激光镀膜设备

自从1993年起SURFACE公司就从事脉冲激光沉积镀膜系统（以下简称PLD）的研发和制造工作，在这期间SURFACE公司不但向市场提供了标准的PLD系统，而且也提供专门为客户订制的PLD系统。经过了这么多年的发展，SURFACE公司开发出许多能够满足客户需求的产品和技术。以下就是由SURFACE公司独家提供的这些产品和技术的简要介绍： 一． 基本资料 1.、SURFACE基底运载系统 对机械手来说，热均匀和热隔离的有效性是十分重要的。这其中，精确的热电偶是关键的质量因素。 （图上的文字） SURFACE常规电阻1英寸基底运载器 嵌入式Omicron原子力基底夹 热电偶直接嵌入基底运载系统，30mm的基底中间区域 基底和银酱一起安装在激光切边运载器上。运载系统可转换并直接嵌入热电偶（请见另一页）这保证绝大多数的温度测量。 2、靶切换系统 超高真空技术需要反应釜通过一个负载锁的腔体进行相互作用。从一开始，SURFACE就意识到这一点，并设计了一个靶转盘来实现这一需求。 多层盖板避免了强热的基底转移到靶材。所有靶材是受保护，以防止交叉污染。盖板能够非常容易地被更换，无需工具。靶材将通过磁场操纵或位于中央转移腔的内部转移操纵手被转移。该耦合和靶材的精确检索是自动完成的。靶转盘和切换动力保证了均质烧蚀过程。 3、模块化的系统概念 SURFACE公司多年来一直从事于研发超高真空材料科学系统。在大多数情况下，一个系统的工作负载起始于一个单一的过程控制，往往过了一段时间以后，客户的需求会增多。为了通过附加的过程控制提升整套设备的功能，SURFACE公司认识到需要用完整的模块化概念来解决这个问题。 从向市场提供单一的腔体加上负载锁，一直到提供更多的扩展，而不需要冒任何将来转换而产生的风险。 可以方便客户的细节： 1、 转换过程有照相机支持 从开始我们的束工具生产，我们就决心让使用设备变得更加简便。最早我们使用了一个独立的监视器，连接一台独立的BW照相机。为了实现自动化，增加了第二个TTL监视器来观测实时的彩色照片和相关的其他过程数据。尤其是当我们的激光加热系统应用以后，另外一台显示器对显示实际得图表和数据非常有用。毫无疑问，所有的照片都能够被实时地存储在过程控制系统的硬盘驱动器上。 2、 整套系统的紧凑安装 实验室里的空间是昂贵的，所以任何空间都必须被非常有效地使用。SURFACE公司从一开始就设计将激光放置在控制箱的顶部，并可将其他的激光气舱加入这一过程。 将气舱整合到这个配置里面将使安装变得非常容易和迅速。 这种节约成本的设计克服了PLD安装之前昂贵的本地安装&mdash &mdash 所有项目都被包括在SURFACE的交货中。 气舱通过一个大的方便的管子与客户端的排气设备相连接。 3、 SURFACE公司的交货与交钥匙工程 这方面包括从SURFACE公司将系统直接运来（这些设备的生产基地都是在西欧及周边地区）。运输到客户的卸载地点是关键。但SURFACE公司帮助，甚至客户实验室的建设。客户只需要提供当地的交通和吊车来将货物运送到设备使用地。所有的运输路线在采购决定之前都会被考察到。 4、 SURFACE公司支持S3处理软件。 S3处理软件提供一个全新的立体支持：一键式操作，客户可以直接与SURFACE的技术支持团队进行沟通。软件使用中的问题和操作中的问题经常会发生，通过完全的远程操控，技术支持人员可以为客户提供设备使用各个阶段的帮助。这将防止一些不必要的困难的发生，并为客户提供快捷的响应。这个支持工具在SURFACE系统中是免费的，客户只需提供正确的网络链接。

产品简介：用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作及清理方便的优点,是一款实验室制备材料粉末的理想设备。 产品型号GSL-450-PLD（Pulsed Laser Deposition）安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机，水温小于25℃，水压0.25-0.4Mpa，流量高于12 l/min（加注纯净水或者去离子水）；2、电：AC380V 50Hz，功率大于10KW，波动范围：小于±6％，必须有良好接地（对地电阻小于2Ω）；3、气：设备腔室内需充注氮/氩气（纯度99.99%以上），需自备氮/氩气气瓶（自带?10mm双卡套接头）及减压阀4、场地面积：设备尺寸2000mm×2000mm，承重1000kg以上5、通风装置：需要（外排废气管道）；主要特点1、由于激光光子能量很高，可溅射制备很多困难的镀层：如高温超导薄膜，陶瓷氧化物、氮化物薄膜，多层金属薄膜等；2、体积小，操作简便可以非常容易的连续融化多个材料，实现多层膜制备；3、可以通过控制激光能量和脉冲数，精密的控制膜厚；4、易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性；5、沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；6、工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；技术参数1、极限真空度：≤6.67x10-5 Pa (经烘烤除气后)；2、系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；3、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，20分钟可达到5x10-3 Pa；基片参数1、基片尺寸：可放置φ2″基片（带挡板）；2、基片加热最高温度 800℃±1℃，由热电偶闭环反馈控制，采用抗氧化材料作加热器；3、基片可连续回转，转速5～60转/分，电机驱动磁耦合机构控制；4、基片与靶台之间距离30～90mm可调；转靶参数1、每次可以装四块靶材，靶材尺寸：φ1″或φ2″；2、每块靶材可实现自转，转速5～60转/分，连续可调 ；3、靶通过电机控制换位，靶材屏蔽罩将4块靶材屏蔽，每次只有一个靶材露出溅射成膜，以避免靶材之间的交叉污染；真空腔体1、球型真空室尺寸Ф450mm，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；2、真空腔体带RF150活开门，方便取、放样品；3、RF100法兰2套（1套紫外石英玻璃窗口用于激光器，另1套盲板红外石英玻璃窗口用于测温可选配）；4、RF100光学玻璃窗口1套（用于观察）；产品规格整机尺寸：1800mm×1000mm×1600mm；标准配件1电源控制系统1套2真空获得机组1套3真空测量1套

产品简介：用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作及清理方便的优点,是一款实验室制备材料粉末的理想设备。 产品型号GSL-300-PLD（Pulsed Laser Deposition）安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机，水温小于25℃，水压0.25-0.4Mpa，流量高于12 l/min（加注纯净水或者去离子水）；2、电：AC380V 50Hz，功率大于10KW，波动范围：小于±6％，必须有良好接地（对地电阻小于2Ω）；3、气：设备腔室内需充注氮/氩气（纯度99.99%以上），需自备氮/氩气气瓶（自带?10mm双卡套接头）及减压阀4、场地面积：设备尺寸2000mm×2000mm，承重1000kg以上5、通风装置：需要（外排废气管道）；主要特点1、由于激光光子能量很高，可溅射制备很多困难的镀层：如高温超导薄膜，陶瓷氧化物、氮化物薄膜，多层金属薄膜等；2、体积小，操作简便可以非常容易的连续融化多个材料，实现多层膜制备；3、可以通过控制激光能量和脉冲数，精密的控制膜厚；4、易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性；5、沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；6、工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；技术参数1、极限真空度：≤6.67x10-5Pa (经烘烤除气后)；2、系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；3、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，20分钟可达到5x10-3 Pa；基片参数1、基片尺寸：可放置φ1″基片（带挡板）；2、基片加热最高温度 800℃±1℃，由热电偶闭环反馈控制，采用抗氧化材料作加热器；3、基片可连续回转，转速5～60转/分，电机驱动磁耦合机构控制；4、基片与靶台之间距离30～90mm可调；转靶参数1、每次可以装四块靶材，靶材尺寸：φ1″；2、每块靶材可实现自转，转速5～60转/分，连续可调 ；3、靶通过电机控制换位，靶材屏蔽罩将4块靶材屏蔽，每次只有一个靶材露出溅射成膜，以避免靶材之间的交叉污染；真空腔体1、球型真空室尺寸Ф300mm，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；2、真空腔体带RF150活开门，方便取、放样品；3、RF63法兰2套（1套紫外石英玻璃窗口用于激光器，另1套盲板红外石英玻璃窗口用于测温可选配）；4、RF63光学玻璃窗口1套（用于观察）；产品规格整机尺寸：1800mm×1000mm×1600mm；标准配件1电源控制系统1套2真空获得机组1套3真空测量1套

●本设备在成都光学镀膜机产业链发达基础上，在核心部件、控制系统和结构设计上吸收国际一流产品技术精髓，开发出surpass系列产品。本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜: 电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶（树脂）件上镀制增透膜、带通膜和截止膜等各种膜系的镀膜，能够根据客户需求定制。●形式：φ650-3500mm，箱式一体机，立式前开门，蒸发室和抽气室为整体焊接式，一体机系统。●真空系统：极限真空8X10-5Pa，主泵为复合分子泵低温泵扩散泵可选。●真空测量：配三路数字复合真空计，均采用安全防爆金属测量规。●工件架系统：客户需求定制，转速3～30rpm变频可调，工件盘为球形和行星工件盘可选。●烘烤系统：不锈钢铠装加热器匹配数字功率控制器和PID控制模块，烘烤温度300℃，温控精度1℃，过冲不超过2℃。●电子束蒸发源：E型电子束蒸发源系统（E型）1-2套，主体有屏蔽罩，配置独立高压控制柜。●旋转蒸发源：电动转位和点动转位，配置无氧铜坩埚和石墨坩埚各一套。●电阻蒸发源：2套电阻蒸发源。（选配）●膜厚测试系统：配瑞士inficon石英膜厚在线测量系统， RS-232 和 USB兼容，匹配水冷膜厚探头。●离子源辅助沉积系统：一套（选配离子源或高压离子轰击系统）。●控制系统：成熟可靠的真空镀膜控制系统，工业级10英寸触摸屏（工控机）和西门子PLC，能够实现抽真空、工转烘烤、自动充气、自动镀膜、自动冷却放气等镀膜生产流程；支持半自动和手动等镀膜操作方式。水、电、气路有故障自动报警和保护系统，采用声光报警。●说明：根据用户要求，公司愿与客户联合研发，共享知识产权，公司致力于工艺与设备完美匹配。

v 产品概述：系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成v 设备用途：是一种利用激光高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及最后物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。PLD非常适合生长多元氧化物的多层膜和异质膜，轻松实现对化学成分较复杂的复合物材料进行材料生长。在生长过程中还可以实现引入活性或惰性及混合气等工艺气体，以提高薄膜生长品质v 基片尺寸：8inch（可向下兼容）v 加热温度：1000℃ 加热方式：辐射加热v 靶材：3*4”v 真空度：5*10-7Pav 气路系统：氧气、氮气、氩气v 模块：PLD+进样室v 激光窗口：配有闸板阀光路系统：激光扫描功能

溅射镀膜设备SMD系列（立式）SMD 系列是镀金属膜、ITO、IGZO、诱电体膜等的枚叶式溅射镀膜设备。仅SMD系列就有超过1000台的丰富的采用实绩，在各种各样的生产环境下运转。及时反映从生产现场听取的意见，进一步提高设备的可靠性。产品特性 / Product characteristics&bull 仅基板搬送和侧面镀膜的方式，低particle&bull 节约空间的设计&bull 可以轻松的完成单独基板管理，如成膜条件&bull 根据镀膜物不同选择不同的阴排列&bull 丰富的经验和数据支持，广泛的镀膜工艺对应产品应用 / Product application&bull Display（TFT、智能手机、平板电视（2K、4K）、OLED）产品参数 / Product parameters1、公司介绍深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年，由武汉大学团队孵化，致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。公司主要业务如下:装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。设备服务:驻场或者 oncall，装备维护、保养、售后技术支持。厂务服务:驻场或者 oncall，人力服务及厂务二次配工程。经历五年高速发展，2023 年营业额达 3.2 亿，连年复合增长率达 300%，现处于稳定扩张期。2、成长历程&bull 2020年（公司成立年）&bull 2300万订单额2021年 7000万订单额2022年 2.5亿订单额2023年3.2亿订单额

真空镀膜降温制冷设备 真空镀膜降温制冷设备适用范围：广泛应用于各种工业生产（塑胶工业、电子工业、电镀工业、食品工业、医药工业、印刷工业、汽车工业、航天工业等等）。详细介绍真空镀膜降温制冷设备简单介绍：从事制冷行业及塑机自动化多年，主要研发制造，水冷式水循环工业制冷机系列、冷风机系列、空调系列、冷油机系列、恒温恒湿机等温（湿）度控制设备系列解决方案。水冷式水循环工业制冷机是现代工业先进的制冷设备，是现代工业发展的一款重要的辅助制冷设备，是一门科学的物理设备。是宝驰源公司根据各厂家的需要诚意推出的一系列崭新设计的产品其规格有几十种，制冷范围从1315大卡到1892000大卡，冷冻出水温度范围3℃—30℃。配置说明：主机采用欧美日进口品牌压缩机，运行可靠，效率高，噪音低。意大利进口水泵，压力大，稳定性高，恒久耐用；台湾邦普电脑板控制器，精度高，使用范围广；完善的电气保护系统，具有缺相、相序保护、电流过载保护、高低压保护等，确保机组的正常运行。产品出厂时已调试好，用户只需按使用说明书进行电气线路和冷却水冷冻水管路连接，即可投入使用。运用范围：广泛应用于各种工业生产（塑胶工业、电子工业、电镀工业、食品工业、医药工业、印刷工业、汽车工业、航天工业等等）。 1，UV固化机：　 特点：无级调光+水冷却+金属卤素灯=节能+低温+高效，灯室内采用水冷+风冷式排热，灯管下方加装隔热石英玻璃，有效降低被照物表面温度，保护干燥物品不会受热变形，延长灯管使用寿命；CJW水冷系列 适合：胶印机、凹印机、柔印机、上光涂布机等国内外印刷设备。胶印机如：德国曼罗兰、海德堡、高宝、日本小森、良明、三菱、樱井、北人等。凹印机如：瑞士博斯特、意大利赛鲁迪、西安黑牛、中山松德 2、超声波清洗机：　 经研究证明：超声波作用于液体中时，液体中每个气泡的破裂会产生能量极大的冲击波，相当于瞬间产生几十度的高温和高达上千个大气压，这种现象被称之为“空化作用”，超声波清洗正是用液体中气泡破裂所产生的冲击波来达到清洗和冲刷工件内外表面的作用。超声波在液体中传播，使液体，与清洗槽在超声波频率下一起振动，液体与清洗槽振动时有自己固有频率，这种振动频率是声波频率，所以人们就听到嗡嗡声。　 水清洗液最适宜的清洗温度为40-60℃，尤其在天冷时若清洗液温度低，空化效应差，清洗效果也差。因此有部分清洗机在清洗缸外边绕上加热电热丝进行温度控制，当温度升高后空化易发生，所以清洗效果较好。当温度继续升高以后，空泡内气体压力增加，引起冲击声压下降，反应出这两因素的相乘作用。　　综合经上因素，宝驰源牌工业制冷机降低清洗剂温度，冷凝气态清洗剂，有效防止清洗剂的挥发 3，塑胶业注塑、 挤塑、 吹瓶、 压塑、 吹膜压延膜 ，标准型工业均能适用于上述行业。A，注塑 模具冷却　 塑胶粒经加热溶化后注入模具中，凝结后，开模顶出成型塑胶工件，在连续生产过程中有需用对模具进行冷却，以缩短塑胶凝结时间，提高工件尺寸精度，成型质量、表面质量。冻水温度要求：6～18℃冻水温差要求：±2K 或 ±0.5K机组制冷能力与注塑机注塑量（通常称“安士”）相关，注塑量越大，所需制冷能力亦大。注塑机通常以锁模力标称，这就需要将吨数转换成安士，但吨数与安士并非一一对应，下面的对照表仅为一般情况的下的转换关系，并有一定的上下偏差。 ４．激光 制冷系统元件均采用国际品牌元件,无盘管纯不锈钢材料水箱,具有持久稳定的制冷效果,温度控制精度为±1℃ 带超高、低温度显示及信号输出保护,配置常开和常闭输出以供选择 冷冻水循环系统采用不锈钢多级泵及不锈钢泵,PVC材料连接,无锈蚀之忧,可直接使用纯净水或去离子水 在激光（镭射）系统中的激光发生源、光束控制器和电控柜都可能需要额外冷却。对冻水温度要求通常在15… 22℃之间，对冻水精度要求通常为±1K 或 ±2K。部分设备可能要求±0.5K，另外部分设备对冻水电导率，耐腐蚀等有一定的要求。因此对水质要求非常高，管材采用不锈钢或PVC管。对于激光系统中的特殊应用，都能专门设计工业以满足不同的要求，激光冷冻机主要应用于激光打标机，激光雕刻机，激光焊接机，激光喷码机，激光切割机等等激光加工设备，它能精确控制激光设备所要求的温度，从而保证了激光设备的正常工作。产品特点:采用进口品牌日本松下压缩机，内置安全保护，噪音低，省电耐用，以增加设备的使用寿命。采用高效翅片式冷凝器，具有换热效率高, 外加高效外转子风机，无需接驳冷却塔系统等优点。采用工业纯钛和敞开式不锈钢水箱蒸发器，内置水位保护等装置，以方便客户加水和清洗维护。采用不锈钢多级泵和水路管道，能防止纯水在输送过程中产生固体和其它金属杂质。采用液晶显示微电脑控制器，能精确控制水温，中文界面，操作简单方便, 控制功能齐全。采用德国施耐德电气产品，具有完善的电气保护系统。采有静电喷涂外壳，美观大方，外表板采用快速安装形式，方便使用和维修保养。５．电镀工业-氧化工业 电镀工业产品特点：宝驰源公司生产工业，为满足电镀,氧化,电泳行业对腐蚀的要求，特别设计采用钛材料做的热交换器，可安全有效的在生产中提供高效的辅助！在电镀业氧化、电泳行业，有助把金属与非金属离子稳定下来，使金属离子迅速附上电镀件，氧化件,电泳件,不但增加密度及平滑，并可减少电镀次数，提高生产率。 ６．反应釜工业 反应釜专用工业产品特点：采用欧洲原装进口中低温压缩机，全自动电脑控制器，高效能换热器，还采用国际知名品牌附件，温度控制范围为-40℃～－80℃，广泛应用于精细化工、食品添加剂、玉米深加工(淀粉)、 制药、医药储存等。 ７．水冷螺杆式工业 水冷螺杆式产品特点： （1），高效的半封闭式压缩机，机组的心脏—进口优质螺杆压缩机，其5 :6超高效螺旋转子压缩机，比一般压缩机能效高20-30%.运行可靠效率高、维护容易、精确的容量控制、应用范围广。 非对称转子齿形. 四段或无段式容量控制系统. 内建压差式供油润滑系统. 低振动、低噪音. （2），微机准确控制温度，机组微电脑控制器采用超大萤幕点阵液晶显示，具有良好的全中文人机对话介面实现全功能自动化控制.液晶显示幕即时显示机器工作状况，精确监控组运行在更佳状态，其轻触面板密封好，防水，防尘，抗腐蚀，按键寿命长。分级与无极能量控制，用于一般的空调系统，装备有百分%、75%、50%、25%分级能量控制系统.此确保机组在部分负荷时发挥节能效果.但如需精确控制水温，可按用户要求，所有机型均可装配无级能量控制. （3）运行效率高，换热器采用了高效波纹管，外加高效的螺杆式压缩机，保证了机组的高效率运行.可靠的保护和辅助部件. （4）组具有下列部件以防止任何运转故障：压缩机保护设计时器、过电流继电器、压缩机电机温感器、防冻结温控器、视液镜、油加热器、压缩机逆相保护继电器，高、低压保护，排气高温保护，安全阀，易溶塞. ８，镀膜机专用工业中频真空镀膜机一般要配一台作为镀膜机（主要是圆柱靶）的冷却设备中频设备必须加冷却水，原因是它的频率高电流大。电流在导体流动时有一个集肤效应，电荷会聚集在电导有表面积，这样使电导发热所以采用中孔管做导体中间加水冷却。 ９．低温型工业（零下5- 零下40度）制冷量大，采用世界品牌进口压缩机，低温性能卓越，可靠耐用，产品根据工业应用特点设计，内置低温循环水泵及不锈钢冷冻水箱，使用极为方便，所有与水接触的材料均采用防腐蚀材料，有效防止生锈，腐蚀；微电脑LED数显控制器，具备温度显示，设定温度，自动调节冻水温度及压缩机延时保护功能，选用品牌接触器，继电器等电器元件，配备完善的指示灯，开关，操作一目了然，内置电子水位指示及报警，操作人员通过控制面板就能掌握冻水箱的水位情况，及时补水，独有的模块式设计，每台压缩机的系统安全独位，既使一个系统出现问题，亦不会影响其它系统的正常工作。应用范围广，具体咨询我司销售人员{维护与保养} 1、清洗水塔 使用水冷式必需注重冷却水源的清洁，当冷却水很脏或杂物太多，冷却水流经冷凝器时杂质会附着在铜管内壁，时间一长，铜管内壁会产生很多水垢，这样冷却水与制冷剂之间的热交换明显下降，冷却水从制冷剂带走的热量减少，这就造成散热不良，影响制冷效果。 因此，必须定期清洗冷却水塔，一般至少1周清洗1次冷却水塔（具体情况视环境而定），当出现清洗冷却水塔还会出现高压故障时,那就要考虑清洗冷凝器，才能保证制冷效果。 2、压缩机压缩机运转累计1000小时以后，要对其检查：压缩机冷冻油是否正常压缩机运转时电流是否正常压缩机运转时是否有异常声音 3、其它机器使用一定时间后，由于各方面因素，有必要进行如下事项：对压力开关进行性测试，是否可高低压力报警。对电控箱，要定期把里面灰尘吹干净，同时查看螺丝是否松动，避免机器损坏，以防事故发生。以上如有异常，请尽快通知公司派维修人员处理。售后服务承诺1，本公司维修服务提供全天候服务，即本公司所出售之设备质保期内如出现故障，我公司在接到用户通知后，派出技术及维修人员到场予以处理，保证用户正常工作，至设备故障完全排除为止。2，全天24小时服务咨询

深冷水汽捕集泵工作原理：镀膜机深冷系统可用于-60℃至-150℃超低温工艺生产贮存，镀膜生产加工。镀膜机深冷系统能够将冷冻盘管放置在真空系统中的任何部位，由于水蒸气的水分子呈无规则运动状态，后装机到盘管冷冻部位后，通过其表面的低温冷凝效应，被凝结成固体状态，水蒸气变成了固态冰，水分子不再进入真空系统中运动，提高镀膜机抽真空速率和效果。真空镀膜机在抽真空时需要扩散泵和机械泵配合，而扩散泵工作时，需要冷媒对其工作的冷阱部位进行冷却，防止油蒸汽返油进入真空室，影响真空和镀膜质量；另外在真空室百叶窗后的深冷盘管通液氮进行冷却，捕获水蒸气等气体，可以提高真空抽速和真空度。通过镀膜机深冷系统，可以代替传统的液氮，节省液氮耗量，提高镀膜机抽真空效率和工作效率。性能与参数制冷量（w）3600除霜温度（℃）-20℃~30℃（可调）管式冷阱理论抽气速度（L/S）234000工作噪音（dB）≤78极限真空度（mbar）2x10-824℃冷却水流量（L/min）28深冷管表面积（㎡）1.5水温报警温度（℃）38（可不用冷水机）单路冷阱规格Ф16mm*20m冷却水接口G3/4冷媒管接口12.7 铜管焊口压缩机功率（HP）10除霜时间（min）≤3电源要求380-400V/3P/50Hz制冷间隔时间（min）≤5降温速度（min）≤5冷媒属性环保不可燃设备尺寸（mm）1600*700*700标准冷阱连接管长度（m）2.4设备重量（kg）400初开最小预冷时间（min）35制冷电磁阀防油堵功能有

PICOSUN原子层沉积系统ALD PICOSUNR-200高级ALD镀膜设备 Picosun简介Picosun是yi家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUNALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括zui大的电子制造商，小型的创新型挑战者以及全球领先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN研发工具具有du特的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引领行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。Picosundu特的突破性ALD专业知识可追溯到ALD技术本身的诞生。于1974年在芬兰发明了ALD方法，并在工业上获得了专利。在高质量ALD系统设计方面拥有丰富的经验。高度敬业的Picosun人员拥有无与伦比的ALD经验，并且为ALD的许多专利做出了贡献。 ALD主要应用：1.在集成电路上的应用：Fin-FET和HKMG工艺在Si衬底上长高K绝缘层HfO2，La2O3，Ta2O5，Al2O3等；电容器金属电ji；晶体管栅电ji；TSV电镀铜前长阻挡层和种子层；2.在显示中的应用：在Micro-LED中通过在沟槽中长钝化层来改善光散射性能；在OLED中低温长防水层。3.在激光器和功率器件的应用：VCSEL侧面长AlN、Al2O3保护层；GaN高频器件T Gate刻蚀后去氧化层并镀上保护层。4.验证光刻胶性能：第三方实验室或者工厂FA部门，涂胶后通过低温ALD镀yi层很薄的膜来保持住光刻胶的整体形貌，然后通过FIB+TEM等方法来验证光刻胶性能，如果不镀膜直接上FIB或TEM会破坏光刻胶原有的形貌，无法获得准确的结果。5.其他应用：MEMS/SAW等做高均匀性镀膜，锂电池、医疗等行业等粉末镀膜。PICOSUNR-200标准PICOSUNR-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。热ALD研究工具的市场领导者。它已成为创新驱动的公司和研究机构的首选工具。敏捷的设计实现了zui高质量的ALD薄膜沉积以及系统的zui终灵活性，可以满足未来的需求和应用。专利的热壁设计具有完全du立的入口和仪器，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™ 技术，即使在zui具挑战性的通孔，超高长宽比和纳米颗粒样品上也可以实现出色的均匀性。 PICOSUNR-200 Standard系统配备了功能强大且易于更换的液态，气态和固态化学物质前体源。与手套箱，粉末室和各种原位分析系统集成，无论您现在的研究领域是什么，或以后可能成为什么样的研究领域，都可以进行高效，灵活的研究，并获得良好的结果。 PICOSUNR-200高级PICOSUNR-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。群集工具，Picoflow™ 扩散增强剂，卷对卷室，RGA，UHV兼容性，N2发生器，气体洗涤器，定制设计，用于惰性装载的手套箱集成PICOSUNR-200高级ALD系统是高级ALD研究工具的全球市场领导者，已有数百个客户安装。它已成为创新驱动的公司和研究机构的首选工具。敏捷的设计实现了zui高质量的ALD薄膜沉积以及zui终的系统灵活性，可以满足未来的需求和应用。专利的热壁设计具有完全du立的入口和仪器，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™ 技术，即使在zui具挑战性的通孔，超高长宽比和纳米颗粒样品上也能实现出色的均匀性。 PICOSUNR-200 Advanced系统配备了功能强大且易于更换的液态，气态和固态化学品前体源。高效且获得专利的远程等离子选件可实现金属沉积，而没有短路或等离子损坏的风险。与手套箱，UHV系统，手动和自动装载机，集群工具，粉末仓，卷对卷仓以及各种原位分析系统集成在yi起，无论您现在或将来的研究领域如何，都可以高效，灵活地进行研究，并获得良好的结果稍后。

金属镀膜设备是实验室常用的镀膜设备，是一种溅射工艺.AJA成立后2年内，AJA就研发出了的ATC系列溅射系统，共焦溅射设备，带旋转基片和原位偏转磁控溅射靶源。技术突破实现了薄膜均匀性，并且可以控制单层、多层以及合金薄膜沉积。AJA专注磁控镀膜及PVD领域长达30多年，在各类别细分领域应用方面从研发到兼顾批产有着稳定的经验。AJA不仅提供成熟的研发和批量工艺，并且在的研究和应用领域，比如：声学膜、光学膜、磁学电学复合或多层多类别单膜、金属膜及合金薄膜等方面均有好的应用。其磁控核心部件如靶枪等更是广为使用。在集成化，多腔室应用方面，AJA也足具经验，从实验室到新兴材料电子行业都在积极吸收和采纳AJA的解决方案。AJA进入中国市场首先以客户（科研院所和企业）为主要应用，其中有接近一半是用户慕名主动采购。

产品型号：ei-501 本设备是用于在半导体或特种材料基板上进行金属、ITO等材料蒸镀的批处理式高真空蒸发镀膜设备。可通过触摸屏进行集中操作控制，自动完成从真空排气至镀膜的所有过程。适用于半导体、LED、电力电子等行业芯片的科研及小批量生产。 ※产品优点 ※产品用途◆占地面积小 ◆Power device ◆易操作&易管理 ◆LED，LD行业◆高生产量 ◆研究开发◆设备构造简洁，便于安装维护 ◆电力电子行业 ※产品特征 ◆可以搭载多种蒸发源(EB，RH、EB+RH等) ◆可以搭载多种夹具，对应不同工艺(lift-off, planetary,satellite 等). ◆可以搭载多种基板 基板尺寸从2寸到6寸，基板材料为硅，玻璃 ◆等可以通过LCD 触摸屏进行操作 ◆PC控制系统以及各种功能(工艺参数，记录数据，维护保养) ※内部结构 ※产品配置

克普斯镀膜机真空腔体:——按照客户要求，加工订制；——一对一专业出图设计；——可配套指定真空机组系统；——耐高温、耐腐蚀；——高质量、高精度；加工工艺，采用真空焊接技术拼装焊接；先进的真空捡漏设备，更加保证产品的质量；我公司克普斯采用三维建模软件，按照实际比例建立三维模型，根据客户文字、语言草图等需求描述，专业设计出适合客户所需产品方案（在方案定稿之前所有设计不收取任何费用）。常见真空腔体技术性能:材质:不锈钢、铝合金等腔体适用温度范围:-190°C~+1500°C(水冷)空封方式:氟胶O型圈或金属无氧铜圈出厂检测事项:1、真空漏率检测1.3*10-10mbar*//s2、水冷水压检测:8公斤24小时无泄漏检测.内外表面处理:拉丝抛光处理、喷砂电解处理、酸洗处理、电解抛光处理和镜面抛光处理等.不锈钢真空腔体加工,铝合金真空腔体的品质获得并通过|S0 -9001质量标准体系认证,所有产品均经过真空氦质谱检漏仪出厂,产品被用与航空航天、科研、核电、镀膜、真空炉业、能源、医药、冶金、化工等诸多行业,如有需要欢迎咨询！克普斯真空为高校、科研院所设计加工高真空、超高真空的真空腔体，可以根据客户的技术要求(PPT)开发设计，也可以按图(草图、CAD图、照片)设计加工。可以加工的真空腔体形状:方腔、圆柱型、D型及其它要求的形状 可以加工的真空腔体材质:不锈钢材质 (304、304L、316316L)、碳钢材质、铝材质、有机玻璃材质等。真空产品设计能力、完善的真空机械加工体系以及快速的服务啦应支持，承接各种规格型号的真空室开发设计、按图定制等。我们为高真空或超高真空应用设计及制造的各种真空腔体，包括为高校和科研院所设计真空试验腔体、真空环境模拟腔体、真空放电测试腔体、真空激光焊接腔体、CVD反应腔体、真空镀膜室等。另外，客戶订制的真空室都可通过我们的工程设计，与您现有的真空系统融合，成为一套功能完整的系统。也可以通过我们的工程设计，预留标准接口及装配位置，方便您日后增配或更换真空部件，实现系统的升级或功能的转换。我们能定制的真空室结构与材质配置多种结构型态:方腔、圆柱型、D型及其它要求的形状:多种材质:不锈钢材质 (304、304L、316,、316L)、碳钢材质、铝材质、有机玻璃材质。所有材质是经过特别选择的，可达到低磁渗透性的要求。我们的开发设计人员均具有10年以上真空行业工作经验，独立开发设计上百套涵盖真空室的相关产品 我们使用业界*的CNC加工中心以及其它配套的加工机械，并业已形成完善的真空机械加工体系。我们的质量保证及售后服务能力我们的产品严格遵照相关标准，并执行原材料检验、加工在线检测、半成品检测及成品出厂检测，对于非标定制的产品与客户联合检测验收 需要特别指出的是对于真空室，所有接缝处、焊接处及法兰连接处都要通过严格的观察检验及氨质谱检漏仪检漏测试，并对整个系统进行漏率测试，系统漏率优于 8.0x10-8 Pa.L/S.实验室真空系统,真空腔体,真空探针台,克普斯镀膜机真空腔体

ALD当今zui 复杂的薄膜镀膜技术。 原子层沉积（ALD）是一种先进的薄膜涂覆方法，可用于制造超薄，高度均匀和共形的材料层，以用于多种应用。 ALD使用顺序，自限和表面受控的气相化学反应来控制纳米/亚纳米厚度范围内的薄膜生长。由于成膜机理–气体直到与表面接触才发生反应，这意味着膜的生长是通过连续的原子层从表面“向上”进行的– ALD膜致密，裂纹，缺陷和针孔。原子的自由度及其厚度，结构和化学特性可以精确控制。 ALD过程是数字可重复的，并且可以在相对较低的温度下执行。这不仅可以构造单一材料层，还可以构造掺杂，混合或渐变的层和纳米层压板，而较低的工艺温度还可以涂覆敏感的材料，例如塑料和聚合物。 ALD材料的范围很广，例如从氧化物，氮化物，氟化物，碳化物和硫化物，形成三元化合物，金属（包括贵金属），杂化材料和聚合物。ALD使我们的现代，移动和互联生活成为可能。在过去的几年中，ALD的应用数量呈指数增长。如今，结合摩尔定律和不断减小的IC（集成电路）器件尺寸，ALD是wei一一种可以制造功能材料层足够薄但仍具有zui 高质量，均匀性，一致性和结构完整性的方法。在当今的存储器，逻辑和硬盘组件中常见的纳米级特征和高长宽比结构。简而言之，ALD使我们的现代移动通信设备以及越来越紧凑和高效的计算机成为可能。ALD正在遍及全球工业ling域。除了IC组件制造之外，ALD的其他大规模工业应用还可以在传感器，LED和其他III-V器件以及MEMS（微机电系统）制造中找到。 ALD膜还用于光学和光电，防锈蚀和腐蚀保护以及可再生能源应用，例如太阳能，该方法为能量存储和生产（例如高级薄膜电池和燃料电池），生物相容性和医疗设备和植入物，生态包装材料，防潮和气密密封剂层，装饰性涂层以及疏水/亲水性涂层的生物活性表面功能化。 PICOSUNR-200高级ALD镀膜设备 Picosun简介Picosun是一家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUNALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括zui 大的电子制造商，小型的创新型挑战者以及全球ling先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN研发工具具有独特的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引ling行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。Picosun独特的突破性ALD专业知识可追溯到ALD技术本身的诞生。于1974年在芬兰发明了ALD方法，并在工业上获得了专利。在高质量ALD系统设计方面拥有丰富的经验。高度敬业的Picosun人员拥有无与伦比的ALD经验，并且为ALD的许多专利做出了贡献。 ALD主要应用：1.在集成电路上的应用：Fin-FET和HKMG工艺在Si衬底上长高K绝缘层HfO2，La2O3，Ta2O5，Al2O3等；电容器金属电极；晶体管栅电极；TSV电镀铜前长阻挡层和种子层；2.在显示中的应用：在Micro-LED中通过在沟槽中长钝化层来改善光散射性能；在OLED中低温长防水层。3.在激光器和功率器件的应用：VCSEL侧面长AlN、Al2O3保护层；GaN高频器件T Gate刻蚀后去氧化层并镀上保护层。4.验证光刻胶性能：第三方实验室或者工厂FA部门，涂胶后通过低温ALD镀一层很薄的膜来保持住光刻胶的整体形貌，然后通过FIB+TEM等方法来验证光刻胶性能，如果不镀膜直接上FIB或TEM会破坏光刻胶原有的形貌，无法获得准确的结果。5.其他应用：MEMS/SAW等做高均匀性镀膜，锂电池、医疗等行业等粉末镀膜。PICOSUNR-200标准PICOSUNR-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。热ALD研究工具的市场ling导者。它已成为创新驱动的公司和研究机构的shou选工具。敏捷的设计实现了zui 高质量的ALD薄膜沉积以及系统的zui 终灵活性，可以满足未来的需求和应用。专利的热壁设计具有完全独立的入口和仪器，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™ 技术，即使在zui 具挑战性的通孔，超高长宽比和纳米颗粒样品上也可以实现出色的均匀性。 PICOSUNR-200 Standard系统配备了功能强大且易于更换的液态，气态和固态化学物质前体源。与手套箱，粉末室和各种原位分析系统集成，无论您现在的研究ling域是什么，或以后可能成为什么样的研究ling域，都可以进行高效，灵活的研究，并获得良好的结果。 PICOSUNR-200高级PICOSUNR-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。群集工具，Picoflow™ 扩散增强剂，卷对卷室，RGA，UHV兼容性，N2发生器，气体洗涤器，定制设计，用于惰性装载的手套箱集成PICOSUNR-200高级ALD系统是高级ALD研究工具的全球市场ling导者，已有数百个客户安装。它已成为创新驱动的公司和研究机构的shou选工具。敏捷的设计实现了zui 高质量的ALD薄膜沉积以及zui 终的系统灵活性，可以满足未来的需求和应用。专利的热壁设计具有完全独立的入口和仪器，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™ 技术，即使在zui 具挑战性的通孔，超高长宽比和纳米颗粒样品上也能实现出色的均匀性。 PICOSUNR-200 Advanced系统配备了功能强大且易于更换的液态，气态和固态化学品前体源。高效且获得专利的远程等离子选件可实现金属沉积，而没有短路或等离子损坏的风险。与手套箱，UHV系统，手动和自动装载机，集群工具，粉末仓，卷对卷仓以及各种原位分析系统集成在一起，无论您现在或将来的研究ling域如何，都可以高效，灵活地进行研究，并获得良好的结果稍后。 （*）等离子发生器技术特点：远程血浆源安装到装载室并与反应室连出色性能的适用于不同化学性质的蓝宝石涂药器商用微波等离子体发生器，具有300 – 3000 W可调功率，2.45 GHz频率保护气体在中间空间中流动（无等离子体物质的反向扩散）在相同的沉积过程中，等离子体和热ALD循环的可能性，而无需对系统进行硬件更改 PICOSUNP-300BPICOSUNP-300B ALD系统是专为生产MEMS设备（例如打印头，传感器和麦克风）以及各种3D物品（例如机械零件，玻璃或金属薄板，硬币，手表零件和珠宝，镜片，光学器件以及医疗设备和植入物。PICOSUNP-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的专利热墙设计与完全分开的入口集成在一起，我们可以生产出具有优异产量，低颗粒水平以及卓越的电学和光学性能的zui 高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护，确保了系统停机时间zui 少，市场拥有成本zui 低。我们专有的Picoflow™ 扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺，在超高深宽比的基材上实现高度保形的涂层。PICOSUNP-300B ALD系统是专门为MEMS和3维零件生产中的批处理而设计的，例如机械零件，硬币，钟表零件和珠宝，镜片，光学元件和医疗设备，外科植入物和植入物的涂层设备（PicoMEDICAL™ 解决方案）。该系统速度快，可靠性高且易于维护。 PICOSUNP-300BVPICOSUNP-300BV ALD系统是专门为生产LED，分立器件和MEMS设备（例如打印头，传感器和麦克风）而设计的。PICOSUNP-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的专利热墙设计与完全分开的入口集成在一起，我们可以生产出具有优异产量，低颗粒水平以及卓越的电学和光学性能的zui 高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护，确保了系统停机时间zui 少，市场拥有成本zui 低。我们专有的Picoflow™ 扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺，在超高深宽比的基材上实现高度保形的涂层。PICOSUNP-300BV ALD系统代表了工业ALD的jian端。该系统设计用于半自动处理晶圆批次。该工具针对快速批量生产进行了优化，可以通过SECS / GEM选件集成到工厂自动化中。带有加热选件的真空加载系统能够对敏感基材进行清洁处理，并沉积诸如金属氮化物之类的材料。 PICOSUNP-300SPICOSUNP-300S ALD系统是专门为生产IC组件（例如微处理器，存储器和硬盘驱动器）而设计的，并且还适用于MEMS设备（例如打印头，传感器和麦克风）。PICOSUNP-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的专利热墙设计与完全分开的入口集成在一起，我们可以生产出具有优异产量，低颗粒水平以及卓越的电学和光学性能的zui 高质量的ALD膜。灵活的设计以及易于快速的维护，确保了系统停机时间zui 少，市场拥有成本zui 低。我们专有的Picoflow™ 扩散增强剂技术可通过经过生产验证的工艺，在超高深宽比的基材上实现高度保形的涂层。PICOSUNP-300S ALD系统代表了工业ALD的jian端。该系统旨在与行业标准真空集群平台结合使用，对单个晶圆进行全自动处理。可以通过SECS / GEM选件将SEMI S2 / S8认证的P-300S ALD系统集成到工厂自动化中，它们可以满足半导体行业zui 严格的清洁度要求。PICOSUNP-300S是IC创新驱动行业的shou选ALD系统。 PICOSUNP-1000PICOSUNP-1000 ALD系统设计用于批量喷涂各种3D物品，例如机械零件，玻璃或金属薄板，硬币，手表零件和珠宝，镜片，光学器件以及医疗设备和植入物。PICOSUNP-1000 ALD系统设计用于批量处理各种3维物品，例如机械零件，硬币，钟表零件和珠宝，镜片，光学器件和医疗设备，外科植入物和可植入设备（PicoMEDICAL™ 解决方案）在生产环境中。主要应用包括各种钝化层和阻挡层，以显着提高涂层产品的性能和使用寿命。 PICOSUNP-1000 ALD系统提供创新且灵活的设计，可通过经过生产验证的工艺，以优异的均匀性，zui 高的产量，zui 小的系统停机时间和较低的拥有成本，实现zui 高质量的ALD沉积。PICOSUNP-1000 ALD系统可靠，快速且易于维护，代表了工业ALD的前沿。 PICOSUNMorpherPICOSUNMorpher ALD产品平台旨在颠覆Beyond和超越摩尔技术中的200毫米晶圆产业。它以ling先的过程质量，可靠性和操作敏捷性，实现了MEMS，传感器，LED，激光器，功率电子器件，光学器件和5G组件的快速，全自动，高通量生产。从公司研发到生产和铸造制造的所有业务ling域，Morpher都能适应您行业不断变化的需求和客户的需求。基质材料，基质和批量大小方面的ling先多功能性以及广泛的工艺范围，使Morpher真正成为可转变的，包罗万象的制造设施，使您始终引ling行业。PICOSUNMorpher设计用于结合行业标准的单晶圆真空集群平台来全自动处理晶圆批次。 性的获得专利的晶圆批量翻转机制使该系统能够与半导体生产线集成，在该生产线中，大多数处理都是在水平几何结构中进行的，并且SEMI S2 / S8认证可确保该系统与业界zui 严格的标准兼容。PICOSUNMorpher ALD系统可通过SECS / GEM协议集成到工厂自动化中，而zui 先进的软件可通过直观，精简的图形用户界面为系统提供简单，安全和无故障的操作。凭借我们获得专利的双室，热壁反应器设计以及完全分离的前驱体导管和入口，我们可以创造出zui 高质量的ALD膜，具有优异的产率，低颗粒水平以及出色的电学和光学性能。紧凑的，符合人体工程学的设计以及便捷的维护，确保了系统停机时间zui 少，市场拥有成本zui 低。 PICOSUNR-200标准 PICOSUNR-200标准PICOSUNR-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。 技术特点 典型的基材尺寸和类型 50-200 mm单晶片156毫米x 156毫米太阳能硅晶片3D物件粉末和颗粒小批量多孔，贯通孔和高长宽比（高达1：2500）加工温度 50 – 500°C典型流程 Al2O3，TiO2，SiO2，Ta2O5，HfO2，ZnO，ZrO2，TiN，AlN，金属如Pt或Ir基板加载 用气动升降机手动装载磁力锁机械臂前体 液体，固体，气体，臭氧多达6个信号源，带4个独立的进样口选件 Picoflow™ 扩散增强剂，RGA，N2发生器，气体洗涤器，定制设计，与手套箱兼容，可惰性装载PICOSUNR-200标准ALD系统是热ALD研究工具的市场ling导者。它已成为创新驱动的公司和研究机构的shou选工具。 敏捷的设计实现了zui 高质量的ALD薄膜沉积以及系统的zui 终灵活性，可以满足未来的需求和应用。专利的热壁设计具有完全独立的入口和仪器，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™ 技术，即使在zui 具挑战性的通孔，超高长宽比和纳米颗粒样品上也可以实现出色的均匀性。 PICOSUNR-200 Standard系统配备了功能强大且易于更换的液态，气态和固态化学物质前体源。与手套箱，粉末室和各种原位分析系统集成，无论您现在的研究ling域是什么，或以后可能成为什么样的研究ling域，都可以进行高效，灵活的研究，并获得良好的结果。 PICOSUNR-200高级 PICOSUNR-200高级PICOSUNR-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，硬币和医疗植入物。 技术特点 典型的基材尺寸和类型 50-200 mm单晶片156毫米x 156毫米太阳能硅晶片3D物件粉末和颗粒小批量多孔，贯通孔和高长宽比（高达1：2500）加工温度 50 – 500°C，等离子450°C（650°C，可根据要求提供加热卡盘）典型流程 Al2O3，TiO2，SiO2，Ta2O5，HfO2，ZnO，ZrO2，AlN，TiN，金属如Pt或Ir基板加载 用气动升降机手动装载磁力锁机械臂搬运机器人半自动装载使用集群工具在盒式磁带间加载前体 液体，固体，气体，臭氧，等离子（*）多达12个带有6个独立进样口的离子源（如果选择等离子选项，则为7个）选件 群集工具，Picoflow™ 扩散增强剂，卷对卷室，RGA，UHV兼容性，N2发生器，气体洗涤器，定制设计，用于惰性装载的手套箱集成PICOSUNR-200高级ALD系统是高级ALD研究工具的全球市场ling导者，已有数百个客户安装。它已成为创新驱动的公司和研究机构的shou选工具。 敏捷的设计实现了zui 高质量的ALD薄膜沉积以及zui 终的系统灵活性，可以满足未来的需求和应用。专利的热壁设计具有完全独立的入口和仪器，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™ 技术，即使在zui 具挑战性的通孔，超高长宽比和纳米颗粒样品上也能实现出色的均匀性。 PICOSUNR-200 Advanced系统配备了功能强大且易于更换的液态，气态和固态化学品前体源。高效且获得专利的远程等离子选件可实现金属沉积，而没有短路或等离子损坏的风险。与手套箱，UHV系统，手动和自动装载机，集群工具，粉末仓，卷对卷仓以及各种原位分析系统集成在一起，无论您现在或将来的研究ling域如何，都可以高效，灵活地进行研究，并获得良好的结果稍后。 （*）等离子发生器技术特点： 远程血浆源安装到装载室并与反应室连接出色性能的适用于不同化学性质的蓝宝石涂药器商用微波等离子体发生器，具有300 – 3000 W可调功率，2.45 GHz频率保护气体在中间空间中流动（无等离子体物质的反向扩散）在相同的沉积过程中，等离子体和热ALD循环的可能性，而无需对系统进行硬件更改以下相关标准用于评估电源的符合性：DIN EN ISO 12100：电源的开发和制造满足SEMI S2-0310的要求

一,＞99.5% 光纤镀膜反射镜 980/1310/1550/2000nm光纤全反射镜用于掺铒光纤放大器的实例。其中，将一个光纤后向反射器置于一根掺饵光纤的末端，将光朝着入射光的方向反射回光纤中。用一个环形器直接将输入光和放大输出光导入其合适的光路中，这样一来信号光可以两次通过增益光纤，更有效吸收利用了放大器的增益。后向反射器的另一个实际应用为构建可调后向反射器，如图2 所示。下游后向反射器的反馈信号会引起一些器件的不稳定，如激光二极管等。通过采用一个可调后向反射器，就可以确定器件对后向反射的灵敏度。可调衰减器可以让用户对器件引入标准反射。通过分析后向反射效应，用户可以计算器件的噪声水平、误码率、失真等参数。图1.采用后向反射器和一个环形器的全光纤放大器光纤镀膜反射镜 980/1310/1550/2000nm,光纤镀膜反射镜 980/1310/1550/2000nm产品特点● 温度误差小● 反射率高● 长期可靠性高技术参数参数单位数值工作波长 (λc)nm980/1060/1310/1550/2000带宽nm±10典型插入损耗dB0.8最大插入损耗dB1.0反射率%＞99.5Max. PDL at 23°C, λcdB0.2最大操作功率 (CW)mW300最大拉伸力N5光纤类型SMF-28e Fiber or Specify操作温度℃-5 to +70存储温度℃-40 to +85通用参数单位 ( mm )产品应用● 光纤电流传感器● 光纤网络测试和分析● 光纤传感订购信息FM-W□□□□-XXW□□□□: 工作波长98: 980m13: 1310m15: 1550nm20: 2000nmXX: 光纤以及连接头类型SN=SMF-28E Fiber + NoneSA=SMF-28E Fiber + FC/APCSP=SMF-28E Fiber + FC/PCPP=PM Fiber Fiber + FC/PCPA=PM Fiber Fiber + FC/APC二,LAYERTEC 大带宽低色散 金属反射镜 (铝、银或金涂层 适用于超快应用)铝、银或金的金属层一方面具有在宽带宽上反射光的优点，另一方面不改变各个波相对于彼此的相位位置。 因此，金属镜是短脉冲激光光束引导的理想选择。额外的介电涂层可保护金属层免受与空气成分（氧气、硫）的化学反应，并具有长期稳定性。 同时，可以在有限的光谱范围内提高反射率，而相位响应几乎不受影响。这种反射增强金属镜也经常用作扫描仪光学器件。金属是适用于低激光功率应用的成熟反射镜材料。 它们在宽光谱带宽（尤其是中红外范围）内提供高反射率，并且与色散相关的传播时间差异可以忽略不计。LAYERTEC 采用磁控溅射工艺生产杂散光损耗极低的金属涂层。我们生产金反射镜、银反射镜和铝反射镜。 对于银反射镜和铝反射镜，建议施加额外的保护层。 这可以防止它们氧化并允许对其进行清洁。此外，可以通过有针对性地应用其他层来提高特定波长的反射率。LAYERTEC 大带宽低色散 金属反射镜 (铝、银或金涂层 适用于超快应用),LAYERTEC 大带宽低色散 金属反射镜 (铝、银或金涂层 适用于超快应用)通用参数按涂层波长共87条Type波长R 反射率T 投射率 D (群延迟色散)入射角偏振规格种类HR157  nm0°unpol.8HR220  -  280  nmunpol.17HR220  -  280  nm  90  %0°unpol.1HR220  -  400  nm  90  %0°unpol.3HRHR248  nm352  nm  85  %  85  %0°0°unpol.unpol.1HR260  -  360  nm  90  %0  fs² 0  -  45°s,p-Pol.4HRHRHR266  nm400  nm800  nm  80  %  80  %  80  %0  -  45°0  -  45°0  -  45°s,p-Pol.s,p-Pol.s,p-Pol.4HRHRHR266  nm405  nm810  nm  85  %  85  %  85  %0  -  45°0  -  45°0  -  45°unpol.unpol.unpol.3RRR266  nm405  nm810  nm  85  %  85  %  85  %0  -  45°0  -  45°0  -  45°unpol.unpol.unpol.38HR266  -  450  nm  90  %0°unpol.1R266  -  810  nm  85  %0  -  45°unpol.1HR400  -  700  nm  98  %0  fs² 0°unpol.3HR400  -  700  nm  98  %0°unpol.9三,LAYERTEC 转向镜 (高功率反射镜)生产过程中（抛光过程）的 45° 椭圆形转向镜（所谓的“香肠片”）偏转镜专门改变入射光的方向。 通过选择涂层，可以针对特定波长范围和特定入射角调整镜子的反射率。 此外，镜子还可以针对振荡（偏振）方向和高破坏阈值进行优化。LAYERTEC 生产几乎所有入射角和偏振类型的偏转镜，无论是针对一种波长优化的布拉格镜还是宽带镜。 例如，根据要求，可以适应高激光功率和/或短脉冲。 此外，还可以计算涂层在Max. 反射时的z低损耗或定义的残余透射率。LAYERTEC 转向镜 (高功率反射镜),LAYERTEC 转向镜 (高功率反射镜)通用参数高功率反射转向镜,产品列表210条(按涂层波长)类型波长范围R(反射率)T(透射率)D(群延迟色散)入射角偏振规格种类HR157  nm   89  % 45°unpol.3HR157  nm89  %45°unpol.1HR157  nm  92  %27°unpol.1HR162  nm  90  %45°unpol.1HR193  nm  95  %45°unpol.4HR193  nm  96  %30°unpol.1HRHRHR200  nm195  -  205  nm200  nm  95  %  97  %  93  %45°45°45°unpol.s-Pol.p-Pol.2HR205  nm  95  %45°unpol.1HRHRHRAR / HT210  nm205  -  215  nm210  nm400  -  1000  nm  95  %97  %93  %&ensp &ensp &ensp &ensp 2  %45°45°45°45°unpol.s-Pol.p-Pol.p-Pol.1HR213  nm  98  %45°unpol.1HR235  nm  97  %45°unpol.1HR248  nm  97  %45°unpol.1HR248  nm  99  %45°unpol.2HR248  nm  99.5  %45°unpol.1HRHR248  nm248  nm  99.7  %  99  %45°45°s-Pol.p-Pol.2HR252  -  268  nm  99  %45°s,p-Pol.1HRHR257  nm515  nm  98  %  99.5  %45°45°unpol.unpol.1HR257  -  262  nm  99.5  %45°unpol.1HR260  -  290  nm  99.5  %45°unpol.1HR262  -  266  nm  99.5  %45°unpol.2HR263  -  268  nm  99.5  %45°unpol.1HRHR266  nm400  nm  98  %  99  %45°45°s,p-Pol.s,p-Pol.2HRHRHR266  nm400  nm800  nm  98  %  99  %  99  %45°45°45°s,p-Pol.s,p-Pol.s,p-Pol.2HRPR266  nm532  nm  99  %  50  %45°45°unpol.unpol.1HRR266  nm532  nm  99  %  50  %45°45°unpol.unpol.2HR266  nm  99.5  %45°unpol.8HR266  nm  99.6  %45°unpol.1RRR266  nm405  nm810  nm  85  %  85  %  85  %0  -  45°0  -  45°0  -  45°unpol.unpol.unpol.4HR270  nm  99.5  %45°unpol.1HR270  nm99.6  %45°unpol.1HR270  nm  99.6  %45°unpol.1HR280  nm  99.5  %45°unpol.2HR308  nm  99.5  %45°unpol.1HR308  nm  99.8  %45°unpol.1HRHR308  nm308  nm  99.9  %99.5  %45°45°s-Pol.p-Pol.3HR313  nm  99.8  %45°unpol.1HRHR325  -  600  nm325  -  600  nm  99.5  %  98  %&ensp 0  fs² 45°45°s-Pol.p-Pol.1HRHRHRHR330  -  470  nm370  -  450  nm680  -  950  nm700  -  900  nm  99.8  %  99.6  %  99.8  %  99.6  %45°45°45°45°s-Pol.p-Pol.s-Pol.p-Pol.1HR340  -  500  nm  99  %0  fs² 45°p-Pol.3HRHR340  -  650  nm400  -  650  nm  99  %  99.5  %0  fs² 0  fs² 45°45°s-Pol.s-Pol.1HRHRHR343  nm515  nm1030  nm  99.4  %  99.8  %  99.9  %45°45°45°unpol.unpol.unpol.3HRHR343  nm1030  nm  99.5  %  99.9  %45°45°unpol.unpol.1四,LAYERTEC 激光反射扫描镜 (用于材料加工)扫描镜用于激光材料加工，使激光束在工件上快速灵活地移动。 它们的背面通常被磨成片状。 由于这种特殊的设计，它们非常薄且轻，以实现方向的快速改变。扫描镜是 LAYERTEC 产品系列的重要组成部分。 为此目的开发的层设计提供了高性能稳定性和必要的反射角不变性。 尤其是金属基镜与介电层的组合可增加功率激光器的反射率，从而允许在加工区域区域直接成像。LAYERTEC 激光反射扫描镜 (用于材料加工),LAYERTEC 激光反射扫描镜 (用于材料加工)通用参数扫描镜按型号9条型号规格正/背面形状及涂层涂层参数Turning Mirror 103512Corning 7980 2F or equal&emptyv = 25  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2)HRu(22.5°,355nm)99%Scanning Mirror 100490Corning 7980 2F or equal&emptyv = 12.7  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2) HRs,p(0-45°,420-670nm)99.9%Turning Mirror 168353Corning 7980 2F or equal&emptyv = 25  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2) HRs,p(0-45°,420-670nm)99.9%Scanning Mirror 111448Corning 7980 2F or equal&emptyv = 25  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2)HRs,p(0-45°,470-490nm)99.8%Scanning Mirror 100542Corning 7980 2F or equal&emptyv = 25  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2)HRs,p(0-45°,532nm)99.9%Turning Mirror 107010Corning 7980 2F or equal&emptyv = 12.7  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2)HRs,p(0-45°,633nm)99.95%HR(0°,580-745nm)99.95%HRs,p(45°,545-660nm)99.95%Scanning Mirror 126680Corning 7980 2F or equal&emptyv = 25  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2) HRs,p(22.5-45°,960-1090nm)99.9%Scanning Mirror 112673Corning 7980 2F or equal&emptyv = 12.7  mmt = 3.05  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2) HRu(0-45°,1064nm)99.8%Scanning Mirror 100482Corning 7980 2F or equal&emptyv = 12.7  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2) HRu(0-45°,1064nm)99.8%扫描镜 按涂层波长共7条类型波长范围R(反射率)T(透射率)D(群延迟色散)入射角偏振规格种类HR355  nm  99  %22.5°unpol.1HR420  -  670  nm  99.9  %0  -  45°s,p-Pol.2HR470  -  490  nm  99.8  %0  -  45°s,p-Pol.1HR532  nm  99.9  %0  -  45°s,p-Pol.1HRHRHR633  nm580  -  745  nm545  -  660  nm  99.95  %  99.95  %  99.95  %0  -  45°0°45°s,p-Pol.unpol.s,p-Pol.1HR960  -  1090  nm  99.9  %22.5  -  45°s,p-Pol.1HR1064  nm  99.8  %0  -  45°unpol.2公司简介筱晓(上海)光子技术有限公司成立于2014年,是一家被上海市评为高新技术企业和拥有上海市专精特新企业称号的专业光学服务公司，业务涵盖设备代理以及项目合作研发，公司位于大虹桥商务板块，拥有接近2000m² 的办公区域，建有500平先进的AOL(Advanced Optical Labs)光学实验室，为国内外客户提供专业技术支持服务。公司主要经营光学元件、激光光学测试设备、以及光学系统集成业务。十年来,依托专业、强大的技术支持，以及良好的商务支持团队，筱晓的业务范围正在逐年增长。目前业务覆盖国内外各著名高校、顶级科研机构及相关领域等诸多企事业单位。筱晓拥有一支核心的管理团队以及专业的研发实验室，奠定了我们在设备的拓展应用及自主研发领域坚实的基础。主要经营激光器/光源半导体激光器（DFB激光器、SLD激光器、量子级联激光器、FP激光器、VCSEL激光器）气体激光器（HENE激光器、氩离子激光器、氦镉激光器）光纤激光器（连续激光器、超短脉冲激光器）光学元件光纤光栅滤波器、光纤放大器、光学晶体、光纤隔离器/环形器、脉冲驱动板、光纤耦合器、气体吸收池、光纤准直器、光接收组件、激光控制驱动器等各种无源器件激光分析设备高精度光谱分析仪、自相关仪、偏振分析仪，激光波长计、红外相机、光束质量分析仪、红外观察镜等光纤处理设备光纤拉锥机、裸光纤研磨机

六源有机无机联合蒸发镀膜设备适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。OPV系列真空蒸发镀膜与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室，将真空蒸发系统工作室置于Glove box无水、无氧、无尘的超纯环境中，PVD与Glove box硬件无缝对接，操控融合一体，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。产品型号六源有机无机联合蒸发镀膜设备主要特点1、样品在镀膜过程中，带有烘烤加热功能，最高烘烤加热温度为：室温～180℃，测温控温。2、设备带有断水断电连锁保护报警装置、防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：镀膜腔室尺寸约为600×450×450mm，不锈钢材料，方形前后开门结构，内带有防污板。2、抽气系统：采用分子泵+机械泵抽气系统： 真空度：镀膜室的极限真空≤6×10-4Pa； 系统漏率≤1×10-7PaL/s。3、蒸发源系统： 有机源蒸发源4个，容积5ml，2台蒸发电源，可测温控温，加热温度400℃，功率0.5Kw； 挡板：蒸发源挡板采用自动磁力控制方式，控制其开启； 安装：蒸发源安装在真空室的下底上。4、样品架系统：样品架可放置大小为Φ120mm的样品，载玻片；样品架可旋转，旋转速度为：0～30转/分；安装：样品安装在真空室的上盖上，蒸发源安装在真空室的下盖上，向上蒸发镀膜，蒸发源都带有挡板装置。7、 5、无机蒸发源2套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2Kw；8、 6、石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?。

Zygo光学元件光学镀膜ZYGO世界一流的镀膜设计工程师和技术人员与我们的计量和光学制造团队紧密合作，为我们的客户提供“一站式购物”体验。这简化了您的供应链，降低了项目风险和整体时间。如果您的基材在镀膜后必须满足所有要求，请选择一个单一的垂直整合制造商。反射涂层保护性和增强金属（金、银、铝）铬镍铁合金、镍、铬和钛多层定制电介质设计减反射涂层UV到MWIR光谱范围（248nm到5μm）宽带（BBAR），单频或双频，还提供定制设计EMI网格上的减反射涂层特殊涂层高LIDT，包括飞秒激光应用滤波器分光镜ZYGO的优势工程设计、制造、计量、镀膜一应俱全直径达45英寸[1145mm]和重量达300磅[136kg]的大型基板在各种材料上沉积定制镀膜设计根据标准MIL、ISO规格在内部进行环境和耐久性测试成熟的涂层应力补偿技术ZYGO业界领先的计量系统会在镀膜后对所有规格进行认证我们还提供涂层翻新服务

高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。设备构成-单镀膜室-单镀膜室＋进样室-单镀膜室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-单镀膜室＋进样室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-多镀膜室＋样品传递室＋手套箱（组成团簇式结构，样品传递采用真空机械手）设备组成电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵（或冷泵）真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。热蒸发源类型和数量，可根据用户需要进行配置。可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置电阻热蒸发源组件：数量：1～12套（可根据用户要求配装）；电阻热蒸发源种类：钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）、束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）。高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）工作条件（实验室应具备的设备工作条件）供电：4kW，三相五线制～ AC 380V工作环境湿度：10℃～ 40℃工作环境温度：≤50%冷却循环水：0.2m3/h，水温18℃～ 25℃水压：0.15MPa ～ 0.25MPa真空性能极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa操作方式手动、半自动关于鹏城半导体鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机，离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统（MBE）、激光分子束外延系统（LMBE）|OLED中试设备（G1、G2.5）|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备（PECVD+磁控溅射）团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延（MBE）设备，包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪（反射高能电子衍射仪）、直线型电子枪、膜厚仪（可计量外延生长的分子层数）、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用，至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统，应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备，应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备，可加水平磁场和垂直磁场，自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉，用于GaN和ZnO的外延生长，实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD，用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备，用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备（采用热激发技术和CVD技术）。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备，制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计，开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备，目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备（≥Φ6英寸）。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。

仪器简介：基质辅助脉冲激光沉积系统（MAPLE）是海军研究实验室于1994年开发的，使用准分子激光器沉积聚合物薄膜。多年来，基质辅助脉冲激光沉积系统已经有了很大的发展。商用基质辅助脉冲激光沉积系统现在很容易配备红外激光器和多目标机械手。中科院宁波材料所于2014年1月向我司订购一台MAPLE系统，该系统为国内首台“基质辅助脉冲激光沉积系统”！系统技术指标：最大衬底尺寸One 2-inch diameter substrate or multiple small samples. Larger substrates and custom substrate holders are available on request.最大衬底温度：300°C typical, but other heaters are available.MAPLE靶材温度： -194°C (80 K)压力操作范围：Base pressure depends strongly on polymer/solvent mix and the solvent vapor pressureMAPLE靶材尺寸：Single 1.5” diameter target standard, larger targets available on request.靶材到衬底(Throw) 距离：Variable from 2.5 to 4 inches光栅路径长度：Across complete MAPLE target标准的激光束射向靶材入射角度：60°主腔体本底真空：P 5 x 10-7 Torr guaranteed with system at room temperature and no polymer/solvent mix.真空腔体：Box style chamber with easy substrate / target changes.激光波长：2.9 microns (Er:YAG laser), other lasers/wavelengths available on request.VIS/NIR Resonant PLD/MAPLE System可见/近红外共振PLD/MAPLE系统

‍‍700 – 1650nm 传统镀膜带通干涉滤光片‍‍备有UV、可见和IR中心波长可供选择备有10 – 80nm带宽适合用于生物医学应用和仪器集成备有193-399nm、400-699nm，以及700-1650nm的CWL选项可供选择通用规格涂层:Traditional Coated表面质量:80-50入射角 (°):0构造 :Mounted in Black Anodized Ring传统镀膜带通干涉滤光片用于选择性地透射范围狭窄的波长，同时阻断所有其他的波长，是各种生物医学和定量化学应用的理想选择。带通干涉滤光片广泛应用于各种仪器，其中包括临床化学、环境实验、色彩学、元件和激光谱线分离、火焰光度法、荧光和免疫测定。此外，还可使用带通干涉滤光片从弧形灯或气体放电灯散谱线中选择离散光谱线，以及从Ar、Kr、Nd:YAG及其他激光中隔离特定光谱线。它们经常与激光二极管模块和LED结合使用。传统镀膜滤光片传统镀膜滤光片由三个部分制造而成，其中之一决定其中心波长（CWL）、带宽（FWHM），以及透射率曲线的形状，其他两个步骤则控制滤光片的阻断范围。传统镀膜带通干涉滤光片经由在玻璃基片上反复一层层地真空沉淀部分反射的薄介电化合物层制造而成。由破坏性干扰引起的波长折射只限于中心波长的15%内，因此，将需要添加额外的玻璃或金属截止以降低带外透射。金属截止，如银层，能反射和吸收滤光片通带外的辐射，并取消从X射线到长波红外（LWIR）的较高级别通带。金属截止的阻断能力由能够吸收UV或长波长辐射的特制染料和颜色透射玻璃的增广。薄片沉淀完成后，这三个部分将会经过刻划、层压、切割和安装。

美国Denton金/碳镀膜机 丹顿真空公司位于美国费城，是世界著名真空镀膜设备制造商。从1964年成立至丹顿已为全球客户制造了数千台多种规格的蒸发设备、溅射和PECVD镀膜系统，用于大工业生产、科研开发和小规模制造。丹顿用于科研开发和小规模制造的中小型镀膜设备据美国市场占有率之首。Desk V HP 专用电子显微镜样品制备 – SEM TEM FE-SEM 金/碳镀膜机特点● 内置泵系统● 极短的沉积时间● 一致的沉积参数● 图形界面彩色触摸板● 薄膜厚度控制● 样品清洁的蚀刻模式● 多样靶材材料选择● 更多可选功能

Edmund精密抗反射镀膜吸收型中性密度滤光片传输波前畸变为 λ/4针对 450 - 700nm 范围采用增透膜提供的光学密度介于 0.1 至 4.0 之间另外提供吸收性中性密度 (ND) 滤光片Edmund精密抗反射镀膜吸收型中性密度滤光片采用 SCHOTT NG 彩色玻璃基片，经过抛光可实现 λ/4 的传输波前畸变 (TWFD)。这些滤光片的两个表面都镀有 450 - 700nm 的增透 (AR) 膜，从而减少了背向反射，并降低了滤光片堆叠的损耗和伪影。精密吸收性中性密度 (ND) 滤光片能提供从 0.1 到 4.0 的光学密度，可以进行堆叠以实现定制的光学密度，从而满足应用要求。这些中性密度滤光片具有 25mm 直径或 50mm 的方形尺寸，非常适用于机器视觉、成像或低功率激光应用。直径 (mm):25.00光密度 OD（平均）:0.1 ±10% @ 550nm玻璃/滤波器编号:SCHOTT NG12基底: ND Filter Glass涂层:BBAR (450-700nm)折射率 nd:1.49表面质量:80-50转变温度 (°C):460厚度 (mm):4.95 (nominal)透射率 (%) :79.43类型:Neutral Density Filter阻断波长范围 (nm):400 - 700有效孔径 (%):90传输波前，P-V (λ):λ/4平行度（弧秒）:30涂层规格:Ravg ≤1.0% @ 450 - 700nm @ 0°

高真空镀膜机 Leica EM ACE600 您选择了用于TEM和FE-SEM分析的最高分辨率。Leica EM ACE600是完美的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于最高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。高真空镀膜仪 – 配置您的镀膜体系 – 我们铸造您真正需要的镀膜仪Leica EM ACE600 可以配置如下镀膜方式: 金属溅射镀膜 碳丝蒸发镀膜 碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件） 电子束蒸发镀膜 辉光放电 连接VCT样品交换仓，与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输Leica EM ACE 镀膜仪 为您开启最优越的镀膜体验 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的所有镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜。让我们开启大门来体验全新镀膜设备的先进技术。我们的理念只有一个，即“力求简约，简便，快速并可靠地实现样品表面镀膜，使您的样品在EM中获得最好的图像”。

精密激光调阻机 厚膜电路激光修调设备激光调阻在汽车电子行业典型应用：　　1、油位传感器一般是几个点位的阻值调整　　2、要求一段电阻区间每刀长度尽量一致　　3、节气门位置传感器要求电阻之间的比例关系一致　　4、角度线性修调——汽车空调，音量等带旋扭的电路基板 　　与传统的人工调阻相比，激光调阻具有以下优势：　　1、采用进口激光器与平面电机，整机性能稳定。　　2、调阻精度对比同行其他激光调阻设备高出4-10倍。　　3、具有强大的软件编程功能，多种功能集于一机，可满足各种应用领域调阻需求，可轻松实现客户的特殊定制，实现高效自动化运行。　　　　激光调阻机具有修调阻功能，多被用于厚膜、薄膜电路，由于厚薄膜电路的制造工艺局限，其电阻阻值误差较大，为了更好适用电路需要，就需要应用到激光调阻机进行修调，其精密调节包括：　　无源修调(电阻力本身调整)：将原始厚膜或薄膜电阻阻值修调至目标阻值。　　有源修调(电路功能调整)----将电路模块修调至需要的输出信号。测量修调对象除了电阻外，还可是电压、电流、频率、反转等信号。 LT5110激光调阻机设备特点　　高性价比机型，适用厚膜电路调阻，电子模块功能修调　　半导体端面泵浦光纤藕合固体激光器　　步进或伺服电机、丝杠XY平台分步重复　　消色差成像技术　　强大软件编程功能，满足各种不同应用　　大理石台面，机台稳定性好 LT5110激光调阻机应用行业　　适用于厚膜电阻的激光调阻，电子电路的功能修调、输出信号的修调。广泛应用于厚膜电路、汽车电子、传感器等领域。设备功能强，性价比高。LT5110激光调阻机技术参数表 三工精密激光调阻机设备亮点介绍　　调阻效率高：调阻速度相对国内其它激光调阻产品高出4-10倍，产能大大提升，单位成本下降。　　调阻精度高：独特的测控技术，测量控制系统精度的一致性好，提升产品附加值 成品率高，单位成本下降。　　软件可编程：可轻松实现客户的不同需求以及高自动化运行，也可作为专门的测试平台，适应性广。　　使用成本低：采用了先进的激光器，无耗材，使用成本低，长期使用节约大量的费用。　　多功能：可实现陶瓷基片的激光划线、打标，减少设备的再投入。　　专业大理石基座，可有效减小工作台启动、停止和加速过程中产生的震动，同时保持机台温度的稳定性，可靠性高。　　可定制：在电路功能修调方面由于应用行业多样化，相对要求也多样化，对设备的整体要求要高些，有时标准型激光调阻机不能直接满足使用要求，但武汉三工精密的激光调阻机产品属于自主开发，特别是核心的测控系统，能为各种不同的客户提供定制化服务，满足不同客户的需求。温馨提示：本产品不支持网上订购，产品均以实际配置计价为准，网上标价均为统一虚价，给您造成的不便还请谅解！具体价格请沟通后计算配置而定，谢谢！

真空镀膜系统MBRAUN研发出一系列镀膜系统，配合多种可选配件和定制化方案，用于多种镀膜工艺领域中. MBRAUN的镀膜系统可集成多种主流蒸镀工艺，如热蒸镀、温控蒸镀(用于有机材料)、电子束蒸发等一体化方案；以及射频、直流或脉冲直流磁控溅射以及被动式磁控溅射等.OPTIvap模块化设计可单独使用(S)或集成于手套箱(G)不同的模块之间可实现自由组合多基板&多掩模工艺一致性标准偏差在+/-3 %区间(几何式设计可缩小至+/-1 %)OPTIvap 4可用于大小150x150 mm或直径150 mm (6英寸)的基板OPTIvap 6可用于大小200x200 mm 或直径280 mm (8英寸)的基板 应用：复杂的多层镀膜设备(用于OLED,OPV)光学镀膜光伏、半导体行业

产品简介： GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的设备。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要特点1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1?。7、可使用循环水冷机。技术参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：?300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：?100mm，采用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：150-210mm11、冷却水需量：15L/min产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

春节红包激光模切机 纸张激光镂空雕花专用设备打造高端产品春节红包激光模切机的优点以及应用　　新年红包激光镂空机进行雕刻加工无需开刀模，快速成型，切口平整，图形可任意形状，激光镂空雕刻加工具有很强的立体感，春节周边装饰品激光镂空机具有加工精度高、自动化程度高、加工速度快、加工效率高、操作简单方便等特点，适应了纸品生产技术潮流，所以激光镂空加工技术正在以惊人的速度在纸品行业内得到推广和普及。可以彻底克服传统印刷行业，喜帖贺卡印刷耗时、不环保的这些缺点。　　激光模切雕花机拥有魔法般神奇的加工效果，用来加工红包、窗花剪纸、福字对联、贺卡、喜帖等印刷品，线条细，激光镂空，因其高效率、高精度受到广泛青睐。对于广大生产商来说，红包激光镂空机能极大的提升产品附加值，带来无限商机！为何要选择超级镂空红包激光模切机？ 1、与普通激光加工工艺相比，超级激光纸品镂空机加工速度更快，效率更高，镂空切边效果更佳。普通激光加工纸品时，纸张尺寸较大及纸张厚度较厚的情况下，激光镂空的速度与质量会有明显下降，而采用超级纸品镂空机可以在纸张切割尺寸较大及纸张厚度较厚的情况下，保证激光加工的速度与质量。不需要把纸张裁切成小尺寸后再进行激光镂空，以减少加工工序，提高生产效率和品质。2、光束质量更精细，加工效果更好。超级激光打标机高效稳定的控制系统配合超大光斑的振镜光学镜片，达到更精细及工作幅面内更一致的的光束质量，小线宽可达0.18mm。3、更精致、更美观的切割效果相比普通激光打标机，切割线条更细、不糊边、不黄边、切割效果更精致、更美观。4、超级打标机使用超大光斑三维动态系统，加工速度比普通激光打标机快25%-30%。配上强大的打标软件，使打标速度可达10000mm/s，配上50光斑高速振镜，更适合纸品镂空大批量生产。　　印刷纸品激光模切镂空由于激光模切技术是由计算机直接控制的，无需更换刀模版，可实现不同版式活件之间的快速切换，节省了传统 模切的刀模更换和调整时间，尤其适合短版、个性化模切加工。激光模切机具有非接触式的特点，换活快，生产周期短，生产效率高。随着模切技术和激光技术的发 展进步，把两者结合起来，利用激光取代传统的模切刀模有着明显的优势。激光模切机属于全自动激光切割，无震动偏差，精度高且稳定。无需制作刀模，由计算机 直接控制激光进行切割，并且不受图形复杂程度的限制，可以切割传统刀模无法完成的切割需要。 春节红包激光模切机技术参数超级纸张激光镂空雕花机设备特点1、打标速度快，10000mm/s的打标速度高速振镜扫描，适合工业化大批量生产；2、打标范围大，可在800mm*800mm（可选配更大幅面）范围内实现打标、冲孔、雕刻、切割等工艺；3、设备稳定性好，采用全封闭光路、进口CO2射频激光器、激光器功率稳定；质量可靠， 使用寿命2万小时以上。严格多重保护控制设计，保证设备整体的稳定性；4、专业的恒温激光冷却系统，整机多重保护控制设计，可使用与广泛的环境温度，保证设备24小时连续可靠的工作；5、自主研发的的控制软件，可兼容AutoCAD、 CorelDRAW、illustrator、Photoshop等多种软件输出，能实现文字符号、图形图象、条形码、二维码、序列号自动递增等的自动编排和修改，支持PLT、PCX、DXF、BMP、JPG等多种文件格式，可直接使用TTF字库。6、设备操作简单，即学即会、无需制版，即刻出样。　　随着激光在各个行业的应用越来越广泛，激光对纸张的加工技术也在不断的提升，激光加工成为了春节装饰品行业发展的巨大推动力。武汉三工激光新年装饰品激光镂空机的企业，根据印刷纸品的特性，配置了专业打标软件，专为贺卡、喜帖、纸张，剪纸等大幅面烧花镂空工艺而设计，打标速度快，设备易操作，性能稳定。纸品镂空雕刻的样品展示

Thorlabs楔形硅窗口片未镀膜WW80530楔形硅窗口片未镀膜WW80530 光学仪器特性30弧分的楔形窗口片提供Ø 1/2英寸或Ø 1英寸硅窗口片提供未镀膜(1.20 - 8.0 µ m)或者镀了E1宽带增透膜(2 - 5 µ m)的窗口片可提供增透膜版本和定制尺寸版本，Thorlabs楔形硅窗口片未镀膜WW80530Thorlabs提供未镀膜的Ø 1/2英寸和Ø 1英寸楔形硅(Si) 窗口片。这种楔形光学元件消除了干涉条纹图样，并且有助于避免腔反馈。窗口片用于保护激光输出不受环境的影响，适用于光束采样应用。提供未镀膜或者镀了增透膜(2 - 5 µ m)的窗口片。Thorlabs也提供许多基底材料和镀膜选项的平窗口片 。对于利用近红外范围和部分中红外区域波长范围的应用，硅是一种理想的光学材料。硅具有高热导率和较低密度，使其适合用作激光窗口片。这些窗口片是由光学直拉硅(OCz-Si) 制造的，在9 µ m波长处具有强吸收带，在太赫兹波段具有低透射率。因此，它们不适合用于CO2 激光透射或太赫兹应用。除了这里提供的楔形硅窗口片外，Thorlabs还提供其它基底材料制造的楔形窗口片(见右边Selection Guide)。带增透膜的楔形激光窗口片，增透膜的中心波长是常见的激光波长，同时还提供仅在一面镀宽带增透膜的楔形光束取样镜。此外，我们还提供带标准增透膜或者定制尺寸，厚度或者楔角的楔形窗口片；更多信息请联我们。Thorlabs楔形硅窗口片 提供Ø 1/2或Ø 1英寸

电镜制样设备CCU-010 LV_SP离子溅射镀膜仪紧凑型、模块化和智能化CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。 特点和优点 ✬ 高性能离子溅射✬ 独特的即插即用溅射模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 LV精细真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计，CCU-010 LV_SP-010为磁控离子溅射镀膜仪。模块化的设计可将低真空单元很轻松地升级为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。溅射模块 SP-010 & SP-011两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV镀膜主体单元，即可使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长-非常适合需要较厚膜的应用；可选多种溅射靶材。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于极细颗粒尺寸镀膜，推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV镀膜主体单元。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。等离子刻蚀单元 ET-010在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀膜后进行等离子刻蚀处理，从而对膜层表面进行改性。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 LV系列镀膜仪版本除了电镜制样设备CCU-010 LV_SP离子溅射镀膜仪之外，还可以选择：CCU-010 LV热蒸发镀碳仪；CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 LV手套箱专用镀膜仪。所有CCU-010 LV版本均采用TFT 触摸屏操控，配方可编程，保证结果可重复；具有断电时系统自动排气功能，防止系统被前级泵油污染。

低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。 特点理想重现的结果运行自动化的进程，并协助参数设置。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间。容易清洗具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。操作简便直观的触摸屏和一键式操作。

YAG-BBAR镀膜消色差透镜#33-204，光学仪器组件YAG-BBAR镀膜消色差透镜规格：产品系列说明经优化为532和1064nm波长的光线提供小于0.25％的绝对反射率为500 - 1100nm波长的光线提供zhuo越的宽带透射率低成本替代空气间隔聚焦双合透镜TECHSPEC YAG﹣BBAR镀膜消色差透镜由两个粘合在一起的光学元件组成，形成一个双合透镜，非常适用于校正轴上球差和色差。这款消色差透镜具有宽带增透膜，可以为500﹣1100nm波长的光线提供出众的透射率，经优化为532和1064nm波长的光线提供小于0.25％的绝对反射率。我们的TECHSPEC YAG﹣BBAR镀膜消色差透镜专为多色照明设计，可以在推荐的可用波长范围内最大程度地减少光斑尺寸，也可以用于聚焦Nd：YAG激光器，特别是那些有校准光束的激光器。