原射真空分析

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原射真空分析相关的厂商

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    我们的产品会帮您解决更多的问题,提供更多的分析方案如果水质分析是您的责任,那么您的首次分析就应该以凯迈自充试剂安瓿瓶开始。这些特别简单的快速阅读测试工具包每套的价格实际上要比你现在可能正在使用的劳动密集型方法更低。无论是仪器法还是目视比色法测量,您都可以在仅仅2分钟甚至更短的时间内分析45种样品,同时得到精确、可靠以及定量的结果。无需混合、测量,即可轻松检测传统的测量方法经常要准备样品和试剂,步骤繁琐,最后还需清理。有了凯迈系统,您只需简单地将安瓿瓶浸没在样品中,折断顶端并快速记录可靠的结果即可。方法步骤更简单,误差更小由于几乎没有测试准备步骤,所以我们的产品减少了潜在的操作误差。此外,凯迈测试工具真空密封性帮助您避免了因为试剂不新鲜或不稳定而导致的结果不精确问题。测试更安全使用凯迈自充式安瓿瓶能够显著减少处理过程中的化学物质和样品暴露在外。每一套测试工具都包含一个单位剂量的预先按配方制备好的试剂,试剂装在密封玻璃杯中,以便使其和化学物质的直接接触程度达到最小化。便携性和可二次填充性凯迈产品十分便于携带,您只须把进行30次测试所需的所有物品装入包装袋中,即可在实验室或现场都能快速测得可靠的分析数据。通过一个简单的电话或是网上订购就能够重新填充30个安瓿瓶包。我们的信誉是您最大的保证凯迈公司因产品质量好而出名,我们的名誉建立在客户服务基础上。我们的技术服务和销售部门的专家会以温馨的提示和支持助您顺利完成检测实验。严格的质量保障体系确保了我们产品的使用效果跟您预想一样。我们的创新研究和研发团队不断研发新产品以满足新型水质分析的需要,我们会对产品提供100%全方位服务。保质期凯迈公司水质分析产品使用真空包装以确保拥有尽可能最长的保质期。为保证产品保质期,产品存放应避光、室温保存。对于特殊产品的保存,还要依据个别的产品包装说明而定。所有产品的保质期至少为2年,除非产品另有说明。
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  • WELCH介绍 Welch威伊是提供优质耐用真空泵产品的专家。我们的丰富产品线涵盖了隔膜泵,旋片泵和分子泵以及配套系统和附件。 作为真空领域的持续创新者,我们的顾客遍布,包括实验室和设备制造商。曾使用Ilmvac(中文名:伊尔姆)作为另一个独立品牌的Welch公司,目前代表了真空技术领域两个显赫的品牌 Welch和 Ilmvac的创新组合。 WELCH主要产品和应用 Welch威伊提供实验室和工业用真空泵,包括真空活塞泵,真空隔膜泵,真空旋片泵,螺旋泵,涡轮分 子泵,液体输送泵等,还有各种真空测量仪,真空控制器,真空蒸馏装置,真空浓缩设备,真空抽吸设备等 本公司产品广泛应用于化学,生物,制药,环保等领域的研发和生产。 TRICONTINENT介绍 TriContinent特瑞康是源自美国加州Grass Valley的一家生产精密OEM注射泵和液体处理自动化设备的制造商。我们是医疗和生化诊断分析设备的优选供应商。TriContinent在循环肿瘤细胞隔离(CTC isolation),聚合酶链式反应技术(PCRtechniques)以及其他对于剂量要求极为精准的分子诊断领域都能提供适合的解决方案。在泵类领域的持续研发提供微流量和低震动的产品使我们在业内广受赞誉。 THOMAS介绍 Thomas是一家为在医疗,实验室,环境和工业领域的OEM厂商提供压缩机,真空泵和液体泵产品的制造商。Thomas的流体技术涵盖压力,真空和液体各领域, 可以提供WOB-L活塞泵、铰接活塞泵、隔膜泵、微型隔膜泵,旋片泵、线性泵和蠕动泵等产品,同时Thomas提供了业界超广泛的无油产品系列。具备如此丰富的产品线,Thomas可设计超理想的,定制化的压力及真空的解决方案以满足客户的个性需求。
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  • 400-860-5168转0727
    伯东公司成立于1953 年,全球范围内有一千七百名员工。伯东企业(上海)有限公司(http://www.hakuto-china.cn/index.php)主要从事半导体设备、电子零部件加工、销售及相关服务工作,集团年营业额约为100亿人民币。伯东公司主要城市:北京、上海、深圳、大连、香港及台湾设有营业据点。上海伯东真空产品事业部秉承为广大中国客户提供世界一流的真空产品、推动中国真空工艺发展、承担企业社会责任为经营理念,已累计为超过10,000家企业提供真空服务,覆盖工业、半导体、镀膜、科研和分析行业。 上海伯东代理品牌包含:德国Pfeiffer 全系列真空产品、美国 KRI 离子源、美国 inTEST(Temptronic)高低温冲击测试机、 美国 Polycold 制冷机,离子蚀刻机,美国 HVA 真空阀门,比利时 Europlasma 等离子表面处理设备,离子蚀刻机,真空镀膜系统及配套真空零配件等。上海伯东作为国际知名真空品牌指定授权代理商,全权负责在中国地区的销售和维修服务,100% 使用原厂进口零部件以及国外受训维修工程师;拥有完全的拆解,维修,校正能力并提供24小时在线服务。
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原射真空分析相关的仪器

  • Apreo功能最为丰富的高性能 SEMApreo 复合透镜结合了静电和磁浸没技术,可产生前所未有的高分辨率和材料对比度。Apreo 是研究纳米颗粒、催化剂、粉末和纳米器件的理想平台,而不会降低磁性样品性能。传统的高分辨率 SEM 透镜技术分为两类:磁浸没或静电。FEI 首次将两种技术结合到一个仪器中。这样做所产生的成效远远超过任一种镜筒的个体性能。两种技术均使电子束形成细小探针,以提高低电压下的分辨率,并使信号电子进入镜筒。通过将磁透镜和静电透镜组合成一个复合透镜,不但提高了分辨率,还增加了特有的信号过滤选项。静电-磁复合末级透镜在 1 kV 电压下的分辨率为 1.0 nm(无电子束减速或单色器)。Apreo 拥有透镜内背散射探测器 T1,其位置紧靠样品以便尽可能多地收集信号,从而确保在很短的时间内采集数据。与其他背散射探测器不同,这种快速的探测器始终可保证良好的材料对比度,在导航时、倾斜时或工作距离很短时也不例外。在敏感样品上,探测器的价值凸现出来,即使电流低至几 pA,它也能提供清晰的背散射图像。复合末级透镜通过能量过滤实现更准确的材料对比度以及绝缘样品的无电荷成像,进一步延伸了 T1 BSE 探测器的潜在价值。它还提供了流行选项来补充其探测能力,例如定向背散射探测器(DBS)、STEM 3+ 和低真空气体分析探测器 (GAD)。所有这些探测器都拥有独一无二的软件控制分割功能,以便根据需求选择最有价值的样品信息。每个 Apreo 都按标准配备各种用以处理绝缘样品的策略,包括:高真空技术,例如 SmartSCAN™ 、漂移补偿帧积分(DCFI) 和电荷过滤。对于最有挑战性的应用,Apreo 可提供电荷缓解策略。其中包括可选的低真空(最高为 500 Pa)策略,通过经现场验证的穿镜式差分抽气机构和专用低真空探测器,不但可以缓解任何样品上的电荷,还能提供绝佳的分辨率和较大的分析电流。随着分析技术的使用越来越常规化,Apreo 仓室经过全新设计,以便更好地支持不同的配件和实验。仓室最多容纳三个 EDS/WDS 端口,可实现快速敏感的 X 射线测量、共面EDS/EBSD/TKD 排列并与(冷冻)CL、拉曼、EBIC 和其他技术兼容。所有这些功能都能通过简单的样品处理和熟悉的 xT UI 获得,节省了新用户和专家级用户的时间。可自定义的用户界面提供了诸多用户指导、自动化和远程操作选项。
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  • 超高性能X射线荧光光谱仪,无语伦比的通用性——EDX-8100 致元素分析的您 无需液态氮! 使用电子冷却方式的高性能SDD检测器 高灵敏度!高速!高分辨率! 大幅提升传统产品的分析性能 软件使用简便! 同时配备简易型分析软件PCEDX-Navi与专业型软件PCEDX-Pro 彻底追求通用性的硬件! 检测元素范围C~U、可开展真空分析及氦气置换分析 元素检测范围氦气置换分析优势可测试不适用真空、适用氦气置换分析的样品:液体,潮湿固体和粉末,微细粉末(小于微孔膜孔径),多孔且内含较多气体的固体1、3、5、10mmΦ的4种准直器自动切换根据样品尺寸的不同,照射直径可有4种不同的选择。微小异物分析和失效解析时采用1mmΦ,少量样品时采用3mmΦ或5mmΦ,根据样品的形状可以选择最适合的照射直径。自动切换5种一次滤光片使用一次滤光片降低X射线管产生的特性X射线和连续X射线,从而提升检测灵敏度。尤其分析微量元素时有效。EDX-8100搭载5种(含OPEN共6种)一次滤光片,可以实现软件操控自动切换准直器和一次滤光片独立驱动,无限制自由组合。可以选择6种×4种=24种组合。同时,所有组合均可对应FP法进行定量分析。
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  • 2830 ZT 波长色散 X 射线荧光 (WDXRF) 晶圆分析仪提供了用于测量薄膜厚度和成分的功能。 2830 ZT 晶圆分析仪专门针对半导体和数据存储行业而设计,该仪器可为多种晶片(厚达 300 mm)测定层结构、厚度、掺杂度和表面均匀性。持续的性能和速度4 kW SST-mAX X 射线管配备了突破性的 ZETA 技术,可以消除 X 射线管老化效应。 这种“全新射线管”性能可以在 X 射线管整个寿命期间得到保持,同时高灵敏度与 ZETA 技术相结合,确保了在 X 射线管寿命期间可以一直提供快速的分析和简短的测量时间。 ZETA 技术显著减少了对于漂移校正和重新校准的需求,从而提高了仪器的生产率和正常运行时间。正常运行时间大大提升传统 X 射线管会出现钨灯丝挥发,从而导致光管铍窗内部出现沉淀物污染铍窗。 使用此类 X 射线管的仪器需要定期进行漂移校正以补偿下降的强度,尤其是对于轻元素而言。 2830 ZT 采用 SST-mAX 射线管解决了这一漂移问题,从而大大提升了正常运行时间并能够随着时间的推移维持仪器精度。易于使用2830 ZT 配置SuperQ 软件,该软件包含了 FP Multi - 一个专门针对多层分析开发的专用软件包。 该软件的用户界面确保即使是没有经验的操作员也可以对多层进行全自动的基本参数分析。该仪器的 SuperQ 软件具有多种易于使用的模块,这些模块能够方便研究者和工程师进行灵活的操作。 可以轻松切换配方和调整设备参数以适应用户偏好。FALMO-2GFALMO-2G 可轻松集成到任意实验室或晶片厂中:从简单的人工托架装载到全自动。 完全灵活的设计让晶片厂经理能够选择 FOUP、SMIF 或开放式装入端口,配有一个或两个装入端口配置。 各种配置的 FALMO-2G 均受到符合 GEM300 的软件支持。 FALMO-2G 的占地空间大大降低,而没有损失灵活性、功能。 应用灵活操作该仪器的 SuperQ 软件具备多种易用使用的模块,这些模块能够方便研究者和工程师进行灵活的操作。 可以轻松切换配方和调整设备参数以适应用户偏好。
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原射真空分析相关的资讯

  • 基于177.3nm激光的真空紫外光调制反射光谱仪
    CPB仪器与测量栏目最新发文:基于177.3nm激光的真空紫外光调制反射光谱仪,此装置将有望成为高效无损地探测宽禁带半导体材料电子能带结构高阶临界点的有效光学表征手段,并广泛用于超宽禁带半导体材料及其异质结的电子能带结构研究。光调制反射光谱是通过斩波器周期性地改变泵浦光源对样品的照射来测量半导体材料反射率相对变化的一种光谱分析技术。由于所测差分反射率作为能量的函数在材料电子能带结构的联合态密度奇点附近表现出明显的特征,光调制反射光谱已成为研究具有显著电子能带结构的半导体、金属、半金属及其微纳结构和异质结等材料联合态密度临界点的重要实验技术之一。光调制反射光谱中所使用的泵浦激光的光子能量一般要高于被研究材料的带隙,随着第三代宽禁带与超宽禁带半导体材料相关研究和应用的不断深入,需要更高能量的紫外激光作为光调制反射光谱的泵浦光源。目前国际上已报道的光调制反射光谱系统中,配备的泵浦光最大光子能量约5 eV,尚未到达真空紫外波段。因此,迫切需要发展新一代配备高光子能量和高光通量的泵浦光源的光调制反射光谱仪,使其具备探测超宽带隙材料的带隙和一般材料的超高能量临界点的能力。中科院理化所研制的深紫外固态激光源使我国成为世界上唯一一个能够制造实用化深紫外全固态激光器的国家,已成功与多种尖端科研设备相结合并取得重要成果。此文详细介绍了由中科院半导体所谭平恒研究员课题组利用该深紫外固态激光源搭建的国际上首台真空紫外光调制反射光谱仪(图1)的系统设计和构造,将光谱仪器技术、真空技术、低温技术与中科院理化所研制的177.3 nm深紫外激光源相结合,同时采用双单色仪扫描技术和双调制探测技术,有效避免了光调制反射光谱采集中的荧光信号的干扰,提高了采集灵敏度。该系统将光调制反射技术的能量探测范围从常规的近红外至可见光波段扩展至深紫外波段,光谱分辨率优于0.06 nm,控温范围8 K~300 K,真空度低至10-6 hPa, 光调制反射信号强度可达10-4。通过对典型半导体材料GaAs和GaN在近红外波段至深紫外波段的光调制反射信号的测量对其探测能力进行了性能验证(图2)。此装置将有望成为高效无损地探测宽禁带半导体材料电子能带结构高阶临界点的有效光学表征手段,并广泛用于超宽禁带半导体材料及其异质结的电子能带结构研究。该系统基于中科院半导体所承担的国家重大科研装备研制项目“深紫外固态激光源前沿装备研制(二期)”子项目“深紫外激光调制反射光谱仪”,目前已经初步应用于多种半导体材料在深紫外能量范围内的能带结构和物性研究,并入选《中国科学院自主研制科学仪器》产品名录,将有望在推动超宽禁带半导体材料的电子能带结构研究、优化超宽禁带光电子器件的性能方面发挥重要作用。图1. 深紫外激光调制反射光谱仪图2. 177.3 nm(7.0 eV)激光泵浦下的GaAs在1.2 eV至6 eV内的双调制反射光谱及对应能级跃迁
  • 满足分析型用户需求!超大束流,超快分析的场发射扫描电镜SEM4000 来了
    在此前的两期推文中我们为大家介绍了两款钨灯丝扫描电镜“重新定义钨灯丝扫描电镜”的SEM3300和“操作不挑人,简约不简单”的SEM2000今天,针对有分析型需求的用户超大束流,超快分析的场发射扫描电镜SEM4000 它来了点开下方视频,观看震撼大片!场发射扫描电镜SEM4000SEM4000超大束流,超快分析熟悉国仪的朋友们都知道我们已经有了一款主打低电压高分辨的场发射电镜SEM5000那么SEM4000有什么不同?有什么新的特点?场发射扫描电镜SEM4000那就是电子束流大,分析速度快!非常适合有分析型需求的用户SEM4000有着最大超过200 nA的电子束流而且束流大小连续可调!大束流可以带来很多好处例如:相同信噪比情况下更快的成像速度、更大的能谱计数、更强的波谱仪信号束流连续可调,有利于选择最合适的成像和能谱条件SEM4000实拍见真章下方展示的是使用SEM4000拍摄的高、低真空样品图片枫香花粉在低真空模式下形貌保持良好,表面细节丰富、整体层次分明 SEM4000电子束流大,背散射像下原子序数相近材料的成分衬度差异明显(PA-玻纤复合材料) 应用高亮度的热场发射电子源,SEM4000可以获得高分辨图片(金刚石涂层)枫香花粉PA-玻纤复合材料金刚石涂层SEM4000技术解读SEM4000是如何同时做到大束流和束流连续可调?国仪量子电镜研发团队采用了束流控制透镜+像方束张角控制透镜的方案也就是先用一个透镜,控制电子源方向的束张角,从而获得连续可调的电子束流(图a)图a然后再用第二个透镜,控制像方束张角(图b)图b从而实现不同束流下的最佳分辨率和景深使得绝大多数工况下成像质量最优!如果您需要用到分析功能并且追求更高、更快的分析效率那么场发射扫描电镜SEM4000一定是您的最佳拍档!
  • 看滨松解析:质谱探测器与新一代真空紫外电离源
    仪器信息网主办的第七届质谱网络会议(ICMS 2016)将于2016年11月22日拉开帷幕。本次滨松中国将首次参会,并有滨松分析领域高级销售工程师,于11月23日的质谱新技术论坛发表《滨松质谱探测器简介与新一代真空紫外电离源》报告。全面介绍滨松用于质谱的探测器和新型离子化光源产品。 会议时间:11月23日 10:40-11:10 会议地点:仪器信息网质谱网络会议线上会场 会议详情及报名:敬请关注仪器信息网第七届质谱网络会议(ICMS 2016)专题页面内容预览:在质谱应用中,滨松提供了离子化光源、mcp、电子倍增器三种产品。离子化光源相对于质谱仪常规使用的pid灯而言,其能量在峰值处更强。而软离子化的方式具有没有碎片的特征,因此广泛适用于各种大分子的生物分析。在探测端,MCP(微通道板)和EM(电子倍增器,已有40年的历史)分别具有定性和定量的功能,作为支持高度定制化的“高端人士”而受到关注。其中,mcp对于使用环境比较“娇气”,易受潮形变,相对于同类产品来说,具有机械鲁棒性的滨松mcp抗潮性较强,保证了仪器的可靠性,也降低了维护的成本。而其组建也具快速时间响应的特性,可达45皮秒的级别。用于定量的滨松em则广泛用于四极杆系统以及离子井系统,具有较宽的动态范围,并支持正负离子的同时探测。更多内容,敬请关注11月23日10:40仪器信息网第七届质谱网络会议(ICMS 2016)质谱新技术论坛《滨松质谱探测器简介与新一代真空紫外电离源》报告!

原射真空分析相关的方案

  • 高温半球发射率测量装置真空腔体温度均匀性的有限元热仿真分析
    在高温半球发射率测量装置中,真空腔体温度均匀性是保证半球发射率测量精度和测试设备安全运行的重要技术参数。本文介绍了采用SolidWorks软件对水冷真空腔体上各处法兰温度分布的有限元计算过程和获得的结果,以指导确定真空腔体设计参数和制造工艺的确定。
  • 追寻希格斯玻色子(上帝粒子)—— 全球最大的真空系统依赖于普发真空提供的真空解决方案
    粒子加速器运行的一个重要因素是可靠且强大的真空系统。而像LHC这样非同寻常的机器对内置真空技术有着非常特殊的要求。极小误差可能导致整个加速器停止运行数小时。因此,整套真空系统必须是非常可靠的。此外,加速器中使用的所有设备必须能够承受高达1,000 Gy/a的辐射水平。而进行这些复杂测量的设备不能离开加速器的辐射区。因此,能在现场进行设备维护显得至关重要。为满足这些高要求,普发真空与CERN合作,对真空获得、真空测量和真空分析研发并实践了一套定制的真空解决方案。真空获得LHC分两种真空系统: 电子束真空和隔离真空。两种应用中都用到了普发真空的涡轮分子泵。这些泵经改进后都可以满足LHC的特殊要求。为了能在辐射环境中运行,泵体中都不能使用电子元件。要满足这些要求,普发真空研发了无传感器驱动概念,实现了泵的机械部件与电子部件的隔离。采用这一概念,电子部件可以放置在离真空泵1,000 m以外的地方,并定位在一个保护区域内。真空测量普发真空专门研发了特殊的测量设备,用来测量获得的真空。这些使用的设备是改进的皮拉尼和冷阴极真空计。它们用来长期监测加速器内的压力,并确保当压力增加时可以采取适当的行动。由于真空计同样暴露于高水平辐射中,它们被制造成无源传感器,没有集成的电子设备。所有电子设备都被安置在一个辐射安全区域内,并且经由长电缆连接至无源传感器。这些电缆通过精确的指令与CERN密切连接。这使冷阴极真空计可以测量达10-11 hPa的压力。通过一种特殊的点火过程,冷阴极真空计即使在压力非常低的情况下,也可以轻易打开。由于加速器的寿命约为30到40年,因此,只有采用寿命长的电子元件。氦检漏对LHC要求的超高真空压力,加速器使用的部件必须确保极低的漏率。因此,在安装部件之前,必须进行全方位的检漏。针对检漏,CERN采用了ASM系列检漏仪。使用这些设备,即使是细微到的10-13 Pa· m3/s 的泄漏也可以有效地被检测出来。真空分析除压力外,残余气体的组成也是加速器正常运行的一个重要因素。使用残余气体光谱仪,可以得出加速器内使用材料脱气相关的结论。为获得残余气体光谱,CERN采用了普发真空的质谱仪。对于超高真空中的残余气体测量,质谱仪分析仪本身具有较低的脱气率是非常重要的。除了真空退火离子源外,CERN使用的普发分析仪也拥有真空退火棒系统。使用这一方法,分析仪将产生一个极低的背景信号,尤其方便记录加速器内实际残余气体的比例。
  • 离子溅射仪(喷金仪)抽不上真空的解决方案
    离子溅射仪(喷金仪)抽不上真空,真空不稳定,真空表向左向右打表,真空异常等故障的解决方案...............

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原射真空分析相关的论坛

  • 【原创大赛】高温半球发射率测量装置真空腔体温度均匀性的有限元热仿真分析

    【原创大赛】高温半球发射率测量装置真空腔体温度均匀性的有限元热仿真分析

    [align=center][size=18px][color=#000099]高温半球发射率测量装置真空腔体温度均匀性的有限元热仿真分析[/color][/size][/align][align=center][size=18px][color=#999999]Finite Element Thermal Simulation Analysis of the Temperature Uniformity of the Vacuum Chamber of the High-Temperature Hemispheric Emissivity Measurement Device[/color][/size][/align]摘要:在高温半球发射率测量装置中,真空腔体温度均匀性是保证半球发射率测量精度和测试设备安全运行的重要技术参数。本文介绍了采用SolidWorks软件对水冷真空腔体上各处法兰温度分布的有限元计算过程和获得的结果,以指导确定真空腔体设计参数和制造工艺的确定。关键词:半球发射率,有限元,热仿真,温度均匀性,真空腔体,高温,测量装置,法兰, Hemispherical emissivity, finite element, thermal simulation, temperature uniformity, vacuum chamber, high temperature, measuring device, flange[align=center][img=高温发射率测量,690,338]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/09/202109290630151571_4563_3384_3.png!w690x338.jpg[/img][/align]  [size=24px][color=#000099]1. 问题的提出[/color][/size]  在采用稳态量热法测量材料高温半球发射率过程中,要求被测样品处于高真空环境中,作为量热计的真空腔体始终恒定在较低温度(如水温或液氮温度),真空腔体内表面要保持较高的发射率数值,从而保证作为量热计的真空腔体是一个黑体能吸收样品辐射出的所有热量。  在高温半球发射率测量装置中,真空腔体的冷却和温度控制方式是在真空腔壁内部布置流道让冷却介质(水或液氮)按照一定方式进行流动,并由此带走腔壁吸收的热量并使得腔壁温度始终恒定。但由于真空腔体上还布置有各种法兰(如引线法兰、抽气法兰和炉门法兰等),这使得真空腔壁内部流道就要绕开这些法兰,造成冷却液并不能直接冷却到这些部件,这些法兰吸收和积累的热量就需要通过法兰材料自身的热传导方式将热量传递给冷却液,由此往往会在这些法兰部件上形成比真空腔体其他位置更高的温度。为了保证高温半球发射率测量装置的安全性和测量准确性,在设计过程中需要准确了解这些法兰处的温度分布并进行优化。  本文将介绍水冷真空腔体上各处法兰温度分布的计算过程和获得的结果,以指导确定真空腔体的具体参数和制造工艺设计。[color=#000099][size=24px]2. 热仿真模型[/size][size=18px]2.1. 常规模型[/size][/color]  高温半球发射率测量装置的主要结构是一个卧式水冷真空腔体,双测开门。真空腔体的外径为840mm,长度为800mm,两侧腔门直径为920mm。腔体和腔门都为双层不锈钢结构,中间布置冷却水流道,腔体和腔门的总壁厚都为20mm,腔体和腔门分别独立水冷。被测样品悬挂在真空腔体的中心位置,最大样品尺寸为直径100mm×12mm。  针对上述规格尺寸的高温半球发射率测量装置建立热仿真模型,建模和仿真计算采用SOLIDWORKS软件。为了简化计算工作量,针对此对称结构的真空腔体,在一半真空腔体的基础上建立热仿真模型,如图2-1所示。[align=center][color=#000099][img=高温发射率测量,690,344]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/09/202109290635288234_3762_3384_3.png!w690x344.jpg[/img][/color][/align][align=center][color=#000099]图2-1 仿真模型及其剖面图[/color][/align]  如图2-1所示,在热仿真建模中做了以下几方面的设计假设:  (1)对于外径840mm、长度400mm、壁厚20mm的一半真空腔体,假设水流道直接覆盖的区域长度为350mm,剩余50mm为“侧壁无水冷段”,此段上的热量完全靠不锈钢材质的导热传递给冷却液。  (2)同样,对于外径920mm、厚度20mm的腔门,假设水流道直接覆盖腔门的中心区域,此水冷区域直径为720mm,剩余宽度为100mm的实心圆环为“腔门的无水冷段”,此段上的热量完全靠不锈钢材质的导热传递给冷却液。  (3)真空腔体和腔门之间设计有一个腔门法兰,用于放置密封圈和安装腔门转动合页。此腔门法兰无任何水冷,热仿真模型设计为宽度为100mm、外径为920mm的圆环。  (4)模型中样品尺寸为直径100mm、厚度6mm的圆片,为实际最大样品尺寸的一半。为计算出样品最大辐射能力时对无水冷部件的影响程度,样品温度设置为最高温度1200℃,样品热辐射面(表面和侧面)的半球发射率设置为1,样品背面为绝热面。  (5)整个真空腔体和腔门的内壁,都涂有高发射率黑色涂料,在热模型中它们的表面发射率也都设置为1。水冷侧壁和水冷腔门温度设置为水冷温度20℃。模型中所有材质设计为304不锈钢,由于真空腔体自身温度不会处于高温状态,所以模型中不锈钢的热物理性能参数都采用常温数据。  (6)对于高温半球发射率测量装置而言,测试过程中真空腔体内部始终为0.001Pa量级的高真空,因此真空腔体内部的传热形式设定为只有辐射传热,样品上的热量只通过热辐射形式传递给侧壁、法兰和腔门。[size=18px][color=#000099]2.2. 简化模型[/color][/size]  为进一步减小网格尺寸和提高热仿真精度,将上述模型进行了简化,即去掉占用面积最大的水冷部件(水冷侧壁和水冷腔门),将于水冷侧壁和水冷腔门接触部件的接触面温度设定为20℃恒温。由此得到的简化后模型如图2-2所示,这种简化后的仿真模型只考虑高温样品对无水冷部件的辐射加热,最终得到无水冷部件在1200℃高温样品辐照下达到的最高温度。[align=center][img=高温发射率测量,690,574]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/09/202109290635418127_4767_3384_3.png!w690x574.jpg[/img][/align][color=#000099][/color][align=center]图2-2 简化后热仿真模型[/align][size=18px][color=#000099]2.3. 增加引线法兰后的模型[/color][/size]  在实际高温半球发射率测量装置中,在水冷腔门上安装有引线法兰和抽气法兰,而循环水冷直接触及这些法兰,在1200℃高温样品辐照时会使得这些法兰温度升高。为了解这些法兰在高温辐照时温度升高的最大温度,专门在上述第二种简化模型的基础上增加了两个引线法兰,如图2-3所示。同样,在此模型中,去掉了面积最大的水冷部件,但水冷接触面处同样需要设定20℃恒温。[align=center][img=高温发射率测量,690,505]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/09/202109290635531233_8765_3384_3.png!w690x505.jpg[/img][/align][color=#000099][/color][align=center]图2-3 增加引线法兰后的简化模型[/align][size=24px][color=#000099]3. 热仿真结果[/color][/size]  对于上述三种仿真模型分别进行了有限元计算。[size=18px][color=#000099]3.1. 常规模型仿真结果[/color][/size]  对于图2-1所示的第一种常规模型,采用稳态形式进行了有限元计算,有限元网格形成则采用标准网格和自动过渡形式,最终热仿真结果如图3-1所示。从图3-1所示仿真结果可以看出,水冷区域温度始终处于20℃,无水冷区域会有一定温升,温升最高处位于腔门和法兰的边缘位置,最高温度为29.5℃,即温度比水冷温度升高了近10℃。[align=center][color=#000099][img=高温发射率测量,690,533]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/09/202109290636108069_1760_3384_3.png!w690x533.jpg[/img][/color][/align][align=center][color=#000099]图3-1常规模型仿真结果[/color][/align][align=center][color=#000099][/color][/align][align=left][size=18px][color=#000099]3.2. 简化模型仿真结果[/color][/size][/align]  对于图2-2所示的第二种仿真模型,采用稳态形式进行了有限元计算,有限元网格形成则采用基于曲率的网格,最大单元大小和最小单元大小都设置为20mm,最终热仿真结果如图3-2所示。从图3-2所示仿真结果可以看出,水冷区域接触面温度始终处于20℃,无水冷区域会有一定温升,温升最高处同样位于腔门和法兰的边缘位置,最高温度为29.3℃,即温度比水冷温度升高不到10℃,与常规模型仿真结果相差0.2℃。[align=center][color=#000099][img=高温发射率测量,630,585]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/09/202109290636218021_996_3384_3.png!w630x585.jpg[/img][/color][/align][align=center][color=#000099]图3-2 简化模型仿真结果[/color][/align][size=18px][color=#000099]3.3. 增加引线法兰后的简化模型仿真结果[/color][/size]  对于图2-3所示的第三种仿真模型,采用稳态形式的有限元计算,有限元网格形成则采用基于曲率的网格,最大单元大小和最小单元大小都设置为20mm,最终热仿真结果如图3-3所示。  从图3-3所示仿真结果可以看出,水冷区域接触面温度始终处于20℃,无水冷区域会有温升。其中腔门法兰和腔门边缘处温升还是与简化模型结果一致,最高温度为29.2℃。增加引线法兰后,中心引线法兰圆心处温度最高,达到了55.5℃,温升达到了25.5℃;而底部引线法兰中心处温度最高为42.4℃,温升达到了22.4℃。由此可见,腔门上的引线法兰会给真空腔体的整体温度均匀性带来严重影响,这就要求在真空腔体法兰的设计中设法规避这种现象。[align=center][img=高温发射率测量,690,634]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/09/202109290636320070_2959_3384_3.png!w690x634.jpg[/img][/align][color=#000099][/color][align=center]图3-3 增加引线法兰后的模型仿真结果[/align][size=24px][color=#000099]4. 总结[/color][/size]  通过对高温半球发射率测量装置中真空腔体的建模,针对不同模型进行了有限元热仿真计算,得到以下结论:  (1)对于现有尺寸和结构形式的双侧开门卧式真空腔体,如果冷却循环水控制在20℃时,样品温度处于高温1200℃,腔门边缘处无水冷区域内的最高温度不会超过30℃,此10℃的温升可以忽略不计,对设备的测试和安全运行没有影响。  (2)为了保证测量装置的加工和运行的便利性,会在两个腔门上布置各种引线法兰和抽气法兰。如果这些法兰的无水冷区域为直径200mm尺寸,那么距离高温1200℃样品最近处的法兰中心温度会达到近56℃,其他位置处的法兰中心温度也会达到42℃左右,这将严重影响真空腔壁温度的整体均匀性,因此在设计和制造中必须设法解决此问题。[align=center]~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~[/align]

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    真空系统能够使离子源、质量分析器和检测器在低气压状态下工作,待测离子不会因与残存气体分子发生碰撞而散射,有利于分辨率和灵敏度的提高。常用旋片式机械泵、涡轮分子泵和钛离子泵串联组成真空系统,使离子源区气压约为10-3~10-5Pa,分析器区气压约为10-4~10-Pa,检测器区气压为10-10-2Pa以上。为防止残存有机物和反油污染离子源和分析室,在前级机械泵与涡轮分子泵接口处、离子源与分析室接口处设置液氮冷阱。亦可用旋片式机械泵和油扩散泵(加去除烃分子的捕集器)串联组成抽真空系统,并在油扩散泵与质谱仪之间加可自动控制的隔板,一旦停电隔板将自动关闭,既可防止反油污染质谱仪,又可维持质谱仪的真空在一定时间内变化不大。[b]1)油扩散泵[/b]优点:价格便宜、使用寿命长。缺点:抽速慢、耗时长,往往需要一小时以上才能达到所需要的真空要求。[b]2)涡轮分子泵[/b]优点:仅需十几分钟就可以达到所需的真空度,既无反油危险,噪声本底也小。缺点:价格昂贵、使用寿命短。[img=f90a81ec3d9887cd55167161ab7ac95.jpg]https://i2.antpedia.com/attachments/att/image/20220126/1643179791717997.jpg[/img]涡轮分子泵结构图[b]3)离子泵[/b]在排气量较小时,离子泵是最佳选择,它不但无污染,而且使用寿命长,极限真空比涡轮泵还高。要求超高真空的静态真空质谱仪都选用涡轮泵和离子泵。真空系统是影响质滤器及检测器功能的重要因素。质谱仪根据离子不同质荷比进行分离,需将离子引入某种电场和/或磁场中,利用电场和/或磁场分离离子,要求离子具有较大的平均自由程,与其他离子、背景气体分子等的碰撞概率最低。研究表明,压力为10-6Torr时可确保质滤器中扰动碰撞次数少于1

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