012.70300.35299.32UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-69925.40200.23199.14UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-71925.40200.00199.12BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-67925.40200.23199.14BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-66025.40200.23199.14BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-64125.40200.23199.14UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-70025.40250.29249.19UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-72025.40250.00249.18BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-68025.40250.29249.19BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-66125.40250.29249.19BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-64225.40250.29249.19UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-70125.40300.35299.25UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-72125.40300.00299.23BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-68125.40300.35299.25BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-66225.40300.35299.25BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-64325.40300.35299.25UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-70225.40350.41349.31UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-72225.40350.00349.28BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-68225.40350.41349.31BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-66325.40350.41349.31BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-64425.40350.41349.31UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-70325.40400.47399.37UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-72325.40400.00399.34BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-68325.40400.47399.37BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-66425.40400.47399.37BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-64525.40400.47399.37UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-70425.40450.52449.43UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-72425.40450.00449.39BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-68425.40450.52449.43BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-66525.40450.52449.43BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-64625.40450.52449.43UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-70525.40500.58499.49UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-72525.40500.00499.45BBAR (370-550nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-68525.40500.58499.49BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-66625.40500.58499.49BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-64725.40500.58499.49UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-70625.40750.87749.78UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-72625.40750.87749.78BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-66725.40750.87749.78BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-64825.40750.87749.78UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-70725.401001.171000.07UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-72725.401001.171000.07BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-66825.401001.171000.07BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-64925.401001.171000.07UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-70825.401501.751500.65UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-72825.401501.751500.65BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-66925.401501.751500.65BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-65025.401501.751500.65UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-70925.402002.332001.23UncoatedUV Fused Silica (Corning 7980)#11-72925.402002.332001.23BBAR (700-900nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-67025.402002.332001.23BBAR (950-1150nm)UV Fused Silica (Corning 7980)#11-65125.402002.332001.23UncoatedIR Fused Silica (Corning 7979)#11-710
  • 1310/1550 nm 多功能单模光纤熔融拉锥机系统 IPCS-5000-ST
    IPCS-5000-ST型全功能光纤拉锥系统是加拿大Idealphotonics与UBC联合研制开发的一种集成了光学、电子学、精密机械、计算机等多项技术及制作、检测、控制等多项功能于一体的高度自动化生产系统。该机器除了提供普通光纤拉锥机的功能外,还可以根据客户的研究要求升级为保偏光纤拉锥机,大芯径多模光纤拉锥机,锥型光纤拉伸系统等,是你从事光纤分路器、波分复用器通讯市场开发,光纤传感器和光纤激光器,生物医疗,激光微纳米研究等核心器件开发的有力平台。(可额外选购 1310/1550 nm 双波长台式检测光源 (1 mW),2um 台式检测光源;探测器扩展型InGaAs 1100-2400 nm;)技术参数A.普通单模光纤耦合器工作波长1310 nm, 1550 nm, 1310/1550 nm附加损耗0.2 dB插入损耗3.2 dB带宽+/-20 nm, +/-40 nm分光比1—99% , Error: ±2%封装尺寸30-40 mm固化方式热固化胶标准50/12.5um, 60/125um 多模光纤器件,WDM 都可通用B.保偏光纤耦合器工作波长1310 nm, 1550 nm消光比≥ 20dB 部分可达25dB附加损耗0.2-0.5dB (国产或进口Panda 保偏匹配型光纤)封装尺寸30-40 mm分光比50:50±5%(分光比可任意设定)器件结构1x2, 2x2 and 1x3固化方式热固化胶使用光纤125/250um, 80/165um Panda PM fiber ( 特殊夹具)C. N x M 大芯径多模光纤合束器N2,3.4… … 7 或者(N+1)光纤芯径50 um, 100 um, 200 um, 400 um, 600 um… .光纤N.A 0.11, 0.22, 0.37, 0.48器件承载功率W 级根据光纤芯径粗细,提高流量计范围,设计光纤夹具尺寸。D.光纤单锥单模光纤core: 9 um to 1 um, even less多模光纤core 400 um to 62.5 um, core 600 um to 200 um, even less火焰加热单元火焰轴向摆幅0-21 mm移动速率0-4 mm/s 连续可调燃烧气体Hydrogen ( or Oxygen)氢气流量0-800 SCCM氧气流量0-400 SCCM光学元器件部分探测器扩展型InGaAs: 1100-2400 nm可选Si : 400-1000 nm, Ge:1000-1800 nm光源可选:1310/1550 nm 双波长台式检测光源 (1 mW),2um 台式检测光源(2um附近器件研发)紫外探测器可选UV灯可选,客户需要研究制造UV波段的器件.主机拉锥平台拉伸精度0.15 μm拉锥平台拉伸速度0.15—12000 μm/s拉锥平台最大拉伸距离55 mm可夹持光纤0.1—0.5 mm夹具间的最小间距30mm工作台外形及尺寸21.65” x 16” x 9.65” (550 x 405 x 245mm)重量70lb (31.5kg) Approx.供电100-240V, 50/60Hz, 150Watt工作原理光纤拉锥系统采用真空吸附方式和特制夹具配合一起将两根或多根光纤定位并夹紧在光学平台上,并以一定的方式使除去涂覆层的两根或多根裸纤旋转,对轴(仅指保偏光纤)靠拢,在氢氧焰下加热熔融,同时以一定的速度向两边拉伸,最终在加热区形成双锥体形式的特殊波导结构,从而实现制作各种光纤耦合器件和光纤锥体的目的。
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